一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法技术

一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法属于薄膜材料制造领域。本发明专利技术以金属闭合环形带为阴极，该阴极采取立式的安装方式，使其侧面与镀槽底面呈垂直关系，并采用双向电沉积的形式进行镀膜，镀膜过程中环形阴极完全浸没在镀液中。本发明专利技术有效解决了环形阴极内侧的沉积问题，同时解决了析氢累积对金属薄膜质量的影响，实现了高效率连续制备金属薄膜的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法
本专利技术属于薄膜材料制造领域，尤其涉及一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法。
技术介绍
随着电子信息产业的飞速发展，具有特殊性能的金属薄膜在电子工程及微器件等领域得到了广泛的应用。金属薄膜的制备方法有很多，如轧制、喷射法、双辊超急冷却法、电沉积法等。相比于其他方法，采用电沉积法制备金属薄膜具有独特的优势，其优点在于：晶粒细小，可达到纳米级别；厚度、成分均匀可控；设备简单，操作方便；经济效益高。然而目前电沉积法也存在较大的不足，主要表现为镀液析氢在阴极容易累积，影响产品整体质量；电沉积法制备金属薄膜的效率低下，生产成本高昂,不能满足大规模的工业化生产。中国专利CN100564606C介绍了一种电沉积制备金属薄膜的方法，然而该方法存在诸多缺陷，电沉积效率较低，整个电镀过程中，阴极带只有浸入镀液的底面能实现电沉积，两侧及上部都未能有效利用；同时阴极带底端为水平面，阴极析氢在底面会逐渐累积，容易产生氢脆、起泡等问题，影响镀膜质量；并且在阴极内侧采用的绝缘处理长时间在电镀环境中容易破损脱落，进而影响镀层剥离的完整性，阴极电连接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法，应用如下装置，该装置包括电镀槽；集液槽；阴极传动系统；镀液循环过滤系统；电源和张力收卷控制系统；其特征在于，采用的阴极为闭合的环形金属带，该阴极的安装方式为立式安装，即环形带的侧面与镀槽的底面呈垂直状态；该环形阴极完全浸入在镀液中。

【技术特征摘要】
1.一种等电位立式全浸没阴极高效连续制备金属薄膜的方法，应用如下装置，该装置包括电镀槽；集液槽；阴极传动系统；镀液循环过滤系统；电源和张力收卷控制系统；其特征在于，采用的阴极为闭合的环形金属带，该阴极的安装方式为立式安装，即环形带的侧面与镀槽的底面呈垂直状态；该环形阴极完全浸入在镀液中。2.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：王群，周东伟，陈志强，
申请(专利权)人：北京工业大学，
类型：发明
国别省市：北京,11