一种可连续补充影响因子的培养皿制造技术
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于一种微生物培养装置，具体涉及一种可连续补充影响因子的培养皿。
技术介绍
现有微生物固体培养通常使用皮氏培养皿，但这种皮氏培养皿在微生物培养过程中，无法补充营养物质或其他影响因子，随着培养时间的延续，培养基中营养物质或其他影响因子的浓度会逐渐下降，无法观察恒定浓度下特定营养物质或其他影响因子对培养微生物的影响，如打开皮氏培养皿补充营养物质或其他影响因子，则操作繁琐，微生物培养空间还易被外源微生物污染，因此，迫切需要研制一种既可连续补充影响因子又不会被外源微生物污染的新型培养皿。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：解决上述现有技术存在的问题，而提供一种可连续补充影响因子的培养皿，实现微生物培养过程中设定影响因子浓度的恒定，而且不被外源微生物污染。本专利技术采用的技术方案是：一种可连续补充影响因子的培养皿，由三部分组成：培养皿底、皿盖和隔板，所述隔板为砂心滤板，安装在培养皿底内，将培养皿底内腔分隔为两个独立空间：上部微生物培养空间和下部影响因子连续补充空间。上述技术方案中，所述的下部影响因子连续补充空间设有含影响因子混合流体入口、含影响因子混合流体出口和溢流口，入口内径大于出口内径，但入口横截面积小于出口横截面积和溢流口横截面积之和，同时，入口位置低于出口位置，溢流口内壁上沿与砂心滤板下部齐平。上述技术方案中，所述的培养皿底比相应的皮氏培养皿底高出2-3倍。上述技术方案中，所述的隔板安装在培养皿底内离底部15mm的高度处，隔板外径与培养皿底内径相同。上述技术方...
【技术保护点】
一种可连续补充影响因子的培养皿，其特征在于：由三部分组成：培养皿底、皿盖和隔板，所述隔板为砂心滤板，安装在培养皿底内，将培养皿底内腔分隔为两个独立空间：上部微生物培养空间和下部影响因子连续补充空间。
【技术特征摘要】
1.一种可连续补充影响因子的培养皿，其特征在于：由三部分组成：培养皿底、皿盖和隔板，所述隔板为砂心滤板，安装在培养皿底内，将培养皿底内腔分隔为两个独立空间：上部微生物培养空间和下部影响因子连续补充空间。
2.根据权利要求1所述的可连续补充影响因子的培养皿，其特征在于：所述的下部影响因子连续补充空间设有含影响因子混合流体入口、含影响因子混合流体出口和溢流口，入口内径大于出口内径，但入口横截面积小于出口横截面积和溢流口...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄中培，
申请(专利权)人：湖南生物机电职业技术学院，黄中培，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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