本发明专利技术是一种石英玻璃管的真空脱羟方法，它通过采用调整电流电压的措施，从升（降）温、恒温共采用十二步法对石英玻璃管进行脱羟基处理。本发明专利技术脱羟方法保持和提高了石英玻璃管的热稳定性，提高了石英玻璃管的耐温和防裂变性能，降低了石英玻璃管的高温变形率，提高了产品的适应性。处理后所得的石英玻璃管的羟基含量可降到２ｐｐｍ以下，石英玻璃管的高温变形率小，直径在１２０ｍｍ以上的石英玻璃管的变形率在３％以内，完全达到了半导体技术用的大口径石英玻璃管的要求。
Vacuum hydroxyl removing method for quartz glass tube
The invention relates to a method for vacuum removal of quartz glass tubes, which adopts the twelve step method to carry out the hydroxyl radical treatment of quartz glass tubes from ascending (descending) temperature and constant temperature by adopting the measures of adjusting current and voltage. The method can maintain and improve the thermal stability of quartz glass tube, quartz glass tube to improve the heat resistance and crack resistance, reduce the temperature of the quartz glass pipe deformation rate, improve product adaptability. After treatment the hydroxyl content of quartz glass tube can be reduced to below 2ppm, the rate of small high temperature quartz glass tube deformation, deformation of more than 120mm in diameter of quartz glass tube at the rate of less than 3%, fully meet the semiconductor technology for large-diameter quartz glass tube requirements.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种石英玻璃管的生产方法，特别是。
技术介绍
连熔工艺生产的石英玻璃管通常含有100-180ppm的羟基，高羟基含量将直接影响石英玻璃管的质量，因此需要对其进行脱羟处理。现有技术中的脱羟基工艺一般均采用直线升温法，步骤过于简单，脱羟过程容易损坏石英玻璃管，且脱羟效果较差，一般只能使石英玻璃管的羟基含量降至20ppm左右，不能满足低羟基行业如半导体技术的要求。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种可进一步降低羟基含量、提高石英管产品性能的石英玻璃管的真空脱羟方法。本专利技术所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的。本专利技术是，其特点是，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用30-70分钟使真空脱羟炉内温度升至500-700℃；第二步真空脱羟炉内恒温500-700℃保持3-10分钟；第三步用10-30分钟使真空脱羟炉内温度升至700-900℃；第四步真空脱羟炉内恒温700-900℃保持5-15分钟；第五步用10-30分钟使真空脱羟炉内温度升至900-1000℃；第六步真空脱羟炉内恒温900-1000℃保持3-10分钟；第七步用60-120分钟使真空脱羟炉内温度升至1050-1250℃；第八步真空脱羟炉内恒温1050-1250℃保持180-300分钟； 第九步用20-40分钟使真空脱羟炉内温度降至180-380℃；第十步真空脱羟炉内恒温180-380℃保持10-30分钟；第十一步用10-30分钟使真空脱羟炉内温度降至50-120℃；第十二步真空脱羟炉内恒温50-120℃保持10-30分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。本专利技术所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现。以上所述的，其特点是，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用50分钟使真空脱羟炉内温度升至600℃；第二步真空脱羟炉内恒温600℃保持5分钟；第三步用20分钟使真空脱羟炉内温度升至800℃；第四步真空脱羟炉内恒温800℃保持10分钟；第五步用20分钟使真空脱羟炉内温度升至950℃；第六步真空脱羟炉内恒温950℃保持5分钟；第七步用90分钟使真空脱羟炉内温度升至1180℃；第八步真空脱羟炉内恒温1180℃保持240分钟；第九步用30分钟使真空脱羟炉内温度降至280℃；第十步真空脱羟炉内恒温280℃保持20分钟；第十一步用20分钟使真空脱羟炉内温度降至80℃；第十二步真空脱羟炉内恒温80℃保持20分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。这是本专利技术的优选技术方案。本专利技术所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现。以上所述的，其特点是，真空脱羟炉的每一时间段内的升温或降温均为均匀稳定的升温或降温。本专利技术所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现。以上所述的，其特点是，脱羟时真空脱羟炉内的真空度为3×10-3-10×10-3，优选6×10-3。脱羟是提高石英玻璃管内在质量的重要环节。本专利技术采用调整电流电压的措施，从升温、恒温直至降温、恒温共采用十二步法对石英玻璃管进行脱羟基处理。在这十二步脱羟步骤中，采用的是“升(降)温-恒温”交替步骤法，当升(降)至一定温度时，在这个温度点上再恒温保持一段时间，然后再进入下一阶段的“升(降)温-恒温”工艺，其脱羟工艺过程平稳有序。经本专利技术脱羟工艺处理所得的石英玻璃管的羟基含量可降到2ppm以下，石英玻璃管的变形率小，直径在120mm以上的石英玻璃管的变形率在3％以内，完全达到了半导体技术用的大口径石英玻璃管的要求。本专利技术脱羟方法保持和提高了石英玻璃管的热稳定性，提高了石英玻璃管的耐温和防裂变性能，降低了石英玻璃管的高温变形率，提高了产品的适应性。具体实施例方式下面进一步描述本专利技术的具体技术实施方案，以使本领域技术人员更好的理解本专利技术。实施例1。，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用50分钟使真空脱羟炉内温度升至600℃；第二步真空脱羟炉内恒温600℃保持5分钟；第三步用20分钟使真空脱羟炉内温度升至800℃；第四步真空脱羟炉内恒温800℃保持10分钟；第五步用20分钟使真空脱羟炉内温度升至950℃；第六步真空脱羟炉内恒温950℃保持5分钟；第七步用90分钟使真空脱羟炉内温度升至1180℃；第八步真空脱羟炉内恒温1180℃保持240分钟；第九步用30分钟使真空脱羟炉内温度降至280℃；第十步真空脱羟炉内恒温280℃保持20分钟；第十一步用20分钟使真空脱羟炉内温度降至80℃；第十二步真空脱羟炉内恒温80℃保持20分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。实施例2。在实施例1中，脱羟时真空脱羟炉内的真空度为6×10-3。实施例3。，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用30分钟使真空脱羟炉内温度升至500℃；第二步真空脱羟炉内恒温500℃保持10分钟；第三步用10分钟使真空脱羟炉内温度升至700℃；第四步真空脱羟炉内恒温700℃保持15分钟；第五步用10分钟使真空脱羟炉内温度升至900℃；第六步真空脱羟炉内恒温900保持10分钟；第七步用60分钟使真空脱羟炉内温度升至1050℃；第八步真空脱羟炉内恒温1050保持300分钟；第九步用20分钟使真空脱羟炉内温度降至300℃；第十步真空脱羟炉内恒温180℃保持10分钟；第十一步用10分钟使真空脱羟炉内温度降至50℃；第十二步真空脱羟炉内恒温50℃保持10分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。脱羟时真空脱羟炉内的真空度为4×10-3。实施例4。，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用70分钟使真空脱羟炉内温度升至700℃；第二步真空脱羟炉内恒温700℃保持3分钟；第三步用30分钟使真空脱羟炉内温度升至900℃；第四步真空脱羟炉内恒温900℃保持5分钟；第五步用30分钟使真空脱羟炉内温度升至1000℃；第六步真空脱羟炉内恒温1000℃保持3分钟；第七步用120分钟使真空脱羟炉内温度升至1250℃；第八步真空脱羟炉内恒温1250℃保持180分钟；第九步用40分钟使真空脱羟炉内温度降至380℃； 第十步真空脱羟炉内恒温380℃保持30分钟；第十一步用30分钟使真空脱羟炉内温度降至120℃；第十二步真空脱羟炉内恒温120℃保持30分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。脱羟时真空脱羟炉内的真空度为5×10-3。实施例5。，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用40分钟使真空脱羟炉内温度升至600℃；第二步真空脱羟炉内恒温600℃保持8分钟；第三步用15分钟使真空脱羟炉内温度升至750℃；第四步真空脱羟炉内恒温750℃保持8分钟；第五步用15分钟使真空脱羟炉内温度升至920℃；第六步真空脱羟炉内恒温920℃保持8分钟；第七步用100分钟使真空脱羟炉内温度升至1100℃；第八步真空脱羟炉内恒温1100℃保持200分钟；第九步用25分钟使真空脱羟炉内温度降至200℃；第十步真空脱羟炉内恒温200℃保持15分钟；第十一步用15分钟使真空脱羟炉内温度降至100℃；第十二步真空脱羟炉内恒温100℃保持15分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。真空脱羟炉的每一时间段内的升温或降温均为均匀稳定的升温或降温；脱羟时真空脱羟炉内的真空度为6×10-3。实施例6。，它采用十二步脱羟法，其步骤如下第一步用60分钟使真空脱羟炉内温度升至650℃；第二步真空脱本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种石英玻璃管的真空脱羟方法，其特征在于，它采用十二步脱羟法，其步骤如下：第一步：用３０－７０分钟使真空脱羟炉内温度升至５００－７００℃；第二步：真空脱羟炉内恒温５００－７００℃保持３－１０分钟；第三步：用１０－３０分钟使真空脱羟炉内温度升至７００－９００℃；第四步：真空脱羟炉内恒温７００－９００℃保持５－１５分钟；第五步：用１０－３０分钟使真空脱羟炉内温度升至９００－１０００℃；第六步：真空脱羟炉内恒温９００－１０００℃保持３－１０分钟；第七步：用６０－１２０分钟使真空脱羟炉内温度升至１０５０－１２５０℃；第八步：真空脱羟炉内恒温１０５０－１２５０℃保持１８０－３００分钟；第九步：用２０－４０分钟使真空脱羟炉内温度降至１８０－３８０℃；第十步：真空脱羟炉内恒温１８０－３８０℃保持１０－３０分钟；第十一步：用１０－３０分钟使真空脱羟炉内温度降至５０－１２０℃；第十二步：真空脱羟炉内恒温５０－１２０℃保持１０－３０分钟；出炉即得低羟基石英玻璃管。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐胜利，
申请(专利权)人：徐胜利，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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