The invention relates to an evaporator body with a titanium hydride coating and a method for producing and using the same. An evaporator body (2) for a PVD coating system includes a substrate (4) and an evaporator surface (a two), and the surface of the evaporator is coated with a layer of a titanium hydride with a layer of a layer of titanium dioxide (6). The titanium hydride layer comprises an organic carrier and a titanium hydride as a single inorganic solid. The thickness of the layer is less than or equal to 10 m.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于PVD涂布系统的蒸发器体，所述蒸发器体具有基体，所述基体具有蒸发器表面。本专利技术还涉及生产此类用于PVD涂布系统的蒸发器体的方法，以及使用铝将基底金属化的该蒸发器体的用法。
技术介绍
用于PVD涂布系统的蒸发器体及其生产方法通过所参考专利例如DE102005030862B4而得知。该蒸发器体可用于真空金属化系统中，其中金属借助于PVD(物理气相沉积)技术沉积到基底上。该金属化系统特别用于使用金属、特别是使用铝来涂布柔性基底。薄膜、特别是塑料薄膜可用作基底。涂布材料被持续送到加热的蒸发器体，并且在真空条件下在蒸发器体的蒸发器表面上蒸发。蒸发器体优选地为陶瓷主体，该主体含有硼化钛和氮化硼作为主要成分，并且可通过这些材料的合适混合而被调节至特定的体电阻率，例如，600至6000μΩ·cm。蒸发器体包含硼化钛和氮化硼成分，其含量通常为约50重量％的大致相等的部分，正负误差为约5重量％。通常通过施加加热电流来加热蒸发器体。对于在最高可能处理速度下的持续涂布，蒸发器参数的调节具有决定性意义。特别重要的一点是，蒸发器体的蒸发器表面尽可能均匀并被待蒸发材料、...
【技术保护点】
一种用于PVD涂布系统的蒸发器体(2)，包括基体(4)和在所述基体上的蒸发器表面(6)，并且具有设置在所述蒸发器表面(6)上的氢化钛层(16)，其特征在于所述氢化钛层包含有机载体剂和作为单一无机固体的氢化钛，并且所述氢化钛层(16)的厚度不超过10μm。
【技术特征摘要】
2015.07.24 DE 102015112135.21.一种用于PVD涂布系统的蒸发器体(2)，包括基体(4)和在所述基体上的蒸发器表面(6)，并且具有设置在所述蒸发器表面(6)上的氢化钛层(16)，其特征在于所述氢化钛层包含有机载体剂和作为单一无机固体的氢化钛，并且所述氢化钛层(16)的厚度不超过10μm。2.根据权利要求1所述的蒸发器体(2)，其特征在于所述氢化钛层(16)在有机载体剂中包含氢化钛分散体。3.根据权利要求1或2所述的蒸发器体(2)，其特征在于所述有机载体剂包含合成树脂。4.根据权利要求1至3中任一项所述的蒸发器体(2)，其特征在于所述氢化钛层(16)的厚度为在2μm至8μm范围内、或优选地在4μm至6μm范围内。5.一种用于生产蒸发器体(2)的方法，所述蒸发器体用于PVD涂布系统并具有基体和在所述基体上的蒸发器表面，所述方法包括以下步骤：提供氢化钛和在有机溶剂中的有机载体剂的混悬剂；并且在形成氢化钛层(16)时，将所述混悬剂涂敷到所述蒸发器表面(6)上，其中氢化钛作为所述单一无机固体存在；...
【专利技术属性】
技术研发人员：R格劳，RN亚皮，H施韦格，
申请(专利权)人：肯纳金属公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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