阵列基板及阵列基板上扇出导线的制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供阵列基板及阵列基板上扇出导线的制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够减小阵列基板的扇出线路的线间距，制备出满足窄边框技术要求的阵列基板。本发明专利技术的阵列基板包括：基板；设置于基板上的栅绝缘层；设置于栅绝缘层上的扇出线路，扇出线路包括多条扇出导线，扇出导线包括设置于栅绝缘层上的非晶硅层、欧姆接触层以及源漏极层，扇出导线是通过在源漏极层上形成第一光刻胶，并对第一光刻胶进行半曝光显影工艺后，对非晶硅层、欧姆接触层、源漏极层、第一光刻胶采用刻蚀工艺，然后剥离第一光刻胶，形成第二光刻胶，对第二光刻胶进行全曝光显影工艺，以及对非晶硅层采用刻蚀工艺所形成的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及阵列基板及阵列基板上扇出导线的制作方法、显示装置。
技术介绍
随着科技的不断进步，用户对显示设备的需求日益增加，TFT-IXD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜场效应晶体管液晶显示器)也成为了手机、平板电脑等产品中使用的主流显示器。此外，随着显示设备的普及，用户对高色彩质量、高对比度、高可视角度、高响应速度且低功耗的需求越来越普遍，OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示器也开始逐渐进入用户的视野。对于当今显示设备行业，显示设备的窄边框化已经是一种发展趋势。窄边框技术要求阵列基板的扇出(Fanout)区域面积尽可能的小，也就是要求扇出线路的线间距尽可能的小，其中，扇出区域位于显示设备的面板(Panel)的周边位置。然而，采用现有技术制作而成的扇出线路的线间距最小为7 10 μ m左右，并不能满足窄边框的技术要求。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及阵列基板上扇出导线的制作方法，能够减小阵列基板的扇出线路的线间距，制备出满足窄边框技术要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；设置于所述基板上的栅绝缘层；设置于所述栅绝缘层上的扇出线路，所述扇出线路包括多条扇出导线，所述扇出导线包括设置于所述栅绝缘层上的非晶硅层、欧姆接触层以及源漏极层，所述扇出导线是通过在所述源漏极层上形成第一光刻胶，并对所述第一光刻胶进行半曝光显影工艺后，对所述非晶硅层、欧姆接触层、源漏极层、第一光刻胶采用刻蚀工艺，然后剥离第一光刻胶，形成第二光刻胶，对所述第二光刻胶进行全曝光显影工艺，以及对非晶硅层采用刻蚀工艺所形成的。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：白金超，孙亮，丁向前，李梁梁，刘耀，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：