杀真菌的三唑并嘧啶、其制备方法、其在防治有害真菌中的用途和包含所述物质的试剂技术

本发明专利技术涉及式（Ⅰ）的三唑并嘧啶，其中各取代基定义如下：Ｌ↑［１］代表氰基、Ｓ（＝Ｏ）↓［ｎ］Ａ↑［１］或Ｃ（＝Ｏ）Ａ↑［２］，其中Ａ↑［１］代表氢、羟基、烷基、烷基氨基或二烷基氨基；Ａ↑［２］代表Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基或在Ａ↑［１］下所提到的基团之一；ｎ代表０、１或２；Ｌ↑［２］、Ｌ↑［３］代表氢或卤素；Ｌ↑［４］、Ｌ↑［５］代表氢、卤素或烷基；Ｘ代表卤素、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基或卤代烷氧基；Ｒ↑［１］代表烷基、卤代烷基、环烷基、卤代环烷基、链烯基、链二烯基、卤代链烯基、环烯基、炔基、卤代炔基或环炔基、苯基、萘基或包含１－４个选自Ｏ、Ｎ或Ｓ的杂原子的５－１０元饱和、部分不饱和或芳族杂环；Ｒ↑［２］代表氢或Ｒ↑［１］；Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］也可与它们所键合的氮原子一起形成可以被选自Ｏ、Ｎ和Ｓ的原子间隔和／或可以被取代的５－或６－元环；其中Ｒ↑［１］和／或Ｒ↑［２］可以根据说明书被取代。本发明专利技术还涉及用于制备所述化合物的方法和中间产物，包含所述化合物的组合物以及所述化合物在防治有害真菌中的用途。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及式I的三唑并嘧啶 其中各取代基具有下列含义L1为氰基、S(＝O)nA1或C(＝O)A2，其中A1为氢、羟基、C1-C8烷基、C1-C8烷基氨基或二(C1-C8烷基)氨基；A2为C1-C8烷氧基、C1-C6卤代烷氧基或在A1下所提到的基团之一；n为0、1或2；L2、L3为氢或卤素；L4、L5为氢、卤素或C1-C4烷基；X为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基或C1-C2卤代烷氧基；R1为C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C2-C8链烯基、C4-C10链二烯基、C2-C8卤代链烯基、C3-C6环烯基、C2-C8炔基、C2-C8卤代炔基或C3-C6环炔基、苯基、萘基或包含1-4个选自O、N和S的杂原子的5-10元饱和、部分不饱和或芳族杂环；R2为氢或在R1下所提到的基团之一；R1和R2也可与它们所键合的氮原子一起形成可以被选自O、N和S的原子间隔和/或可以带有一个或多个选自卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基和氧基-C1-C3亚烷氧基的取代基或其中N和相邻C原子可以经由C1-C4亚烷基链连接的5-或6-元环；其中R1和/或R2可以被1-4个相同或不同的基团Ra取代Ra为卤素、氰基、硝基、羟基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基羰基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基氨基、二(C1-C6烷基)氨基、C2-C6链烯基、C2-C6链烯氧基、C3-C6炔氧基、C3-C6环烷基、苯基、萘基或包含1-4个选自O、N和S的杂原子的5-10元饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中这些脂族、脂环族或芳族基团本身可以被部分或全部卤代或可以带有1-3个基团RbRb为卤素、氰基、硝基、羟基、巯基、氨基、羧基、氨基羰基、氨基硫代羰基、烷基、卤代烷基、链烯基、链烯氧基、炔氧基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、烷基氨基、二烷基氨基、甲酰基、烷基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基、烷基氨基羰基、二烷基氨基羰基、烷基氨基硫代羰基或二烷基氨基硫代羰基，其中这些基团中的烷基包含1-6个碳原子且在这些基团中提到的链烯基或炔基包含2-8个碳原子；和/或1-3个下列基团环烷基、环烷氧基、杂环基或杂环氧基，其中环状体系包含3-10个环成员；芳基、芳氧基、芳硫基、芳基-C1-C6烷氧基、芳基-C1-C6烷基、杂芳基、杂芳氧基或杂芳硫基，其中芳基优选包含6-10个环成员且杂芳基包含5或6个环成员，其中环状体系可以被部分或全部卤代或可以被烷基或卤代烷基取代。本专利技术此外还涉及用于制备这些化合物的方法和中间体、包含它们的组合物及其在防治有害真菌中的应用。由EP-A 71 792、EP-A 550 113、WO-A 98/46608和WO-A 99/41255已知用于防治有害真菌的5-氯三唑并嘧啶。杀真菌有效的具有6-苯基特殊取代的三唑并嘧啶由EP-A 834 513、WO 98/46607、EP-A 945 453、WO 99/48893、US 5 985 883和WO 02/46195已知。然而，在许多情况下，尤其是在施用量低时，它们的作用并不总是令人满意。本专利技术的目的是提供具有改进的作用和/或拓宽的活性谱的化合物。我们发现该目的通过开头所定义的化合物实现。还发现了用于制备它们的方法和中间体、包含它们的组合物以及使用化合物I防治有害真菌的方法。式I化合物与上述文献的区别在于在对位带有基团L1的6-苯基的取代和7-氨基的取代。与已知化合物相比，式I化合物对有害真菌具有增加的活性。本专利技术化合物可以多种方式得到。它们有利地通过使式II的5-氨基三唑与合适取代的式III的苯基丙二酸酯反应而制备，其中R为烷基、优选C1-C6烷基、尤其是甲基或乙基。 该反应通常在80-250℃，优选120-180℃的温度下在无溶剂存在下或在惰性有机溶剂中在碱存在下进行或在乙酸存在下在由Adv.Het.Chem.(杂环化学进展)，第57卷，第81及以下各页(1993)已知的条件下进行。合适的溶剂是脂族烃类，芳族烃类如甲苯或邻-、间-和对二甲苯，卤代烃类，醚类，腈类，酮类，醇类，N-甲基吡咯烷酮，二甲亚砜，二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺。在特别优选的方式中，该反应在无溶剂存在下或在氯苯、二甲苯、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮中进行。也可以使用所提到的溶剂的混合物。合适的碱通常为无机化合物，如碱金属和碱土金属氢氧化物、碱金属和碱土金属氧化物、碱金属和碱土金属氢化物、碱金属氨化物、碱金属和碱土金属碳酸盐、碱金属碳酸氢盐或有机金属化合物，尤其是碱金属烷基化物、烷基卤化镁以及碱金属和碱土金属醇盐和二甲醇镁，以及有机碱，例如叔胺类，如三甲胺、三乙胺、三异丙基乙基胺、三丁胺、N-甲基哌啶和N-甲基吗啉、吡啶、取代吡啶如可力丁、卢剔啶和4-二甲氨基吡啶，以及双环胺类。尤其优选叔胺类，如三异丙基乙基胺、三丁胺、N-甲基吗啉或N-甲基哌啶。碱通常以催化量使用。然而，它们也可以以等摩尔量、过量使用或可能的话用作溶剂。原料通常以等摩尔量相互反应。可能对产率有利的是相对于三唑过量使用碱和丙二酸酯III。式III的苯基丙二酸酯有利的是由合适取代的溴苯与丙二酸二烷基酯在Cu(I)催化下反应而得到。在由WO-A 94/20501已知的条件下将式IV的二羟基三唑并嘧啶转化成式V的二卤代嘧啶。有利的是任选在溶剂存在下将氯化试剂或溴化试剂如磷酰溴或磷酰氯用作卤化试剂。 该反应通常在0-150℃，优选80-125℃下进行。使式V的二卤代嘧啶进一步与式VI的胺反应 其中R1和R2如在式I中所定义，得到其中X为卤素的式I化合物。该反应有利地在0-70℃，优选10-35℃下，优选在惰性溶剂如醚类，例如二噁烷、乙醚或尤其是四氢呋喃，卤代烃如二氯甲烷以及芳族烃如甲苯中进行。优选使用碱如叔胺，例如三乙胺，或无机胺，如碳酸钾；此外，可以将过量式VI的胺用作碱。其中X代表氰基、C1-C6烷氧基或C1-C2卤代烷氧基的式I化合物可以有利地由其中X代表卤素，优选氯的化合物I与化合物M-X’(式VII)反应得到。化合物VII取决于待引入的基团X’的含义而代表无机氰化物、醇盐或卤代醇盐。该反应有利地在惰性溶剂存在下进行。式VII中的阳离子M并不重要；由于实践上的原因，通常优选铵、四烷基铵、碱金属或碱土金属盐。I(X＝卤素)+M-X′—→I(X＝X′)VII该反应温度通常为0-120℃，优选10-40℃。合适的溶剂包括醚类，如二噁烷、乙醚但优选四氢呋喃，卤代烃类如二氯甲烷以及芳族烃类如甲苯。其中X为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基的式I化合物可以有利地通过下列合成途径得到 5-烷基-7-羟基-6-苯基三唑并嘧啶IVa由酮酯IIIa得到。5-甲基-7-羟基-6-苯基三唑并嘧啶通过使用易于得到的2-苯基乙酰乙酸酯(IIIa，X1＝CH3)得到。起始化合物IIIa的制备有利地在EP-A 10 02 788中所述的条件下进行。使以此方式得到的5-烷基-7-羟基-6-苯基三唑并嘧啶与卤化试剂反应，得到式Va的7-卤代三唑并嘧啶。优选使用氯化试剂或溴化试剂，如本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ的三唑并嘧啶：＊＊＊Ⅰ其中各取代基具有下列含义：Ｌ↑［１］为氰基、Ｓ（＝Ｏ）↓［ｎ］Ａ↑［１］或Ｃ（＝Ｏ）Ａ↑［２］，其中Ａ↑［１］为氢、羟基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基氨 基或二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基）氨基；Ａ↑［２］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基或在Ａ↑［１］下所提到的基团之一；ｎ为０、１或２；Ｌ↑［２］、Ｌ↑［３］为氢或卤素；Ｌ↑［４ ］、Ｌ↑［５］为氢、卤素或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基；Ｘ为卤素、氰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤代烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］卤代烷氧基；Ｒ↑［１］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［ ８］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］卤代烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］卤代环烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］链烯基、Ｃ↓［４］－Ｃ↓［１０］链二烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］卤代链烯基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］炔基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］卤代炔基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环炔基、苯基、萘基或包含１－４个选自Ｏ、Ｎ和Ｓ的杂原子的５－１０元饱和、部分不饱和或芳族杂环；Ｒ↑［２］为氢或在Ｒ↑［１］下所提到的基团之一；Ｒ↑［ １］和Ｒ↑［２］也可与它们所键合的氮原子一起形成可以被选自Ｏ、Ｎ和Ｓ的原子间隔和／或可以带有一个或多个选自卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基和氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］亚烷氧基的取代基或其中Ｎ和相邻Ｃ原子可以经由Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］亚烷基链连接的５－或６－元环；其中Ｒ↑［１］和／或Ｒ↑［２］可以被１－４个相同或不同的基团Ｒ↑［ａ］取代：Ｒ↑［ａ］为卤素、氰基、硝基、羟基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷 基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基羰基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基羰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基氨基、二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）氨基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］链烯氧基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］炔氧基、Ｃ↓［３］...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：J托尔莫艾布拉斯科，C布莱特纳，B穆勒，M格韦尔，W格拉门奥斯，T格罗特，A吉普瑟，J莱茵海默，P舍费尔，F席韦克，A施沃格勒尔，E安莫曼，S斯特瑞斯曼，G洛伦兹，R施蒂尔勒，U舍夫尔，
申请(专利权)人：J托尔莫艾布拉斯科，C布莱特纳，B穆勒，M格韦尔，W格拉门奥斯，T格罗特，A吉普瑟，J莱茵海默，P舍费尔，F席韦克，A施沃格勒尔，E安莫曼，S斯特瑞斯曼，G洛伦兹，R施蒂尔勒，U舍夫尔，
类型：发明
国别省市：DE[德国]