基板导正机构制造技术

本发明专利技术是关于一种基板导正机构，其包括真空吸附平台、X轴导正装置及Y轴导正装置。真空吸附平台供承载至少一基板，基板具有相互垂直的第一边及第二边。X轴导正装置邻设于真空吸附平台的一侧边，对应基板的第一边，X轴导正装置包括驱动单元、X载台及设于X载台上的至少两推抵柱。驱动单元用以驱动X载台移动，使基板的第一边与Y轴线对齐。Y轴导正装置邻设于真空吸附平台的另一侧边，对应基板的第二边，Y轴导正装置包括驱动单元、Y载台及设于Y载台上的至少两推抵柱。驱动单元用以驱动Y载台移动，使基板的第二边与X轴线对齐。真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许基板受推抵柱推挤而移动。本发明专利技术能对基板进行导正作业，降低其歪斜幅度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种导正机构，尤其涉及一种利用X、Y轴导正装置对一基板进行导正的基板导正机构。
技术介绍
一般来说，利用自动搬运机制将一基板搬运到一目的地，不可避免地会出现该基板被歪斜摆放情形，例如利用吸附装置将一液晶面板搬运到一支撑载台的台面上时，位于该台面上的该液晶面板可能是歪斜的。虽然可通过θ方向转动手段(例如转动该台面)，将基板转正，然而，若基板的歪斜幅度太大时，仅通过θ方向转动手段，往往很难将该基板导正到可接受的程度，特别是在精密度要求很高的光学检查场合，例如检查异方性导电胶的导电粒子数量、导电粒子压痕强度等场合。因此，如何提供一种新的导正机制，用以对歪斜平放在一台面上的基板进行导正，以降低该基板的歪斜幅度，乃为当务之急。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基板导正机构，以对基板进行导正作业，降低基板的歪斜幅度。本专利技术的基板导正机构包括：一真空吸附平台，供承载至少一基板，所述基板具有相互垂直的一第一边及一第二边；一X轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的一侧边，对应所述基板的第一边，所述X轴导正装置包括一第一驱动单元、一X载台及设于所述X载台上的至少两第一推抵柱；所述第一驱动单元用以驱动所述X载台移动，以使所述X载台上的所述第一推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板纵向推移至一第一位置，使得所述基板的第一边与一Y轴线对齐；以及一Y轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的另一侧边，对应所述基板的第二边，所述Y轴导正装置包括一第二驱动单元、一Y载台及设于所述Y载台上的至少两第二推抵柱；所述第二驱动单元用以驱动所述Y载台移动，以使所述Y载台上的所述第二推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板横向推移至一第二位置，使得所述基板的第二边与一X轴线对齐；其中，所述真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许所述基板受所述第一推抵柱和所述第二推抵柱推挤而移动，以防止所述基板受推挤时滑移而脱离所述第一推抵柱和所述第二推抵柱。本专利技术的基板导正机构的特点和优点是，其主要包括一X轴导正装置、一Y轴导正装置及一真空吸附平台，并特别利用该X轴导正装置沿X方向推该真空吸附平台上的一基板的一侧边，及利用该Y轴导正装置沿Y方向推该基板的另一侧边，从而能对该基板进行导正作业，降低该基板的歪斜幅度。附图说明以下附图仅旨在于对本专利技术做示意性说明和解释，并不限定本专利技术的范围。其中：图1为本专利技术的基板导正机构的立体结构示意图。图2为本专利技术的基板导正机构的立体分解示意图。图3A至图3C为本专利技术的基板导正机构的第一种动作示意图。图4A至图4C为本专利技术的基板导正机构的第二种动作示意图。主要元件标号说明：100基板导正机构1底座2X轴导正装置21驱动单元210伺服马达211导螺杆22X载台220a前段组接孔220b后段组接孔23推抵柱3Y轴导正装置31驱动单元310伺服马达311导螺杆32Y载台320a前段组接孔320b后段组接孔33推抵柱4、5真空吸附平台40支柱401、501缺槽502沟槽41、51吸附平台本体42、52延伸板6大型基板61长边62短边7小型基板71短边72长边具体实施方式为了对本专利技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本专利技术的具体实施方式。参阅图1至图4C，其为本专利技术的基板导正机构100的一较佳实施例。该基板导正机构100用于对平放于一台面(即X-Y平面)上的一大型基板6(或小型基板7)进行导正作业，以降低该大型基板6(或小型基板7)的歪斜幅度。该大型基板6(或小型基板7)指液晶面板、有机发光二极管面板、印刷电路板、包装用垫板或其它板状物料，亦可泛指大致呈方形或矩形的物体。如图所示，该基板导正机构100大致包括一底座1、设于该底座上方的一X轴导正装置2、堆叠在该X轴导正装置2上方的一Y轴导正装置3以及一真空吸附平台4(或5)。如图2所示，该真空吸附平台4(或5)是通过多支支柱40而架设在底座1的上方，使得前述X轴导正装置2和Y轴导正装置3位于底座1与真空吸附平台4(或5)之间。又真空吸附平台4(或5)主要供承载至少一大型基板6(或小型基板7)。本专利技术提供两种规格的真空吸附平台4(或5)供选用，其中右方的真空吸附平台4供2～7英寸的小型基板7使用，而左方的真空吸附平台5供8～12英寸的大型基板6使用。较佳地，真空吸附平台4或5都是以螺接方式跟该些支柱40连接。该X轴导正装置2搭配该Y轴导正装置3以共同对该大型基板6(或小型基板7)进行导正，待该大型基板6(或小型基板7)被导正后，便能沿着该底座1上的一皮带滑台11将该大型基板6(或小型基板7)直接送往下一工作站，进行下一个制造工艺或检查工序(例如：对芯片-玻璃接合的面板进行异方性导电胶的导电粒子光学检查的工序)。首先，以真空吸附平台4为例，其供承载一大型基板6，该大型基板6具有相互垂直的一长边61及一短边62。该真空吸附平台4具有一吸附平台本体41及延伸自该吸附平台本体41的一延伸板42。该延伸板42加大该真空吸附平台4的承载面积，以确保该大型基板6不会掉落，或是用来撑托连接至该大型基板6周边的软板或硬板(未显示)。该X轴导正装置2邻设于该真空吸附平台4的一侧边，对应该大型基板6的长边61。此外，该X轴导正装置包括一驱动单元21、一X载台22及设于该X载台22上的至少两推抵柱23。其中，该X载台22对应该大型基板6的长边61设有多个组接孔220a及220b(例如螺孔)，供对应的两推抵柱23选择性地插设，以调整该两推抵柱23间的距离。再者，该真空吸附平台4的侧边对应该X载台22设有深浅不一的缺槽401，以供该X载台22上的该些推抵柱23深入(或伸入)该真空吸附平台4，以推抵该大型基板6的长边61。此外，该驱动单元21包括一伺服马达210及一导螺杆211，该伺服马达210用以驱动该导螺杆211旋转，借以带动螺设在该导螺杆211上的该X载台22位移。如此，该X载台22上的两推抵柱23便能纵向推移该真空吸附平台4上的该大型基板6至一第一位置，如图3B所示，使得该大型基板6的长边61与一Y轴线对齐。另一方面，该Y轴导正装置3邻设于该真空吸附平台4的另一侧边，对应该大型基板6的短边。此外，该Y轴导正装置3包括一驱动单元31、一Y载台32及设于该Y载台32上的至少两推抵柱33。其中，该Y载台32对应该大型基板6的短边62设有多个组接孔320a及320b(例如螺孔)，供对应的两推抵柱33选择性地插设。再者，该真空吸附平台4的侧边对应该Y载台32的组接孔320a及320b分别设有深浅不一的缺槽，以供该Y载台32上的该些推抵柱33深入(或伸入)该真空吸附平台4，以推抵该大型基板6的短边62。该驱动单元31包括一伺服马达310及一导螺杆311，该伺服马达310用以驱动该导螺杆311旋转，借以带动设在该导螺杆311上的该Y载台32位移。如此，该Y载台32上的两推抵柱33便能横向推移该真空吸附平台4上的该大型基板6至一第二位置，如图3C所示，使得该大型基板6的短边62与一X轴线对齐。值得特别注意的是，该真空吸附平台4并非完全吸住该大型基板6，让大型基板6不能移动，而是控制在提供一适当吸力，允许该大型基板6受该些推抵柱23、33推挤而移动。如此，当该大型基板6本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板导正机构，其特征在于，所述基板导正机构包括：一真空吸附平台，供承载至少一基板，所述基板具有相互垂直的一第一边及一第二边；一X轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的一侧边，且对应所述基板的第一边，所述X轴导正装置包括一第一驱动单元、一X载台及设于所述X载台上的至少两第一推抵柱；所述第一驱动单元用以驱动所述X载台移动，以使所述X载台上的所述第一推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板纵向推移至一第一位置，使得所述基板的第一边与一Y轴线对齐；以及一Y轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的另一侧边，且对应所述基板的第二边，所述Y轴导正装置包括一第二驱动单元、一Y载台及设于所述Y载台上的至少两第二推抵柱；所述第二驱动单元用以驱动所述Y载台移动，以使所述Y载台上的所述第二推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板横向推移至一第二位置，使得所述基板的第二边与一X轴线对齐；其中，所述真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许所述基板受所述第一推抵柱和所述第二推抵柱推挤而移动，以防止所述基板受推挤时滑移而脱离所述第一推抵柱和所述第二推抵柱。

【技术特征摘要】
1.一种基板导正机构，其特征在于，所述基板导正机构包括：一真空吸附平台，供承载至少一基板，所述基板具有相互垂直的一第一边及一第二边；一X轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的一侧边，且对应所述基板的第一边，所述X轴导正装置包括一第一驱动单元、一X载台及设于所述X载台上的至少两第一推抵柱；所述第一驱动单元用以驱动所述X载台移动，以使所述X载台上的所述第一推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板纵向推移至一第一位置，使得所述基板的第一边与一Y轴线对齐；以及一Y轴导正装置，邻设于所述真空吸附平台的另一侧边，且对应所述基板的第二边，所述Y轴导正装置包括一第二驱动单元、一Y载台及设于所述Y载台上的至少两第二推抵柱；所述第二驱动单元用以驱动所述Y载台移动，以使所述Y载台上的所述第二推抵柱对所述真空吸附平台上的所述基板横向推移至一第二位置，使得所述基板的第二边与一X轴线对齐；其中，所述真空吸附平台被控制在提供一吸力，允许所述基板受所述第一推抵柱和所述第二推抵柱推挤而移动，以防止所述基板受推挤时滑移而脱离所述第一推抵柱和所述第二推抵柱。2.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述X轴导正装置的X载台对应所述基板的第一边设有多个第一组接孔，多个所述第一组接孔供对应的所述第一推抵柱选择性地插设。3.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述Y轴导正装置的Y载台对应所述基板的第二边设有多个第二组接孔，多个所述第二组接孔供对应的所述第二推抵柱选择性地插设。4.如权利要求1所述的基板导正机构，其特征在于，所述真空吸附平台供承载两所述基板，所述X轴导正装置的X载台对应两所述基板的第一边分别设有一排第一前段组接孔及一排第一后段组接孔，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：李长浩，
申请(专利权)人：旭东机械工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71