【技术实现步骤摘要】
基于FPGA的直写光刻图形填充方法、装置、光刻机和介质
[0001]本专利技术涉及直写式光刻机图形数据处理
，尤其是涉及一种基于FPGA的直写光刻图形填充方法、装置、光刻机和介质。
技术介绍
[0002]现有的直写光刻设备中数据链路处理过程中，在下位机对曝光图形进行填充时，一个宽为W，高为H的区域中会存在若干个图形待填充，目前FPGA中算法处理方式是通过线扫描方式依次填充单个多边形，直至区域内多边形全部填充完成。
[0003]在现有技术中，当填充区域内图形的数量比较多且规格比较小时，整体填充时间将大幅度上升，进而导致对于曝光图形的填充效率比较低，影响曝光机的产能。
技术实现思路
[0004]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的第一个目的在于提出一种基于FPGA的直写光刻图形填充方法，通过设置多个处理通道，多个处理通道能实现并行接收并处理图形的填充，提高对曝光图形的填充效率，整体缩短填充时间，提升设备产能。
[0005]本专利技术的第二个目的在于提出一种基...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于FPGA的直写光刻图形填充方法，其特征在于，包括：获取曝光图形区域数据和图形数据；根据所述曝光图形区域数据将曝光图形区域划分为N个处理通道，获取N个所述处理通道的区域数据，其中，N≥2；根据N个所述处理通道的区域数据和所述图形数据对位于所述曝光图形区域中的图形进行筛选和切割处理；同时对N个所述处理通道中的图形进行填充。2.根据权利要求1所述的FPGA的直写光刻图形填充方法，其特征在于，所述获取曝光图形区域数据和图形数据，包括：获取所述曝光图形区域的宽度数据和所述曝光图形区域的高度数据，获取位于所述曝光图形区域的图形坐标。3.根据权利要求2所述的FPGA的直写光刻图形填充方法，其特征在于，所述获取N个所述处理通道的区域数据，包括：获取N个所述处理通道的宽度数据、N个所述处理通道的高度数据以及N个所述处理通道的所在区域的边界值。4.根据权利要求3所述的FPGA的直写光刻图形填充方法，其特征在于，所述根据N个所述处理通道的区域数据和所述图形数据对位于所述曝光图形区域中的图形进行筛选和切割处理，包括：根据N个所述处理通道的区域数据和所述图形坐标，分别筛选出位于N个所述处理通道中的图形；对于任意一个图形，确定所述图形位于至少两个所述处理通道中，根据其所在的所述处理通道的区域数据对所述图形进行切割处理，或者，确定所述图形仅位于一个所述处理通道中，不处理所述图形。5.根据权利要求4所述的FPGA的直...
【专利技术属性】
技术研发人员：周安萌，王岩岩，邵德洋，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。