一种清洗液喷嘴制造技术
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于喷嘴制造领域，尤其涉及一种清洗液喷嘴。
技术介绍
制造半导体元件或LCD,PDP,OLED等平板显示元件时，通常需要反复执行photoLithography工程等蚀刻工程。另外，进行photoLithography工程及蚀刻工程时必然会残留蚀刻副产物等不纯物质。为了除掉此类蚀刻不纯物，在半导体元件、平板显示元件制造上必须进行清洗工程。一般清洗工程分为，利用清洗溶液的化学型清洗方法和利用机械设备的物理型清洗方法。将上述化学型清洗方法加以详细说明的话，就是在所定清洗设备内安装半导体基板或玻璃基板等清洗对象后，利用清洗液供应装置，向上述清洗对象喷射清洗溶液进行清洗的方法。此类通常的清洗液喷嘴，由喷射口喷射出来的清洗液只能直线运动，因此，导致清洗对象的部位是限定的位置。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是，是为了解决上述问题而提出来的，在通过喷嘴的清洗液里，形成涡流，扩大喷射出来的清洗液的喷射角度，最终保证更宽广的清洗对象部位。为解决上述问题，本专利技术的技术方案是：一种清洗液喷嘴，包括喷嘴管、喷射口和设置在喷嘴管内部的涡流形成工具；所述喷射口设置在喷嘴管的下端。进一步的，所述涡流形成工具包括旋转体和扇；旋转体设置在喷嘴管的内部；扇连接并固定到上述旋转体的下部；扇跟随旋转体的旋转而旋转。进一步的，所述清洗液喷嘴的一侧设有驱动工具，通过调节驱动工具的驱动力，可选择性地调节由喷射口喷射出来的清洗液的压力。本专利技术的有益效果：在半导体基板或平板显示器件的基板等清洗对象上，起喷射清洗液的作用的清洗液喷嘴内，设置涡流形成工具，使清洗液喷嘴内的清洗液里...
【技术保护点】
一种清洗液喷嘴，其特征在于：包括喷嘴管(201)、喷射口(202)和设置在喷嘴管(201)内部的涡流形成工具(203)；所述喷射口(202)设置在喷嘴管(201)的下端。
【技术特征摘要】
1.一种清洗液喷嘴，其特征在于：包括喷嘴管(201)、喷射口(202)和设置在喷嘴管(201)内部的涡流形成工具(203)；所述喷射口(202)设置在喷嘴管(201)的下端。2.根据权利要求1所述的清洗液喷嘴，其特征在于：所述涡流形成工具(203)包括旋转体(203a)和扇(203b)；旋转体(203a)设置在...
【专利技术属性】
技术研发人员：任海，郎丰伟，
申请(专利权)人：四川虹视显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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