硅铸锭用坩埚及其内侧涂层的制备方法技术

技术编号:9166990 阅读:176 留言:0更新日期:2013-09-19 15:55
本发明专利技术提供一种硅铸锭用坩埚,包括锅壁及形成于所述锅壁内侧并收容铸锭硅料的容腔,所述锅壁内表面上设有氮化硅涂层,所述锅壁内表面还设有一介于所述氮化硅涂层和锅壁内表面之间的氮化硼涂层。与现有技术相比,本发明专利技术所述的坩埚通过在内壁面设置双涂层结构,使得其在隔离熔硅方面更有效果,还可大幅降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅铸锭用坩埚,包括锅壁及形成于所述锅壁内侧并收容铸锭硅料的容腔,所述锅壁内表面上设有氮化硅涂层,其特征在于:所述锅壁内表面还设有一介于所述氮化硅涂层和锅壁内表面之间的氮化硼涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李飞龙许涛翟传鑫
申请(专利权)人:阿特斯中国投资有限公司阿特斯光伏电力洛阳有限公司苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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