【技术实现步骤摘要】
框架一体型掩模的制造装置
本专利技术涉及一种框架一体型掩模的制造装置。更具体地,涉及一种使掩模不发生变形且可稳定地得到支撑并移动,而且将掩模与框架一体形成,并能够准确地在各掩模间进行对准(align),在从框架上分离替换掩模的过程中能够防止框架的变形的框架一体型掩模的制造装置。
技术介绍
作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术,主要使用FMM(FineMetalMask,精细金属掩模)方法,该方法将薄膜形式的金属掩模(ShadowMask,阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。在现有的OLED制造工艺中,将掩模制造成条状、板状等后,将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具备与一个显示器对应的多个单元。另外,为了制造大面积OLED,可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架,在固定于框架的过程中,拉伸各个掩模,以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是,为了使各个单元全部变得平坦,同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案,需要微调施加到掩模各 ...
【技术保护点】
1.一种框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,包括:/n工作台部,其用于安置并支撑框架;/n夹具部,其用于夹紧粘合且支撑有掩模的模板;/n夹具移动部,其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具部;/n头部,其用于向掩模的焊接部照射激光,且用于感应掩模的对准状态;以及/n头移动部,其向X、Y、Z轴中的至少一个方向移动头部,/n工作台部包括用于使包括框架的工艺区域的温度上升至第一温度的加热单元。/n
【技术特征摘要】
20181128 KR 10-2018-01495891.一种框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,包括:
工作台部,其用于安置并支撑框架;
夹具部,其用于夹紧粘合且支撑有掩模的模板;
夹具移动部,其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具部;
头部,其用于向掩模的焊接部照射激光,且用于感应掩模的对准状态;以及
头移动部,其向X、Y、Z轴中的至少一个方向移动头部,
工作台部包括用于使包括框架的工艺区域的温度上升至第一温度的加热单元。
2.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,
还包括预热部,所述预热部在夹具部夹紧模板之前,提供用于预热粘合且支撑有掩模的模板的空间。
3.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,
夹具部通过吸附模板的上部面的至少一部分进行夹紧。
4.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,
工作台部包括用于对准框架的位置的框架对准单元。
5.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,夹具部包括:
夹具单元,其用于夹紧模板;
夹具移动单元,其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具单元;以及
连接单元,其用于将夹具移动单元连接至夹具移动部。
6.如权利要求5所述的框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,
夹具部还包括向夹紧的模板施加热的夹具加热单元。
7.如权利要求5所述的框架一体型掩模的制造装置,其特征在于,
夹具单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:李裕进,李炳一,
申请(专利权)人:TGO科技株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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