The invention provides a hole filling line for vertical continuous plating PCB processing board, including a plurality of lines arranged in parallel, which is characterized in that each line are orderly comprises a feeding mechanism, a pre treating device, loading device, forward electroplating pretreatment device, several levels of copper cylinder, after shifting device and postprocessing device and a stripping device, feeding and feeding mechanism is connected with the automatic plate device, automatic feeding end plate device with a plate on the conveyor belt, postprocessing device of the discharge end is sequentially connected with a central positioning machine, angle machine, dry machine and automatic level receiving machine. The invention provides a vertical continuous plating hole filling line, coating thickness which are located in the high density circuit board blind hole, buried hole filled hole uniformity, deep plating ability, hole filling ability and good adhesion, beautiful appearance and good hole wall coating and surface coating thickness, operation and maintenance more convenient, compact structure, less occupied space, less gas, more environmentally friendly.
【技术实现步骤摘要】
一种垂直连续电镀填孔线
本专利技术涉及线路板的电镀技术,尤其是一种应用于高密度线路板/积层多层板的垂直连续电镀填孔线。
技术介绍
在高密度互连板的电镀中,为实现高密度化的要求,随着板的层数不断增加,孔的不断缩小,孔的厚径比也在增大。目前,这些微孔已经普遍小于0.15mm,乃至小于30~50μm,对于这样微小且高厚径比的孔中进行电镀,与常规印制电路板的孔电镀有较大的区别。当不通孔的孔深度深或厚径比大时,如采用水平式电镀,位于高密度互连板下表面的不通孔因难于赶走孔内气体,镀液很难进入孔内,因此现有水平式电镀技术存在的问题为:填孔外观不均匀、细致,有麻点和针孔,镀层厚度不均匀,孔壁镀层的厚度与板面镀层厚度相差太大,并产生镀层与基体结合不牢固等不良现象。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题,本专利技术提供一种垂直连续电镀填孔线,其应用于高密度互连板(HDI)/积层多层板(BUM)的填孔电镀中,具有良好的电镀分布、灌孔和填孔能力,并能获得稳定的电镀质量。本专利技术的技术方案为:一种垂直连续电镀填孔线,包括并列设置的若干条分线,其特征在于:每条分线均包括依次连接的送料机构、前处理装置、前移载装置、电镀预处理装置、若干级电镀铜缸、后移载装置、后处理装置和退镀装置。所述的前处理装置包括入料机构、除油机构和分级前处理机构,所述的入料机构包括导柱A和导轨A,所述的导轨A由动力机构驱动能在导柱A上进行升降,除油机构包括导柱B、导轨B、拨块安装架组件一,所述的导轨B下方设有除油槽,拨块安装架组件一安装在导柱B上,在拨块安装架组件一中,拨块安装架一能在推移马达驱动下横向运动,拨块安装 ...
【技术保护点】
一种垂直连续电镀填孔线,包括并列设置的若干条分线,其特征在于:每条分线均包括依次连接的送料机构、前处理装置、前移载装置、电镀预处理装置、若干级电镀铜缸、后移载装置、后处理装置和退镀装置。
【技术特征摘要】
1.一种垂直连续电镀填孔线,包括并列设置的若干条分线,其特征在于:每条分线均包括依次连接的送料机构、前处理装置、前移载装置、电镀预处理装置、若干级电镀铜缸、后移载装置、后处理装置和退镀装置。2.根据权利要求1所述的垂直连续电镀填孔线,其特征在于:所述的前处理装置包括入料机构、除油机构和分级前处理机构,所述的入料机构包括导柱A和导轨A,所述的导轨A由动力机构驱动能在导柱A上进行升降,除油机构包括导柱B、导轨B、拨块安装架组件一,所述的导轨B下方设有除油槽,分级前处理机构包括前处理支撑架、立柱、导轨C、拨块安装架组件二,所述的导轨C下方自右向左依次设置有若干级处理槽,导轨C由动力机构驱动能沿立柱上下升降。3.根据权利要求2所述的垂直连续电镀填孔线,其特征在于:所述的分级前处理机构中,立柱分为立柱一和立柱二,立柱一上安装有滑架组件一,立柱二上安装有滑架组件二,滑架组件一和滑架组件二之间固定有吊臂,前处理支撑架上安装有升降马达和链轮,吊臂上安装有链轮和导轨C,链条穿过各个链轮并由升降马达驱动而实现吊臂及导轨C的上下运动。4.根据权利要求1所述的垂直连续电镀填孔线,其特征在于:所述的前移载装置包括移载支撑架、移载导轨和若干个移载机构,所述的移载导轨位于移载支撑架上,移载机构包括基座、安装在基座上的导柱D、驱动基座和导柱D沿移载导轨运动的横移电机、安装在导柱D上的台车和导轨D、驱动台车和导轨D上下运动的升降电机。5.根据权利要求1所述的垂直连续电镀填孔线,其特征在于:所述的电镀预处理装置包括分级预处理机构,分级预处理机构包括预处理支撑架、导柱E、导轨E、拨块安装架组件三,所述的导轨E下方自左向右依次设置有若干级处理槽,导轨E由动力机构驱动能沿导柱E上下升降。6.根据权利要求1所述的垂直连续电镀填孔线,其特征在于:所述的分线中,各级电镀铜缸上方均安装有电镀铜缸送板装置,电镀铜缸送板装置包括传送支撑架和安装在传送支撑架上的带电导轨、动力机构、输送链轮、输送链条,所述的动力机构驱动输送链条使得挂具沿输送链条和带电导轨进行同步传送,各级电镀铜缸上均设有喷流机构和整流机构,整流机构包括整流机和与整流机连接的阳极组件,整流机与带电导轨连接并使得带电导轨上的挂具导电,喷流机构包括喷管和设置在喷管上的混流喷咀,喷流机构通过喷流管路与外部的电镀铜缸主槽和电镀铜缸副槽连通,电镀铜缸主槽上设有铜粉添加机,喷流管路上...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓志坚,彭云,韦万礼,
申请(专利权)人:东莞市希锐自动化科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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