45度滤波片测试用治具制造技术

本实用新型专利技术提供了一种45度滤波片测试用治具，包括治具本体，所述治具本体包括水平设置的底座以及位于底座上与水平方向呈45度的斜面，所述斜面的底端具有托槽，所述斜面上设有多个贯穿所述治具本体的测试孔，多个所述测试孔与所述托槽之间的距离不全相等。本实用新型专利技术在45度斜面底部设置有托槽，能够良好地固定待测试滤波片，防止滤波片滑落造成损伤，在45度斜面上设有多个测试孔且多个测试孔与所述托槽之间的距离不全相等，从而能够对大片滤波片的多个部位进行测试，保证大片滤波片测试的精度，极大的降低了不良品流出的风险；而且多个测试孔可以适应多种规格的滤波片，对不同规格的滤波片检测时不需要更换治具，节约了成本。

【技术实现步骤摘要】
45度滤波片测试用治具
本技术涉及滤波片测试装置，尤其涉及一种45度滤波片测试用治具。
技术介绍
伴随着光通讯技术的不断发展及光网络的越来越普及，光通讯滤光片制造企业对光学滤光片的测试产能与测试效率要求越来越高，自然地，光学滤光片的自动化测试成为解决这个问题的主要技术之一。现有的45°滤光片测试台结构为：光出射端与光接收端连接成一条线的光路垂直于工作台面，在光路中安装了一个表面相对于台面倾斜45°的滤光片放置夹具，斜面的中心有一个与光路同轴的通孔，测试滤光片产品时，滤光片紧贴45°的斜面放置；光从出射端发出光后，透过光路中相对于台面倾斜45°放置的滤光片后，光通过夹具的通孔，进入光接收端将光导入光谱测试仪器进行测试分析，得到测试结果。测试45°滤光片时，要求入射光以45°角透过滤光片。现有的滤光片放置夹具的斜面底部未设置防滑装置，测试时产品容易滑落造成损伤；而且斜面上只有一个测试通孔，只测试滤光片的一个部位，因此只适用于小片的滤光片测试，而对于大片的滤光片测试，无法对滤光片的多个部位进行测试，不能满足大片滤光片的测试要求；而且现有的滤光片放置夹具只适用于一种规格的滤光片，当需要对不同规格的滤光片进行测试时，则需要更换不同的夹具，导致增加成本。因此，有必要设计一种新的45度滤波片测试用治具，以解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种45度滤波片测试用治具，旨在用于解决现有的滤波片测试用治具产品易滑落、只适用于一种规格的滤波片测试而且无法测试大片滤波片的问题。本技术是这样实现的：本技术提供一种45度滤波片测试用治具，包括治具本体，所述治具本体包括水平设置的底座以及位于底座上与水平方向呈45度的斜面，所述斜面的底端具有托槽，所述斜面上设有多个贯穿所述治具本体的测试孔，多个所述测试孔与所述托槽之间的距离不全相等。进一步地，所述测试孔包括位于斜面中部的测试孔以及位于斜面底部的测试孔。进一步地，位于斜面底部的测试孔与所述托槽的距离为2mm。进一步地，位于斜面中部的测试孔与所述托槽的距离为12mm。进一步地，位于斜面底部的测试孔具有三个且等间距设置。进一步地，位于斜面底部的相邻两个测试孔之间的距离为15mm。进一步地，所述测试孔均为直径为1mm的圆孔。进一步地，所述托槽上部呈V型，下部呈圆弧形。进一步地，所述底座上设有与所述斜面相对的一挡止凸台。进一步地，所述治具本体由不锈铁材质制成。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：本技术提供的这种45度滤波片测试用治具，在45度斜面底部设置有托槽，能够良好地固定待测试滤波片，防止滤波片滑落造成损伤，在45度斜面上设有多个测试孔且多个测试孔与所述托槽之间的距离不全相等，从而能够对大片滤波片的多个部位进行测试，保证大片滤波片测试的精度，极大的降低了不良品流出的风险；而且多个测试孔可以适应多种规格的滤波片，对不同规格的滤波片检测时不需要更换治具，节约了成本。附图说明图1为本技术实施例提供的一种45度滤波片测试用治具的立体图；图2为本技术实施例提供的一种45度滤波片测试用治具的俯视图；图3为本技术实施例提供的一种45度滤波片测试用治具的侧视图；图4为本技术实施例提供的一种45度滤波片测试用治具放置滤波片后的示意图。附图标记说明：1-底座、2-斜面、3-托槽、4-测试孔、5-挡止凸台、6-滤波片。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。如图1至图3所示，本技术实施例提供一种45度滤波片测试用治具，包括治具本体，所述治具本体包括水平设置的底座1以及位于底座1上与水平方向呈45度的斜面2，所述斜面2的底端具有托槽3，能够良好地固定待测试滤波片，防止滤波片滑落造成损伤，优选地，所述托槽上部呈V型，下部呈圆弧形，圆弧形部位可以有效地卡住滤波片底部，V型部位可以防止滤波片底部滑出圆弧形部位的托槽。所述斜面2上设有多个贯穿所述治具本体的测试孔4，测试孔4均为直径为1mm的圆孔，圆孔和激光不会有任何接触，避免了光能量的损失。多个所述测试孔4与所述托槽3之间的距离不全相等，从而能够对大片滤波片的多个部位进行测试，保证大片滤波片测试的精度，极大的降低了不良品流出的风险，而且多个测试孔可以适应多种规格的滤波片，对不同规格的滤波片检测时不需要更换治具，节约了成本。如图1和图2所示，本优选实施例中，所述测试孔4包括位于斜面中部的测试孔4以及位于斜面底部的测试孔4，当对小片滤波片进行测试时，使用斜面底部的测试孔4进行测试，可以保证滤波片底部挡止于托槽3内，当对大片滤波片进行测试时，使用斜面底部的测试孔4对大片滤波片的边缘进行测试，使用斜面中部的测试孔4对大片滤波片的中间部位进行测试，从而对大片滤波片的各个部位都进行测试，且每一项测试都能够保证滤波片底部挡止于托槽3内，保证测试的精度。为了更好地适应常用的几种滤波片的测试，位于斜面底部的测试孔4与所述托槽3的距离设置为2mm，位于斜面中部的测试孔4与所述托槽3的距离设置为12mm，位于斜面底部的测试孔4具有三个且等间距设置，且位于斜面底部的相邻两个测试孔之间的距离设置为15mm。如图1和图2所示，本优选实施例中，所述底座1呈圆盘形，能够更好地节省空间。所述底座1上设有与所述斜面2相对的一挡止凸台5，所述挡止凸台5与所述托槽3之间具有一定间隔，当滤波片滑出所述托槽3时，可以由所述挡止凸台5挡止，从而防止其进一步滑落，避免滤波片的损伤。优选地，所述治具本体由不锈铁材质制成，从而可吸附在具有磁性的测试平台上，固定简单且容易对治具的位置进行调整，操作方便。如图4所示，本技术实施例的45度滤波片测试用治具的使用步骤如下所述：（1）首先将治具平放在光谱仪带有磁性的环形平台上；（2）将准直器上端激光穿过其中一个测试孔4校准位置使激光穿过测试孔孔由下端准直器接收激光；（3）准直器对准后将滤波片6放置在治具的45度斜面上，滤波片6下端由治具底部的托槽3托住；（4）将滤波片6需要测试部位移动至治具对准准直器的测试孔4，再使用光谱仪进行数据测试，测试完毕后移动滤波片6至下一个需要测试部位，依次类推，可将滤波片整片区域全部测试完。利用本技术45度滤波片测试用治具测出的滤波片，边缘部分可得到有效的测试，可避免滤波片边缘因均匀性问题引起的光学特性不良品流出。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种45度滤波片测试用治具，包括治具本体，其特征在于：所述治具本体包括水平设置的底座以及位于底座上与水平方向呈45度的斜面，所述斜面的底端具有托槽，所述斜面上设有多个贯穿所述治具本体的测试孔，多个所述测试孔与所述托槽之间的距离不全相等。

【技术特征摘要】
1.一种45度滤波片测试用治具，包括治具本体，其特征在于：所述治具本体包括水平设置的底座以及位于底座上与水平方向呈45度的斜面，所述斜面的底端具有托槽，所述斜面上设有多个贯穿所述治具本体的测试孔，多个所述测试孔与所述托槽之间的距离不全相等。2.如权利要求1所述的45度滤波片测试用治具，其特征在于：所述测试孔包括位于斜面中部的测试孔以及位于斜面底部的测试孔。3.如权利要求2所述的45度滤波片测试用治具，其特征在于：位于斜面底部的测试孔与所述托槽的距离为2mm。4.如权利要求2所述的45度滤波片测试用治具，其特征在于：位于斜面中部的测试孔与所述托槽的距离为12mm。5.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴乾，范利康，
申请(专利权)人：武汉正源高理光学有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42