一种多晶硅铸锭用坩埚制造技术

技术编号:14573772 阅读:112 留言:0更新日期:2017-02-06 12:11
本实用新型专利技术公开了一种多晶硅铸锭用坩埚,具有呈平面的底面和与底面垂直的侧壁;此外,所述坩埚内的底面上、与侧壁结合的边沿处为呈周向设置的凹槽,所述凹槽其截面形状为连贯弧形。本实用新型专利技术采用上述弧形凹槽,利用硅液重力及惯性作用,在凹槽的引导下使硅液向高处冲击而进入到坩埚的内部,从而起到自搅拌作用,有助于减少水平方向上的温度梯度,从而获得尺寸均匀细小的晶粒,有效提高了多晶硅锭的产品质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能电池
,尤其涉及一种多晶硅铸锭用坩埚
技术介绍
太阳能作为可再生清洁能源,具有安全可靠、无噪声、无污染、制约少、故障率低、维护简便、资源广阔等其他常规能源所不具备的优点。单晶硅电池具有最高的太阳能转化效率,但单晶硅的生产耗时、耗电,成本相对较高。多晶硅可通过铸锭方式制备而易于实现规模化生产。然而,由于具有较多的晶界成为电子-空穴复合中心,多晶硅的效率低于单晶硅。为此,目前多晶硅锭的制备方法主要采用GTSolar所提供的定向凝固系统法(简称DSS)炉晶体生长技术,通过控制多晶硅的定向生长,使多晶硅片具有尽可能大的单晶区域,以提高电池性能。该技术通常包括加热、熔化、凝固长晶、退火和冷却等步骤,其中存在着以下技术问题:1、现有的铸锭炉主要依靠提升隔热笼来降低底部温度,但是单纯的提升隔热笼,定向助凝块四边的散热速率高于中央的散热速率,这种降温模式会形成水平方向上的温度梯度,从而影响了硅锭晶粒的垂直度,最终导致晶粒尺寸不均匀。2、在凝固长晶的过程中,伴随着坩埚底部的持续冷却,熔融状态的硅料自发形成随机形核、并且随机形核逐渐生长。但现有技术中初始形核不能得到很好的控制,形核过程中容易产生位错,易于导致晶向无规律、晶界不规则、晶粒不均匀(从微米级到十几厘米),影响了多晶硅锭的产品质量和转换效率。针对上述问题,为减少降温模式所带来的温度梯度,在熔化过程中通过搅拌或超声波的处理可以有一定的改善作用。但是,现有的铸锭炉无法增加搅拌设施,并且搅拌器的加入会带来杂质的引入;而超声波的处理可以达到细化晶粒的效果,但这种方法既增加了设备复杂度,也无法在线控制超声作用,实际应用效果不佳。为控制硅晶体的均匀形核,目前主要采用了以下两种方式:一、提供成核物质,即在坩埚底部首先铺一层高纯硅料作为籽晶,或者制备一层形核源层。然而,由于现有铸锭炉主要采用钟罩式加热,坩埚周围的温度较高,从而导致坩埚底部外沿部分的籽晶首先熔化,致使坩埚底层结晶不均匀,影响了结晶效果。此外,由于现有的铸锭技术中,均已采用喷涂法制备了氮化硅涂层,因此制备形核源层的方式在实际使用过程中效果并不好。二、利用特定的形状引发硅晶体规则成核,即在石英坩埚底部均匀分布高纯颗粒,或者,在坩埚内的底部设置多个凹坑,以形成凹凸起伏的底部,实现底部熔硅定点快速优先成核。但是,优先成核的晶粒依然是随机形成的,其促进晶粒定向生长的效果依旧有限。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足,提供一种有助于减少水平方向温度梯度的多晶硅铸锭用坩埚,以利于获得尺寸均匀细小的晶粒,有效提高多晶硅锭的产品质量。本技术的目的通过以下技术方案予以实现:本技术提供的一种多晶硅铸锭用坩埚,具有呈平面的底面和与底面垂直的侧壁;此外,所述坩埚内的底面上、与侧壁结合的边沿处为呈周向设置的凹槽,所述凹槽其截面形状为连贯弧形。在熔化过程中,由于现有的铸锭炉采用钟罩式加热,坩埚中处于顶部和侧壁上部的硅料会首先熔化。这样,首先熔化的液态硅在重力作用下,沿内壁自上而下流动。如果坩埚的底部是平面的,则硅液直接汇集在坩埚的底部,不会产生明显的扰动作用。本技术采用上述弧形凹槽,利用硅液重力及惯性作用,在凹槽的引导下可使硅液向高处冲击而进入到坩埚的内部,从而起到自搅拌作用,有助于减少水平方向上的温度梯度、并产生热交换作用,实现均匀成核并减少了熔化时间。上述方案中,为提高凹槽的引导作用,以利于硅液进入到坩埚的内部,本实用新型所述凹槽的截面由二段相连的弧形组成,与侧壁相邻的一侧弧形的弧度大于或等于另一侧弧形的弧度。进一步地,本技术所述凹槽的深度为10~50mm、宽度为20~100mm;所述凹槽与侧壁相邻的一侧弧形其弧度为90°。进一步地,本技术所述凹槽处的坩埚厚度与所述底面处的坩埚厚度相同,使得凹槽与坩埚底部具有相同的过冷度,有助于均匀成核。根据晶体生长理论,晶体的成核过程是一个凝固-溶解的过程,当晶粒尺寸超过临界尺寸后,晶粒才能进一步长大形成晶体。在凝固生长过程中,为提供更多的晶体原子聚集点,以促进晶粒的顺利成核,并更好地控制晶粒定向生长,本技术所述底面上和凹槽的表面设置有尖锐状凸起,所述尖锐状凸起的中心轴与底面垂直。进一步地,本技术所述尖锐状凸起的高度为1~5mm,顶部尖角处最大外形轮廓所形成的角度≤30°。所述尖锐状凸起呈紧密排列,或者呈规则有序排列。本技术具有以下有益效果:(1)本技术结构简单合理,通过在坩埚内的底面上、与侧壁结合的边沿处设置弧形凹槽,使得顶部及侧壁上部首先熔化的液态硅在其重力惯性作用下,沿侧壁向下流动,并利用弧形凹槽的引导使得硅液冲击进入到坩埚中部。硅液的冲击能够产生搅动,从而起到自搅拌作用,不仅有助于减少水平方向上的温度梯度,获得尺寸均匀细小的晶粒,而且有助于提高热交换过程,可促进坩埚内部硅料的熔化,减少了熔化时间。(2)本技术底部设置的凸起呈尖锐状而具有较高的曲率,从而能够为晶体原子的聚集提供更多的汇集点,有助于提高晶粒原子凝聚的概率,促进晶粒尺寸超过临界尺寸而顺利成核。此外,尖锐状凸起容易形成晶体生长点,从而能够有效避免晶粒的散乱生长,达到控制晶粒定向生长的目的。(3)本技术弧形凹槽与坩埚底部具有相同的过冷度,有助于同时形成晶核。并且,弧形凹槽及尖锐状凸起可以减少硅晶体成核所需过冷度,有助于均匀成核,使得在现有的铸锭工艺中,无需采用过度提高隔热笼来获得较低的温度,减少了过大的温度梯度对坩埚及涂层的影响,避免了粘埚甚至泄露等生产事故。(4)本技术适用面广,由于坩埚底部外沿部分为弧形凹槽而具有相对较低的温度,对于采用坩埚底部铺设籽晶的生产工艺,则有助于保持该处籽晶不被溶解,从而获得均匀成核。附图说明下面将结合实施例和附图对本技术作进一步的详细描述:图1是本技术实施例一种多晶硅铸锭用坩埚的结构示意图;图2是图1所示实施例中弧形凹槽的截面形状之一;图3是图1所示实施例中弧形凹槽的截面形状之二;图4是图1所示实施例的原理示意图。图中:底面1,侧壁2,凹槽3,弧形3a、3b,凹槽深度H,凹槽宽度W,弧形3a的弧度α,尖锐状凸起4具体实施方式图1~图4所示为本技术一种多晶硅铸锭用坩埚的实施例。如图1所示,本实施例坩埚具有呈平面的底面1和与底面1垂直的侧壁2。坩埚内的底面1上、与侧壁2结合的边沿处为呈周向设置本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种多晶硅铸锭用坩埚,具有呈平面的底面(1)和与底面(1)垂直的侧壁(2);其特征在于:所述坩埚内的底面(1)上、与侧壁(2)结合的边沿处为呈周向设置的凹槽(3),所述凹槽(3)其截面形状为连贯弧形。

【技术特征摘要】
1.一种多晶硅铸锭用坩埚,具有呈平面的底面(1)和与底面(1)垂直的侧壁(2);
其特征在于:所述坩埚内的底面(1)上、与侧壁(2)结合的边沿处为呈周向设置的凹槽
(3),所述凹槽(3)其截面形状为连贯弧形。
2.根据权利要求1所述的多晶硅铸锭用坩埚,其特征在于:所述凹槽(3)的截
面由二段相连的弧形(3a、3b)组成,与侧壁相邻的一侧弧形(3a)的弧度(α)大于或等于
另一侧弧形(3b)的弧度。
3.根据权利要求2所述的多晶硅铸锭用坩埚,其特征在于:所述凹槽(3)的深
度(H)为10~50mm、宽度(W)为20~100mm;所述凹槽(3)与侧壁相邻的一侧弧形(3a)
的弧度(α)为90°。
4.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:常启兵王霞汪永清周健儿
申请(专利权)人:景德镇陶瓷学院
类型:新型
国别省市:江西;36

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