【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本申请案主张2013年8月28日申请的第61/871,260号美国临时申请案的权利,所述申请案的全部内容在此以引用的方式并入。
本专利技术涉及图形处理,且更具体地说涉及用于路径再现的技术。
技术介绍
路径再现可指代二维(2D)向量图形路径(在本文中替代地被称作“路径”)的再现,所述路径中的每一者可包含一或多个路径片段。当路径包含两个或两个以上路径片段时,个别路径片段可具有相同类型或不同类型。路径片段的类型可包含(例如)线、椭圆形弧、二次贝塞尔曲线和三次贝塞尔曲线。在一些实例中,路径片段类型可根据例如开放向量图形(OpenVG)API等标准向量图形应用程序编程接口(API)来定义。路径再现可在中央处理单元(CPU)中实施。然而,此方法可为CPU密集的,且因此可限制可用于其它CPU任务的CPU处理循环的量。此外,在一些情况下,相对较大量的数据可需要传送到图形处理单元(GPU)以用所要的细节水平再现路径片段。相对较大量的数据在存储数据时可消耗大量存储器存储空间,且在将数据传送到GPU时可消耗大量的存储器带宽。
技术实现思路
本专利技术包含用于使用路径填充和划短划线产生图形数据的技术。举例来说,在填充路径时,根据本专利技术的各方面,GPU可能以一速率执行模板印刷(stenciling)操作,所述速率不同于为所再现数据(被称作再现目标)分配存储器的速率。也就是说,可独立于用于存储所再现数据的再现目标参数指定用于执行模板操 ...
【技术保护点】
一种再现图形数据的方法,所述方法包括:使用图形处理单元GPU确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段的所述当前片段的所述纹理偏移是基于在所述次序中先于所述当前片段的片段的长度累加;及像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.08.28 US 61/871,260;2014.07.01 US 14/321,4091.一种再现图形数据的方法,所述方法包括:
使用图形处理单元GPU确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,
其中所述多个经排序片段的所述当前片段的所述纹理偏移是基于在所述次序中先
于所述当前片段的片段的长度累加;及
像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个片段包含一或多个可见片段和一或多个
不可见片段,所述方法进一步包括:
基于所述当前片段的所确定的位置来确定所述当前片段是否是可见片段;及
基于所述确定保持或舍弃所述当前片段。
3.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:
在确定所述当前片段的所述纹理偏移之前,几何形状着色所述虚线以形成所述多
个经排序片段;及
确定所述当前片段的长度值,以使得基于所述长度累加确定所述纹理偏移包括基
于所述长度值确定所述纹理偏移。
4.根据权利要求3所述的方法,其中确定所述长度值包括产生指定在所述次序中的先
前片段的长度的线长标量值。
5.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:
光栅化所述多个经排序片段中的每一所述片段,
其中应用所述纹理偏移包括在所述当前片段已光栅化之后将所述纹理偏移应用
到所述光栅化当前片段。
6.根据权利要求1所述的方法,其中应用所述纹理偏移包括确定指示所述位置的用于
所述当前片段的纹理坐标值。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述像素着色包含在用于所述虚线的包含描画所
\t述虚线的路径再现过程中。
8.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:在所述片段的几何形状着色期间确定
所述片段的所述次序,以使得所述片段的所述次序是基元次序。
9.一种用于再现图形数据的设备,所述设备包括图形处理单元GPU,所述图形处理
单元经配置以:
确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段
中的所述当前片段的所述纹理偏移是基于在所述次序中先于所述当前片段的片段
的长度的累加;及
像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。
10.根据权利要求9所述的设备,其中所述多个片段包含一或多个可见片段和一或多个
不可见片段,所述GPU经进一步配置以:
基于所述当前片段的所确定的位置来确定所述当前片段是否是可见片段;及
基于所述确定保持或舍弃所述当前片段。
11.根据权利要求9所述的设备,其中所述GPU进一步经配置以:
在确定所述当前片段的所述纹理偏移之前,几何形状着色所述虚线以形成所述多
个经排序片段;及
确定所述当前片段的长度值,以使得基于所述长度累加确定所述纹理偏移包括基
于所述长度值确定所述纹理偏移。
12.根据权利要求11所述的设备,其中为了确定所述长度值,所述GPU经配置以产生
指定在所述次序中的先前片段的长度的线长标量值。
13.根据权利要求9所述的设备,其中所述GPU进一步经配置以:
光栅化所述多个经排序片段中的每一所述片段,
其中为了应用所述纹理偏移,所述GPU经配置以在所述当前片段已光栅化之后
将所述纹理偏移应用到所述光栅化当前片段。
14.根据权利要求9所述的设备,其中为了应用所述纹理偏移,所述GPU经配置以确
\t定指示所述位置的用于所述当前片段的纹理坐标值。
15.根据权利要求9所述的设备,其中所述像素着色包含在用于所述虚线的包含描画所
述虚线的路径再现过程中。
16.根据权利要求9所述的设备,其中所述GPU经进一步配置以在所述片段的几何形
状着色期间确定所述片段的所述次序,以使得所述片段的所述次序是基元次序。...
【专利技术属性】
技术研发人员:维尼特·戈尔,尤萨梅·杰伊兰,
申请(专利权)人:高通股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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