The utility model relates to a vacuum chamber temperature control device, temperature control of electrode for vacuum chamber, including a heat conducting plate and a semiconductor temperature control plate and a radiating plate, a temperature sensor and a controller, a heat conducting plate and a semiconductor temperature control plate and a radiating plate and a temperature sensor is arranged in the indoor vacuum chamber, a heat conducting plate and a semiconductor temperature control plate and a cooling plate from top to bottom are connected in turn, and the heat conducting plate is connected with the electrode, a semiconductor temperature control board is provided with a mounting hole, the temperature sensor is placed in the installation hole, and the temperature sensor is connected with the heat conduction plate, controller is respectively connected with the semiconductor temperature control plate and a temperature sensor, the temperature sensor is used for detecting the temperature of electrode, and sends the signal to the controller, the controller based on the temperature control signal voltage across the semiconductor temperature control plate. The vacuum chamber temperature control device has the advantages of simple operation and fast temperature control, and long service life of the semiconductor temperature control material.
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示
,特别是涉及一种真空腔室温控装置。
技术介绍
在显示
,通常通过干法刻蚀工艺对基板进行刻蚀。一般的,用于进行干法刻蚀工艺的真空腔室内设置有电极,在基板的制作过程中,基板固定在电极的表面。因此,电极的温度均匀性影响基板表面的温度均匀性,从而影响基板刻蚀的均匀性。通常情况下,真空腔室内设置有温度控制装置,用于保持电极温度的稳定。一般的,在电极下方安装有温控板,温控板通过控制器控制其内部液体的循环使电极温度保持稳定。然而,通过液体循环进行控温,控温速度比较慢,电极温度需要进行调节的时间比较长。此外,温控板需要定期保养,每次进行保养时都需要将循环液排空,更换循环液并对温控板内管道进行吹扫,温控板的保养操作繁琐复杂、费时费力。另外,一旦温控板内的循环液发生泄漏,还会对真空腔室造成污染。
技术实现思路
基于此,有必要针对上述问题,提供一种控温速度快、操作简单且使用安全的真空腔室温控装置。一种真空腔室温控装置,用于对真空腔室的电极进行温度控制,包括导热板、半导体温控板、散热板、温度传感器和控制器,导热板、半导体温控板、散热板和温度传感器设置在真空腔室内,导热板、半导体温控板和散热板由上至下依次连接,且导热板与电极连接,半导体温控板上开设有安装孔,温度传感器放置在安装孔内,且温度传感器与导热板连接,控制器分别与半导体温控板和温度传感器连接,温度传感器用于检测电极的温度,并将温度信号发送给控制器,控制器根据温度信号控制半导体温控板两端施加的电压。上述真空腔室温控装置,设置在半导体温控板中的温度传感器检测电极的温度,并将检测到的温度信号发送给控制器,控制 ...
【技术保护点】
一种真空腔室温控装置,用于对真空腔室的电极进行温度控制,其特征在于,包括导热板、半导体温控板、散热板、温度传感器和控制器,所述导热板、半导体温控板、散热板和温度传感器设置在所述真空腔室内,所述导热板、半导体温控板和散热板由上至下依次连接,且所述导热板与电极连接;所述半导体温控板上开设有安装孔;所述温度传感器放置在所述安装孔内,且所述温度传感器与所述导热板连接;所述控制器分别与所述半导体温控板和所述温度传感器连接;所述温度传感器用于检测所述电极的温度,并将温度信号发送给所述控制器;所述控制器根据所述温度信号控制所述半导体温控板两端施加的电压。
【技术特征摘要】
1.一种真空腔室温控装置,用于对真空腔室的电极进行温度控制,其特征在于,包括导热板、半导体温控板、散热板、温度传感器和控制器,所述导热板、半导体温控板、散热板和温度传感器设置在所述真空腔室内,所述导热板、半导体温控板和散热板由上至下依次连接,且所述导热板与电极连接;所述半导体温控板上开设有安装孔;所述温度传感器放置在所述安装孔内,且所述温度传感器与所述导热板连接;所述控制器分别与所述半导体温控板和所述温度传感器连接;所述温度传感器用于检测所述电极的温度,并将温度信号发送给所述控制器;所述控制器根据所述温度信号控制所述半导体温控板两端施加的电压。2.根据权利要求1所述的真空腔室温控装置,其特征在于,所述半导体温控板包括第一导热绝缘层、第二导热绝缘层、多个N型半导体、多个P型半导体和多个金属导体,所述半导体温控板的第一导热绝缘层与所述导热板连接,所述半导体温控板的第二导热绝缘层与所述散热板连接,所述多个N型半导体和多个P型半导体依次交替排列且位于所述第一导热绝缘层和第二导热绝缘层之间,且所述多个金属导体设于所述第一导热绝缘层与各N型半导体、P型半导体之间,以及所述第二导热绝缘层与各N型半导体、P型半导体之间,相邻的N型半导体和P型半导体之间通过所述金属导体首尾连接使得各N型半导体和P型半导体形成串联。3.根据权利要求1所述的真空腔室温控装置,其特征在于,所述半导体温控板包括第一导热绝缘层、第二导热绝缘层和多个半导体温...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘成,王燕锋,杨硕,
申请(专利权)人:昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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