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本发明提供了一种高精度反射式金属码盘的制作方法，涉及码盘加工技术领域。本发明通过磁控溅射镀膜+光刻来实现码盘的线条精度，通过双面对准曝光显影进行码盘光刻胶外形制作及不锈钢蚀刻的方式来确保外形尺寸精度，通过以上两种工艺结合的方式制作出的金属码...
该专利属于武汉正源高理光学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉正源高理光学有限公司授权不得商用。

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