一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统技术方案

用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，包括真空传输装置、沿真空传输装置的传输方向依次布置的上料操作台、第一上料室、第一镀膜装置、第二上料室、第二镀膜装置、第三上料室、第三镀膜装置和下料室，下料室与上料操作台之间设有下料回框装置，第一上料室一侧与上料操作台之间设有隔离阀，另一侧与第一镀膜装置之间设有隔离阀，第二上料室一侧与第一镀膜装置之间设有隔离阀，另一侧与第二镀膜装置之间设有隔离阀，第三上料室一侧与第二镀膜装置之间设有隔离阀，另一侧与第三镀膜装置之间设有隔离阀，下料室一侧与第三镀膜装置之间设有隔离阀，另一侧与下料回框装置之间设有隔离阀。本发明专利技术具有模块化程度高、避免人工干扰和外部环境污染、产品质量好等优点。

A chain PECVD coating system for PERC batteries

For the chain PECVD coating system of PERC battery, including the transmission direction of the vacuum transmission device, the vacuum transmission device are arranged on the operating platform, the first material feeding chamber, the first device, second chamber, second coating device, third chamber, third coating device and discharging chamber, feeding back to the box device is arranged between the feeding chamber and the feeding operation, isolation valve is arranged between the first feeding on the side of the room and feeding operation, isolation valve is arranged between the other side and the first coating device, second feeding isolation valve is arranged between the side of the room with the first device, the isolation valve is arranged between the other side and the second coating device, third the feeding isolation valve is arranged between the side of the room and the second coating device, the isolation valve is arranged between the other side and the third coating device, the isolation valve is arranged between the discharging chamber side and the third coating device, An isolating valve is arranged between the other side and the material dropping back frame device. The invention has the advantages of high modularization, avoiding manual interference and external environment pollution, good product quality, etc..

【技术实现步骤摘要】
一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统
本专利技术涉及光伏领域用于制备高效PERC电池的工艺设备，尤其涉及一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统。
技术介绍
降低制造成本、提高电池转换效率是光伏行业始终不变的发展主题，光伏发电平价上网是其成为常规供给能源、摆脱依靠政策补贴的唯一出路。PERC电池以其与传统晶硅电池生产线良好的兼容性、显著的效率增益在行业内得到广泛普及，市场比例持续增加，预计在未来五至十年内将会成为主导地位。在经过2012年至2015年的研究和市场应用，ALD、APCVD等方法由于无法产业化生产逐步退出规模化市场，仅数家科研机构在做探索性研究。目前PECVD方法以其产能高、成膜均匀、自动化程度高、成本低等优势成为行业内的主流发展方向，因此用于PERC电池镀膜的链式PECVD设备是光伏行业急需产业化的工艺设备。目前光伏产业受政策影响极大，市场需求经常出现井喷式增长和断崖式衰落，传统生产线由于自动化程度低，所需操作人员数量多，对操作人员的熟练程度依赖较高，经常出现旺季时满负荷生产也供不应求，人员过度劳累；淡季时大量人员闲置，人力资源严重浪费，变相增加个企业用工成本。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种模块化程度高、避免人工干扰和外部环境污染、产品质量好的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统。为解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，包括真空传输装置、沿真空传输装置的传输方向依次布置的上料操作台、第一上料室、用于在硅片背面沉积氧化铝膜层的第一镀膜装置、第二上料室、用于在硅片背面沉积氮化硅膜层的第二镀膜装置、第三上料室、用于在硅片正面沉积氮化硅膜层的第三镀膜装置和下料室，所述下料室与所述上料操作台之间设有下料回框装置，所述第一上料室一侧与上料操作台之间设有隔离阀，第一上料室另一侧与第一镀膜装置之间设有隔离阀，所述第二上料室一侧与第一镀膜装置之间设有隔离阀，第二上料室另一侧与第二镀膜装置之间设有隔离阀，所述第三上料室一侧与第二镀膜装置之间设有隔离阀，第三上料室另一侧与第三镀膜装置之间设有隔离阀，所述下料室一侧与所述第三镀膜装置之间设有隔离阀，下料室另一侧与所述下料回框装置之间设有隔离阀。作为上述技术方案的进一步改进：所述第一镀膜装置包括沿真空传输装置的传输方向依次连通的第一预热室、第一镀膜室以及第一冷却室，所述第二镀膜装置包括沿真空传输装置的传输方向依次连通的第二预热室、第二镀膜室以及第二冷却室，所述第三镀膜装置包括沿真空传输装置的传输方向依次连通的第三预热室、第三镀膜室以及第三冷却室，所述第一上料室、第二上料室、第三上料室和下料室均配备了第一真空组件和电控柜，所述第一镀膜装置、第二镀膜装置和第三镀膜装置均配备了电控柜、第二真空组件和气路水路组件。所述第一真空组件、电控柜、第二真空组件和气路水路组件均位于所述真空传输装置同一侧，所述第一镀膜装置的电控柜位于第一镀膜装置的气路水路组件与真空传输装置之间；所述第二镀膜装置的电控柜位于第二镀膜装置的气路水路组件与真空传输装置之间；所述第三镀膜装置的电控柜位于第三镀膜装置的气路水路组件与真空传输装置之间。所述第一真空组件的抽气速度大于所述第二真空组件的抽气速度。当打开第一上料室与上料操作台之间的隔离阀时，第一上料室内的压力比大气压力高50Pa以上；当打开下料室与下料回框装置之间的隔离阀时，下料室内的压力比大气压力高50Pa以上。当打开第一上料室与第一镀膜装置之间的隔离阀时，第一上料室内的压力比第一镀膜装置内的压力大50Pa～200Pa；当打开第二上料室与第一镀膜装置之间的隔离阀时，第二上料室内的压力比第一镀膜装置内的压力大50Pa～200Pa，当打开第二上料室与第二镀膜装置之间的隔离阀时，第二上料室内的压力比第二镀膜装置内的压力大50Pa～200Pa；当打开第三上料室与第二镀膜装置之间的隔离阀时，第三上料室内的压力比第二镀膜装置内的压力大50Pa～200Pa，当打开第三上料室与第三镀膜装置之间的隔离阀时，第三上料室内的压力比第三镀膜装置内的压力大50Pa～200Pa；当打开下料室与第三镀膜装置之间的隔离阀时，下料室内的压力比第三镀膜装置内的压力大50Pa～200Pa。所述隔离阀为门闸阀。所述真空传输装置包括用来承载硅片的载板及用来传送载板的多根传动轴，多根传动轴平行布置，所述第一镀膜装置、第二镀膜装置和第三镀膜装置均于传动轴上侧设有用来在硅片正面沉积膜层的上激励源安装部，所述第一镀膜装置、第二镀膜装置和第三镀膜装置均于传动轴下侧设有用来在硅片背面沉积膜层的下激励源安装部，所述上激励源安装部和所述下激励源安装部相对布置。所述第一镀膜装置、第二镀膜装置和第三镀膜装置上均设有用来观察所述上激励源安装部和所述下激励源安装部的观察窗。与现有技术相比，本专利技术的优点在于：本专利技术公开的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统设置有真空传输装置，并沿真空传输装置的传输方向依次设置上料操作台、第一上料室、用于在硅片背面沉积氧化铝膜层的第一镀膜装置、第二上料室、用于在硅片背面沉积氮化硅膜层的第二镀膜装置、第三上料室、用于在硅片正面沉积氮化硅膜层的第三镀膜装置和下料室，且下料室与上料操作台之间设有下料回框装置，镀膜系统各部件之间，以及第一上料室、下料室与大气之间通过隔离阀实现通断，模块化程度高，结构紧凑、占地面积少，大大减少了上下料操作人员，硅片依次在第一镀膜装置、第二镀膜装置和第三镀膜装置内完成镀膜，然后经下料回框装置传输至上料操作台卸料，避免传输过程中硅片暴露在大气中，从而避免了外部传输带来的人工干扰和外部环境污染，保证了产品质量。附图说明图1是本专利技术用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统的结构示意图。图2是本专利技术中的真空传输装置的结构示意图。图3是本专利技术用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统的工艺流程示意图。图4是本专利技术中的载板的工序流程示意图。图中各标号表示：1、真空传输装置；11、载板；12、传动轴；2、上料操作台；3、第一上料室；4、第一镀膜装置；41、第一预热室；42、第一镀膜室；43、第一冷却室；5、第二上料室；6、第二镀膜装置；61、第二预热室；62、第二镀膜室；63、第二冷却室；7、第三上料室；8、第三镀膜装置；81、第三预热室；82、第三镀膜室；83、第三冷却室；9、下料室；10、下料回框装置；100、隔离阀；200、第一真空组件；300、电控柜；400、第二真空组件；500、气路水路组件；600、上激励源安装部；700、下激励源安装部；800、观察窗；900、控制系统。具体实施方式以下将结合说明书附图和具体实施例对本专利技术做进一步详细说明。如图1至图4所示，本实施例的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，包括真空传输装置1、沿真空传输装置1的传输方向依次布置的上料操作台2、第一上料室3、用于在硅片背面沉积氧化铝膜层的第一镀膜装置4、第二上料室5、用于在硅片背面沉积氮化硅膜层的第二镀膜装置6、第三上料室7、用于在硅片正面沉积氮化硅膜层的第三镀膜装置8和下料室9，下料室9与上料操作台2之间设有下料回框装置10，第一上料室3一侧与上料操作台2之间设有隔离阀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：包括真空传输装置(1)、沿真空传输装置(1)的传输方向依次布置的上料操作台(2)、第一上料室(3)、用于在硅片背面沉积氧化铝膜层的第一镀膜装置(4)、第二上料室(5)、用于在硅片背面沉积氮化硅膜层的第二镀膜装置(6)、第三上料室(7)、用于在硅片正面沉积氮化硅膜层的第三镀膜装置(8)和下料室(9)，所述下料室(9)与所述上料操作台(2)之间设有下料回框装置(10)，所述第一上料室(3)一侧与上料操作台(2)之间设有隔离阀(100)，第一上料室(3)另一侧与第一镀膜装置(4)之间设有隔离阀(100)，所述第二上料室(5)一侧与第一镀膜装置(4)之间设有隔离阀(100)，第二上料室(5)另一侧与第二镀膜装置(6)之间设有隔离阀(100)，所述第三上料室(7)一侧与第二镀膜装置(6)之间设有隔离阀(100)，第三上料室(7)另一侧与第三镀膜装置(8)之间设有隔离阀(100)，所述下料室(9)一侧与所述第三镀膜装置(8)之间设有隔离阀(100)，下料室(9)另一侧与所述下料回框装置(10)之间设有隔离阀(100)。

【技术特征摘要】
1.一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：包括真空传输装置(1)、沿真空传输装置(1)的传输方向依次布置的上料操作台(2)、第一上料室(3)、用于在硅片背面沉积氧化铝膜层的第一镀膜装置(4)、第二上料室(5)、用于在硅片背面沉积氮化硅膜层的第二镀膜装置(6)、第三上料室(7)、用于在硅片正面沉积氮化硅膜层的第三镀膜装置(8)和下料室(9)，所述下料室(9)与所述上料操作台(2)之间设有下料回框装置(10)，所述第一上料室(3)一侧与上料操作台(2)之间设有隔离阀(100)，第一上料室(3)另一侧与第一镀膜装置(4)之间设有隔离阀(100)，所述第二上料室(5)一侧与第一镀膜装置(4)之间设有隔离阀(100)，第二上料室(5)另一侧与第二镀膜装置(6)之间设有隔离阀(100)，所述第三上料室(7)一侧与第二镀膜装置(6)之间设有隔离阀(100)，第三上料室(7)另一侧与第三镀膜装置(8)之间设有隔离阀(100)，所述下料室(9)一侧与所述第三镀膜装置(8)之间设有隔离阀(100)，下料室(9)另一侧与所述下料回框装置(10)之间设有隔离阀(100)。2.根据权利要求1所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述第一镀膜装置(4)包括沿真空传输装置(1)的传输方向依次连通的第一预热室(41)、第一镀膜室(42)以及第一冷却室(43)，所述第二镀膜装置(6)包括沿真空传输装置(1)的传输方向依次连通的第二预热室(61)、第二镀膜室(62)以及第二冷却室(63)，所述第三镀膜装置(8)包括沿真空传输装置(1)的传输方向依次连通的第三预热室(81)、第三镀膜室(82)以及第三冷却室(83)，所述第一上料室(3)、第二上料室(5)、第三上料室(7)和下料室(9)均配备了第一真空组件(200)和电控柜(300)，所述第一镀膜装置(4)、第二镀膜装置(6)和第三镀膜装置(8)均配备了电控柜(300)、第二真空组件(400)和气路水路组件(500)。3.根据权利要求2所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述第一真空组件(200)、电控柜(300)、第二真空组件(400)和气路水路组件(500)均位于所述真空传输装置(1)同一侧，所述第一镀膜装置(4)的电控柜(300)位于第一镀膜装置(4)的气路水路组件(500)与真空传输装置(1)之间；所述第二镀膜装置(6)的电控柜(300)位于第二镀膜装置(6)的气路水路组件(500)与真空传输装置(1)之间；所述第三镀膜装置(8)的电控柜(300)位于第三镀膜装置(8)的气路水路组件(500)与真空传输装置(1)之间。4.根据权利要求2所述的用...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘良玉，苏卫中，禹庆荣，谢利华，陈国钦，彭宜昌，唐电，舒庆予，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所，
类型：发明
国别省市：湖南,43