一种高精度反射式金属码盘的制作方法技术

本发明专利技术提供了一种高精度反射式金属码盘的制作方法，涉及码盘加工技术领域。本发明专利技术通过磁控溅射镀膜+光刻来实现码盘的线条精度，通过双面对准曝光显影进行码盘光刻胶外形制作及不锈钢蚀刻的方式来确保外形尺寸精度，通过以上两种工艺结合的方式制作出的金属码盘线条精度可以达到

【技术实现步骤摘要】
一种高精度反射式金属码盘的制作方法


[0001]本专利技术涉及码盘加工
，尤其涉及一种高精度反射式金属码盘的制作方法。

技术介绍

[0002]随着光电编码器应用领域的多元化，一些光电编码器应用的外部环境较为恶劣，常见的玻璃码盘和树脂码盘装配的光电编码器在这些恶劣的环境下存在性能不稳定的特点(码盘发雾、变形等)，鉴于金属的稳定特性，金属编码器码盘需求量逐步扩大，金属码盘的种类主要分为透过式金属码盘和反射式金属码盘。
[0003]金属透射式码盘常用的制作方法是通过在不锈钢表面光刻及湿法蚀刻不锈钢的方式制作出透光条纹，但该码盘的线条精度约为
±
5μm，线条精度较差，无法满足部分高精度编码器的装配要求。
[0004]金属反射式码盘常用的制作方法是在金属表面镀金属低反射膜层，然后通过对金属膜层光刻的方式制作出明暗相间的反射式码盘图案，再将成型的码盘图形根据码盘的外形进行切割产生码盘，通过该流程制作的金属码盘，线宽精度会大大提升，可做到
±
1μm，但由于码盘是通过CNC(数控机床)或者激光切割的方式本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高精度反射式金属码盘的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：通过磁控溅射在不锈钢基材表面镀制低反射膜层；在所述低反射膜层表面进行光刻，形成码盘图案，得到带有码盘图案的不锈钢基材；在所述带有码盘图案的不锈钢基材的上下表面涂覆光刻胶，干燥，然后放入双面对准曝光机中，所述双面对准曝光机的上下端各使用一张带有码盘外形的掩模版，将上下掩模版与不锈钢基材对准后进行双面曝光，然后取出进行双面显影，在不锈钢基材的上下表面形成码盘外形；对带有码盘外形的不锈钢基材进行湿法蚀刻后去除光刻胶，得到高精度反射式金属码盘。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述镀制低反射膜层前还包括：对不锈钢基材进行清洗。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述低反射膜层包括低反射铬膜。4.根据权利要求1或3所述的制作方法，其特征在于，所述低反射膜层在850nm处的反射率≤2％。5.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：沙昭，李钦洲，陶旺旺，
申请(专利权)人：武汉正源高理光学有限公司，
类型：发明
国别省市：