喷印平台制造技术

本实用新型专利技术涉及喷印技术领域，提供了一种喷印平台，该喷印平台具有：含铺底喷头模组的铺底加工单元；含喷印喷头模组的喷印加工单元；铺底加工单元的喷印介质输出端设置有对经过铺底的喷印介质进行烘干的前道烘干装置，喷印加工单元的喷印介质输出端设置有对经过二次喷印的喷印介质进行烘干的后道烘干装置。本实用新型专利技术通过在线式的二次烘干，前道工序喷印完成铺底后就进入烘干，烘干后再进入二次喷印，前道与后道是同步完成，将相应的烘干装置集成到喷印平台中，大幅减小整台设备所占用的空间。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及喷印
，特别涉及一种喷印平台。
技术介绍
喷绘技术使用到新行业时，由于材料特性与工业使用需求，喷印介质需要某种墨水铺底或覆盖。传统喷印需要单独前烘干或后烘干，由于要先烘干(或UV光照射)才能进行后道工序的喷印，有铺底或覆盖的喷印是两种完全独立的过程，生产效率非常低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种喷印平台，其可有效的提高生产效率。为解决上述技术问题，本技术的实施方式提供了一种喷印平台，该喷印平台具有：含铺底喷头模组的铺底加工单元；含喷印喷头模组的喷印加工单元；铺底加工单元的喷印介质输出端设置有对经过铺底的喷印介质进行烘干的前道烘干装置，喷印加工单元的喷印介质输出端设置有对经过二次喷印的喷印介质进行烘干的后道烘干装置。相对于现有技术而言，本技术的实施方式通过在线式的二次烘干，前道工序喷印完成铺底后就进入烘干，烘干后再进入二次喷印，前道与后道是同步完成，将相应的烘干装置集成到喷印平台中，大幅减小整台喷印平台所占用的空间。作为优选本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷印平台，该喷印平台具有：含铺底喷头模组的铺底加工单元；含喷印喷头模组的喷印加工单元；其特征在于，所述铺底加工单元的喷印介质输出端设置有对经过铺底的喷印介质进行烘干的前道烘干装置，所述喷印加工单元的喷印介质输出端设置有对经过二次喷印的喷印介质进行烘干的后道烘干装置。

【技术特征摘要】
1.一种喷印平台，该喷印平台具有：
含铺底喷头模组的铺底加工单元；
含喷印喷头模组的喷印加工单元；
其特征在于，所述铺底加工单元的喷印介质输出端设置有对经过铺底的
喷印介质进行烘干的前道烘干装置，所述喷印加工单元的喷印介质输出端设
置有对经过二次喷印的喷印介质进行烘干的后道烘干装置。
2.根据权利要求1所述的喷印平台，其特征在于，所述后道烘干装置
与喷印平台呈一体式结构。
3.根据权利要求1所述的喷印平台，其特征在于，所述后道烘干装置
通过可拆卸装置可拆卸地安装于喷印平台。
4.根据权利要求1所述的喷印平台，其特征在于，所述前道烘干装置
设置的...

【专利技术属性】
技术研发人员：童舟，
申请(专利权)人：上海泰威技术发展股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31