框架一体型掩模的制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种框架一体型掩模的制造装置。本发明专利技术涉及的框架一体型掩模的制造装置(10)包括：工作台部(20)，其用于安置并支撑的框架(200)；夹具部(30)，其用于夹紧粘合且支撑有掩模(100)的模板(50)；夹具移动部(40)，其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具部(30)；头部(60)，其用于向掩模(100)的焊接部照射激光，且用于感应掩模(100)的对准状态；以及头移动部(70)，其向X、Y、Z轴中的至少一个方向移动头部(60)，工作台部(20)包括加热单元(29)，所述加热单元(29)用于将包括框架(200)的工艺区域的温度上升至第一温度(ET)。

Manufacturing device of frame integrated mask

【技术实现步骤摘要】
框架一体型掩模的制造装置
本专利技术涉及一种框架一体型掩模的制造装置。更具体地，涉及一种使掩模不发生变形且可稳定地得到支撑并移动，而且将掩模与框架一体形成，并能够准确地在各掩模间进行对准(align)，在从框架上分离替换掩模的过程中能够防止框架的变形的框架一体型掩模的制造装置。
技术介绍
作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术，主要使用FMM(FineMetalMask，精细金属掩模)方法，该方法将薄膜形式的金属掩模(ShadowMask，阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。在现有的OLED制造工艺中，将掩模制造成条状、板状等后，将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具备与一个显示器对应的多个单元。另外，为了制造大面积OLED，可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架，在固定于框架的过程中，拉伸各个掩模，以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是，为了使各个单元全部变得平坦，同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案，需要微调施加到掩模各侧的拉伸力并且实时确认对准状态的高度作业要求。尽管如此，在将多个掩模固定于一个框架过程中，仍然存在掩模之间以及掩模单元之间对准不好的问题。另外，在将掩模焊接固定于框架的过程中，掩模膜的厚度过薄且面积大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题；由于焊接过程中在焊接部分产生的皱纹、毛刺(burr)等，导致掩模单元的对准不准的问题等。在超高清的OLED中，现有的QHD画质为500-600PPI(pixelperinch，每英寸像素)，像素的尺寸达到约30-50μm，而4KUHD、8KUHD高清具有比之更高的～860PPI，～1600PPI等的分辨率。如此，考虑到超高清的OLED的像素尺寸，需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm左右，超出这一误差将导致产品的不良，所以收率可能极低。因此，需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对准精确的技术，以及将掩模固定于框架的技术等。另外，部分掩模没有准确对准地固定或者掩模中发生缺陷时，需要将掩模分离，但是在分离及替换焊接的掩模的过程中，存在打乱其他掩模的对准的问题。
技术实现思路
技术问题因此，本专利技术为了解决如上所述的现有技术的各种问题而提出的，其目的在于，提供一种能够使掩模与框架形成一体型结构的框架一体型掩模的制造装置。另外，本专利技术的目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造装置，能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形且能够准确地对准。另外，本专利技术的目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造装置，能够显著地减少制造时间，而且能够显著地提升收率。另外，本专利技术的目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造装置，能够使掩模不发生变形且可稳定地得到支撑并移动。另外，本专利技术的目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造装置，在使掩模与框架形成一体型结构的框架一体型掩模中能够进行掩模分离及替换以防止框架的扭曲等变形，且准确地对准掩模。技术方案本专利技术的所述目的是通过以下框架一体型掩模的制造装置来实现的，所述框架一体型掩模的制造装置框架包括：工作台部，其用于安置并支撑框架；夹具部，其用于夹紧粘合且支撑有掩模的模板；夹具移动部，其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具部；头部，其用于向掩模的焊接部照射激光，且用于感应掩模的对准状态；以及头移动部，其向X、Y、Z轴中的至少一个方向移动头部，工作台部包括用于使包括框架的工艺区域的温度上升至第一温度加热单元。还可包括预热部，所述预热部在夹具部夹紧模板之前提供用于预热粘合且支撑有掩模的模板的空间。夹具部通过吸附模板的上部面的至少一部分可进行夹紧。工作台部可包括用于对准框架的位置的框架对准单元。夹具部包括：夹具单元，其用于夹紧模板；夹具移动单元，其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具单元；以及连接单元，其用于将夹具移动单元连接至夹具移动部。夹具部还可包括用于向夹紧的模板施加热的夹具加热单元。夹具单元上可相距间隔地形成有向模板施加吸附压力的多个吸附单元。多个吸附单元在掩模的焊接部与Z轴上的区域上可以不发生重叠地布置。头部可包括激光单元，其通过向掩模照射激光使掩模与框架焊接，或者通过向掩模照射激光进行激光微调(trimming)。一双激光单元可相隔地布置，每个激光单元分别向掩模的一侧、另一侧的焊接部照射激光。框架可包括：边缘框架部，其包括中空区域；掩模单元片材部，其具有多个掩模单元区域，且与边缘框架部连接。与存在掩模单元区域的掩模单元片材部的棱角相隔预定距离的部分上可形成有多个吸附孔，工作台部还包括向框架的下部生成吸附压力的下部支撑单元。在下部支撑单元的下部可布置有加热单元。第一温度大于或者等于OLED像素沉积工艺温度，将掩模附着在框架上之后，将包括框架的工艺区域的温度下降至小于第一温度的第二温度，第一温度是25℃至60℃中的任意一温度，第二温度是小于第一温度的20℃至30℃中的任意一温度，OLED像素沉积工艺温度可以是25℃至45℃中的任意一温度。专利技术效果具有如上所述结构的本专利技术具有掩模和框架能够形成一体式结构的效果。另外，本专利技术具有能够防止掩模下垂或者扭曲等的变形并使对准精确的效果。另外，本专利技术具有能够显著缩短制造时间并显著提升收率的效果。另外，本专利技术具有能够使掩模不变形且稳定地得到支撑并移动的效果。另外，本专利技术具有在使掩模与框架形成一体型结构的框架一体型掩模中能够进行掩模分离及替换以防止框架的扭曲等变形，且准确对准掩模的效果。附图说明图1和图2是现有的将掩模附着至框架的过程的示意图。图3是在现有的拉伸掩模的过程中发生单元之间的对准误差的示意图。图4是本专利技术的一实施例涉及的框架一体型掩模的主视图以及侧剖视图。图5是本专利技术的一实施例涉及的框架的主视图以及侧剖视图。图6是本专利技术的一实施例涉及的框架制造过程的示意图。图7是本专利技术的另一实施例涉及的框架的制造过程的示意图。图8是现有的用于形成高分辨率OLED的掩模的示意图。图9是本专利技术的一实施例涉及的掩模的示意图。图10和图11是本专利技术一实施例涉及的框架一体型掩模的制造装置的平面示意图及正面示意图。图12是本专利技术一实施例涉及的框架一体型掩模的制造装置的部分放大示意图。图13至图14是本专利技术一实施例涉及的通过在模板上粘合掩模金属膜并形成掩模，从而制造掩模支撑模板的过程的示意图。图15是本专利技术一实施例涉及的临时粘合部的放大截面示意图。图16是本专利技术一实施例涉及的将掩模支撑模板装载到框架上的过程的示意图。图17是本专利技术一实施例涉及的将工艺区域的温度上升之后将模板装载在框架上并将掩模对应至框架的单元区域的状态的示意图。图18是本专利技术一实施例涉及的将掩模附着在框架上的过程的示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，包括：/n工作台部，其用于安置并支撑框架；/n夹具部，其用于夹紧粘合且支撑有掩模的模板；/n夹具移动部，其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具部；/n头部，其用于向掩模的焊接部照射激光，且用于感应掩模的对准状态；以及/n头移动部，其向X、Y、Z轴中的至少一个方向移动头部，/n工作台部包括用于使包括框架的工艺区域的温度上升至第一温度的加热单元。/n

【技术特征摘要】
20181128 KR 10-2018-01495891.一种框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，包括：
工作台部，其用于安置并支撑框架；
夹具部，其用于夹紧粘合且支撑有掩模的模板；
夹具移动部，其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具部；
头部，其用于向掩模的焊接部照射激光，且用于感应掩模的对准状态；以及
头移动部，其向X、Y、Z轴中的至少一个方向移动头部，
工作台部包括用于使包括框架的工艺区域的温度上升至第一温度的加热单元。


2.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，
还包括预热部，所述预热部在夹具部夹紧模板之前，提供用于预热粘合且支撑有掩模的模板的空间。


3.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，
夹具部通过吸附模板的上部面的至少一部分进行夹紧。


4.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，
工作台部包括用于对准框架的位置的框架对准单元。


5.如权利要求1所述的框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，夹具部包括：
夹具单元，其用于夹紧模板；
夹具移动单元，其向X、Y、Z、θ轴中的至少一个方向移动夹具单元；以及
连接单元，其用于将夹具移动单元连接至夹具移动部。


6.如权利要求5所述的框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，
夹具部还包括向夹紧的模板施加热的夹具加热单元。


7.如权利要求5所述的框架一体型掩模的制造装置，其特征在于，
夹具单元...

【专利技术属性】
技术研发人员：李裕进，李炳一，
申请(专利权)人：TGO科技株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR