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一种培养皿制造技术

技术编号:15158410 阅读:73 留言:0更新日期:2017-04-12 02:01
本实用新型专利技术公开了一种培养皿。该培养皿包括皿盖和皿体,皿体包括底面、内壁和外壁,内壁和外壁在底面上的投影为两个同心圆,内壁比外壁低;皿盖的直径小于皿体的直径且大于内壁的直径;在内壁和外壁之间的底面上设置有密封圈;皿体的底面的外表面上设置有若干防滑单元,防滑单元包括两个相交的防滑凸起,两个防滑凸起之间的夹角在30-150°。本实用新型专利技术的培养皿密封性好,可堆叠。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种培养皿
技术介绍
培养皿是实验室进行细胞培养使用最多的一种培养工具。传统的培养皿是由圆形的皿盖和皿体组成。皿盖的直径大于皿体的直径。在使用时,将皿盖盖于皿体上,然后用密封条将其密封。然而,由于培养皿盖与皿体之间的密封性不好,需要使用大量密封条将其密封,以防止污染。此外,在培养箱内进行培养时,为了节省空间,培养皿需要堆叠在一起,在取放的时候,容易造成堆叠的培养皿散落,使用不安全。
技术实现思路
本技术提供了一种培养皿。本技术的培养皿,包括皿盖和皿体,其中所述皿体包括底面、内壁和外壁,所述内壁和所述外壁在底面上的投影为两个同心圆,所述内壁比所述外壁低;所述皿盖的直径小于所述皿体的直径且大于所述内壁的直径;在所述内壁和所述外壁之间的底面上设置有可拆卸的密封圈;所述皿体的底面的外表面上设置有若干防滑单元,所述的防滑单元包括两个相交的防滑凸起,两个所述的防滑凸起之间的夹角在30-150°。其中,所述内壁的高度为4mm-6mm。所述内壁和所述外壁之间的间隙不大于2mm且足够搁置皿盖的侧壁。所述的防滑凸起的高度为0.1-0.5mm。所述皿盖的外表面为粗糙表面。本技术的培养皿为密封型,可堆叠的培养皿。附图说明图1为本技术的培养皿的示意图。图2为本技术的培养皿的纵切示意图。图3为本技术的皿体底面的外表面的示意图。具体实施方式本技术的培养皿如图1-3所示,包括皿盖2和皿体,其中皿体包括底面、内壁4和外壁1,内壁4和外壁1在底面上的投影为两个同心圆,内壁4比外壁1低;内壁的高度为4mm-6mm,例如5mm。皿盖2的直径小于皿体的直径且大于内壁4的直径;内壁和外壁之间的间隙不大于2mm且足够搁置皿盖的侧壁,例如为1mm。在内壁4和外壁1之间的底面上设置有密封圈3;密封圈3可以增加皿盖2和皿体之间的密封性。再通过密封条简单的密封就可以防止培养皿在培养过程中的污染。为了在培养箱内堆叠,皿体底面的外表面上设有若干防滑单元5,防滑单元包括两个相交的防滑凸起,两个防滑凸起之间的夹角在30-150°,例如90°;防滑凸起的横截面为梯形;防滑凸起的高度为0.1-0.5mm,例如0.1mm。这样,当堆叠时,一个培养皿的防滑凸起与位于其下面的培养皿的皿盖外表面接触,由于防滑凸起的存在,两个培养皿之间的摩擦增大,取培养皿时,培养皿不容易散落,使用更安全。当然,还可将皿盖的外表面设置为粗糙表面,以更好地增加两个培养皿之间的摩擦。以上说明对本技术而言只是说明性的,而非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离所附权利要求所限定的精神和范围的情况下,可做出许多修改、变化或等效,但都将落入本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种培养皿,包括皿盖(2)和皿体,其特征在于,所述皿体包括底面、内壁(4)和外壁(1),所述内壁(4)和所述外壁(1)在底面上的投影为两个同心圆,所述内壁(4)比所述外壁(1)低;所述皿盖(2)的直径小于所述皿体的直径且大于所述内壁(4)的直径;在所述内壁(4)和所述外壁(1)之间的底面上设有密封圈(3);所述皿体的底面的外表面上设有若干防滑单元(5),所述的防滑单元包括两个相交的防滑凸起,两个所述的防滑凸起之间的夹角在30‑150°。

【技术特征摘要】
1.一种培养皿,包括皿盖(2)和皿体,其特征在于,所述皿体包括底面、
内壁(4)和外壁(1),所述内壁(4)和所述外壁(1)在底面上的投影为两
个同心圆,所述内壁(4)比所述外壁(1)低;所述皿盖(2)的直径小于所
述皿体的直径且大于所述内壁(4)的直径;在所述内壁(4)和所述外壁(1)
之间的底面上设有密封圈(3);所述皿体的底面的外表面上设有若干防滑单元
(5),所述的防滑单元包括两个相交的防滑凸起,两个所述的防滑凸起之间的

【专利技术属性】
技术研发人员:程丹丹王琳贾佳王丽岩周立
申请(专利权)人:程丹丹
类型:新型
国别省市:黑龙江;23

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