基板搬送装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板搬送装置。本发明专利技术一实施例涉及的基板搬送装置(100)的特征在于，包括：搬送部(110)，其与基板(10)的上部面相向，以非接触式支持基板(10)的上部面；以及主体部(150)，其包括用于向搬送部(110)提供气体(g)以及真空(v)的流路，其中，搬送部(110)具有用于喷出气体(g)的气体喷射支持部(130‑136、140‑146)以及用于提供真空(v)的真空支持部(120‑128)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基板搬送装置。更加详细而言，涉及一种能够结合真空方式和喷气方式，以非接触式支持基板的上部面并进行搬送的基板搬送装置。
技术介绍
发光二极管(LightEmittingDiode；LED)、平板显示装置、太阳能电池、半导体等的基板被实施蒸镀工序、退火工序等。当在同一工序内或为了下一道工序而在设备之间搬送基板时，有可能发生污染物质导致的污染、与工艺设备及基板搬送装置等进行物理接触而引起的擦伤等。这些污染、擦伤等作为基板缺陷，不仅成为降低最终产品性能的主要原因，还可能成为导致不良的原因，因而在基板处理工序中需要着重考虑。可以支持基板的上部面或下部面并进行搬送，支持基板的上部面并进行搬送的方式有真空吸附方式和利用伯努利原理的方式。真空吸附方式能够通过真空的吸附力来提升基板，因而具有能够稳定地搬送基板的优点。但是，由于基板的上部面接触基板搬送装置，存在基板的上部面被污染的缺点。利用伯努利原理的方式控制基板搬送装置与基板之间的压力，由此能够以非接触式提升基板的上部面并进行搬送，因而可以解决基板的上部面随着接触基板搬送装置而被污染的问题。但是，提升基板需要大量的气体，因而存在基板被混入于大量气体中的微粒所污染的缺点。下面就支持基板的下部面并进行搬送的方式进行说明。基板10配置在基座(susceptor)20的上部，可以对其实施蒸镀等工序。可以如图1的(a)所示，将基板10配置在平板形状的基座20的上部，也可以如图1的(b)所示，配置在具备可收容基板10的槽21的基座20上。图1的(c)示出了如下方法：基座20上形成有空气喷射孔30，随着喷射空气(air)a，使基板10漂浮规定高度后，诸如晶片传输机器人的基板搬送装置50从基板10的下部接近，支持基板10并进行搬送。图1的(d)示出了如下方法：具备基板支持部40，基板支持销41贯穿基座20，通过升降单元45的上下运动，基板支持销41支持基板10的下部面并使其升降。从图1的(a)以及(b)所示的基座20搬送基板10时，存在需要从基板10的下部接近后搬送基板10的麻烦。若要使基板搬送装置50从基板10的下部接近后搬送基板10，就需具有如图1的(c)以及(d)的结构。但是，难以通过如图1的(c)中的喷射孔30使基板10稳定地漂浮并得到支持，并且存在基板搬送装置50在接近过程中与基板10发生干涉而可能损伤基板10的问题。另外，如图1的(d)中的基板支持部40与其他组件在装置内部的设计限制大，并且仍然存在有可能擦伤基板下部的问题。为了消除这些问题，本专利技术人专利技术了能够从基板的上部支持基板同时以非接触方式支持基板并进行搬送的基板搬送装置。
技术实现思路
要解决的技术问题本专利技术是为了解决上述的现有技术中的各种问题而提出的，其目的在于，提供一种能够结合真空方式和喷气方式，以非接触式支持基板的上部面并稳定地进行搬送的基板搬送装置。另外，本专利技术的目的在于，提供一种能够减少在基板搬送过程中所产生的基板缺陷的基板搬送装置。技术方案为了实现上述目的，本专利技术一实施例涉及的基板搬送装置的特征在于，包括：搬送部，其与基板的上部面相向，以非接触式支持所述基板的上部面；以及主体部，其包括用于向所述搬送部提供气体(gas)以及真空(vacuum)的流路，其中，所述搬送部具有用于喷出所述气体的气体喷射支持部以及用于提供所述真空的真空支持部。所述气体喷射支持部可以包括：气体流路，供所述气体移动；以及气体喷出口，其设置于所述真空流路的端部且形成于与所述基板的上部面相向的所述搬送部的表面上。所述真空支持部可以包括：真空流路，用于提供所述真空；以及真空发生口，其设置于所述真空流路的端部且形成于与所述基板的上部面相向的所述搬送部的表面上。在所述搬送部中，所述基板中由所述气体喷射支持部支持的部分可以位于所述基板中由所述真空支持部支持的部分的外侧。在所述搬送部中，所述基板中由所述真空支持部支持的部分可以位于所述基板中由所述气体喷射支持部支持的部分的外侧。可以以倾斜规定角度的方式向所述基板喷出所述气体。可以在与所述基板的外周相向的所述搬送部的部分形成有突出引导部。所述突出引导部的内周面呈倾斜状。所述气体可以是N2、Ar、Ne、He中的一种。所述真空支持部可以通过所述真空的吸附力来向所述移送部提升所述基板，所述气体喷射支持部可以通过喷出所述气体而将所述基板推向所述移送部的相反侧。有益效果根据上述的本专利技术，具有如下效果：能够结合真空方式和喷气方式，以非接触式支持基板的上部面并稳定地进行搬送。而且，本专利技术具有如下效果：能够减少基板搬送过程中所产生的基板缺陷。而且，本专利技术具有如下效果：能够减少用于搬送基板的气体的喷射量。附图说明图1是示出基板配置形式以及从下部搬送基板的方式的侧剖视图。图2是示出上部支持方式的基板搬送装置的侧剖视图。图3是示出本专利技术一实施例涉及的基板搬送装置的俯视图。图4是示出本专利技术一实施例涉及的基板搬送装置的操作过程的侧剖视图。图5是示出本专利技术另一实施例涉及的基板搬送装置的俯视图。图6是示出本专利技术另一实施例涉及的基板搬送装置的侧剖视图。附图标记10：基板20：基座(susceptor)120-128：真空支持部130-136、140-146：气体喷射支持部150：主体部160：气管170：真空管g：气体v：真空具体实施方式后述的对于本专利技术的详细说明参照例示性地示出能够实施本专利技术的特定实施例的附图。这些实施例得以详细描述，以使本领域的技术人员能够充分地实施本专利技术。应当理解为，本专利技术的各种实施例虽然彼此不同，但是无需互相排斥。例如，此处所记载的特定形状、构造以及特性的实现方式不限于一实施例，在不脱离本专利技术的宗旨以及范围的情况下，可以由其他实施例来实现。另外，应当理解为，各个公开的实施例内的个别组件的位置或配置在不脱离本专利技术的宗旨以及范围的情况下可以变更。因此，后述的详细描述并非旨在限定本专利技术，本专利技术的范围仅由权利要求书限定，包括与其等同的所有范围。附图中的相似的附图标记在多个方面表示相同或相似的功能。下面将参照附图详细描述本专利技术的结构。图2是示出上部支持方式的基板搬送装置的侧剖视图。作为上部支持方式的基板搬送装置60的一例，图2的(a)示出了利用真空(vacuum)v的基板搬送装置60。与基板10上部面相向的基板搬送装置60的部分可以形成有用于提供真空吸附力的真空吸附口61。真空吸附口61与外部的抽吸单元(未图示)相连接，通过吸入空气能够提供真空v。随着基板搬送装置60从基板10的上部接近，能够通过真空v的吸附力来提升基板10。因此，基板10能够以其上部被基板搬送装置60接触并支持的状态被搬送。由于该方式能够支持基板10的上部并搬送基板10，因此能够避免在用于支持基板10的下部的图1的(c)以及(d)的基板搬送装置50上有可能发生的基板10的支持稳定性问题、基板10下部面的损伤问题。但是，由于基板10的上部面接触基板搬送装置60，存在基板10的上部面被污染或损伤的问题。作为上部支持方式的基板搬送装置60的另一例，图2的(b)示出了利用伯努利原理的非接触式基板搬送装置60。伯努利原理是关于没有粘性和压缩性的理想流体有规则地流动时的速度与压力之间关系本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板搬送装置，其特征在于，包括：搬送部，其与基板的上部面相向，以非接触式支持所述基板的上部面；以及主体部，其包括用于向所述搬送部提供气体(gas)以及真空(vacuum)的流路，其中，所述搬送部具有用于喷出所述气体的气体喷射支持部以及用于提供所述真空的真空支持部。

【技术特征摘要】
2015.07.28 KR 10-2015-01062531.一种基板搬送装置，其特征在于，包括：搬送部，其与基板的上部面相向，以非接触式支持所述基板的上部面；以及主体部，其包括用于向所述搬送部提供气体(gas)以及真空(vacuum)的流路，其中，所述搬送部具有用于喷出所述气体的气体喷射支持部以及用于提供所述真空的真空支持部。2.根据权利要求1所述的基板搬送装置，其特征在于，所述气体喷射支持部包括：气体流路，供所述气体移动；以及气体喷出口，其设置于所述气体流路的端部，且形成于与所述基板的上部面相向的所述搬送部的表面上。3.根据权利要求1所述的基板搬送装置，其特征在于，所述真空支持部包括：真空流路，用于提供所述真空；以及真空发生口，其设置于所述真空流路的端部，且形成于与所述基板的上部面相向的所述搬送部的表面上。4.根据权利要求1所述的基板搬送装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：李裕进，李在鹤，
申请(专利权)人：TGO科技株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR