图形处理中的像素化求和长度制造技术

技术编号:14504938 阅读:61 留言:0更新日期:2017-01-31 13:46
在实例中,再现图形数据包含:使用图形处理单元GPU确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段中的所述当前片段的所述纹理偏移基于在次序中先于所述当前片段的片段的长度累加;及像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本申请案主张2013年8月28日申请的第61/871,260号美国临时申请案的权利,所述申请案的全部内容在此以引用的方式并入。
本专利技术涉及图形处理,且更具体地说涉及用于路径再现的技术。
技术介绍
路径再现可指代二维(2D)向量图形路径(在本文中替代地被称作“路径”)的再现,所述路径中的每一者可包含一或多个路径片段。当路径包含两个或两个以上路径片段时,个别路径片段可具有相同类型或不同类型。路径片段的类型可包含(例如)线、椭圆形弧、二次贝塞尔曲线和三次贝塞尔曲线。在一些实例中,路径片段类型可根据例如开放向量图形(OpenVG)API等标准向量图形应用程序编程接口(API)来定义。路径再现可在中央处理单元(CPU)中实施。然而,此方法可为CPU密集的,且因此可限制可用于其它CPU任务的CPU处理循环的量。此外,在一些情况下,相对较大量的数据可需要传送到图形处理单元(GPU)以用所要的细节水平再现路径片段。相对较大量的数据在存储数据时可消耗大量存储器存储空间,且在将数据传送到GPU时可消耗大量的存储器带宽。
技术实现思路
本专利技术包含用于使用路径填充和划短划线产生图形数据的技术。举例来说,在填充路径时,根据本专利技术的各方面,GPU可能以一速率执行模板印刷(stenciling)操作,所述速率不同于为所再现数据(被称作再现目标)分配存储器的速率。也就是说,可独立于用于存储所再现数据的再现目标参数指定用于执行模板操作的模板参数。另外,关于划短划线,根据本专利技术的各方面,GPU可在单一再现遍次中确定短划线特性并执行划短划线。举例来说,所述GPU可在确定片段时计算所述片段中的每一者的长度并应用所述长度信息来确定每一短划线片段的起始位置(例如,纹理坐标)。在实例中,一种再现图形数据的方法包含:确定模板参数,所述模板参数指示用于确定图像的路径的每一图形保真像素的覆盖值的取样速率;单独地根据所述模板参数确定再现目标参数,所述再现目标参数指示用于所述路径的每一图形保真像素的存储器分配;及使用模板参数和再现目标参数再现路径。在另一实例中,一种用于再现图形的设备包含图形处理单元(GPU),所述GPU经配置以确定模板参数,所述模板参数指示用于确定图像的路径的每一图形保真像素的覆盖值的取样速率;单独地根据模板参数确定再现目标参数,所述再现目标参数指示用于路径的每一图形保真像素的存储器分配;及使用模板参数和再现目标参数再现路径。在另一实例中,一种用于再现图形数据的设备包含:用于确定模板参数的装置,所述模板参数指示用于确定图像的路径的每一图形保真像素的覆盖值的取样速率;用于单独地根据模板参数确定再现目标参数的装置,所述再现目标参数指示用于路径的每一图形保真像素的存储器分配;及用于使用模板参数和再现目标参数再现路径的装置。在另一实例中,一种非暂时性计算机可读媒体上存储有在执行时引起图形处理单元(GPU)进行以下操作的指令:确定模板参数,所述模板参数指示用于确定图像的路径的每一图形保真像素的覆盖值的取样速率;单独地根据所述模板参数确定再现目标参数,所述再现目标参数指示用于路径的每一图形保真像素的存储器分配;及使用模板参数和再现目标参数再现路径。在另一实例中,一种再现图形数据的方法包含:使用图形处理单元(GPU)确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移基于次序先于所述当前片段的片段的长度累加;及像素着色(pixelshading)所述当前片段,包含应用纹理偏移以确定所述当前片段的位置。在另一实例中,一种用于再现图形数据的设备包含图形处理单元(GPU),所述GPU经配置以进行以下操作:确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移基于次序先于当前片段的片段的长度累加;及像素着色当前片段,包含应用纹理偏移以确定当前片段的位置。在另一实例中,一种再现图形数据的设备包含:用于使用图形处理单元(GPU)确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移的装置,其中所述多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移基于次序先于所述当前片段的片段的长度累加;及用于像素着色所述当前片段的装置,所述像素着色包含应用纹理偏移以确定所述当前片段的位置。在另一实例中,一种非暂时性计算机可读媒体上存储有在执行时引起图形处理单元(GPU)经配置以进行以下操作的指令:确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移基于次序先于所述当前片段的片段的长度累加;及像素着色所述当前片段,包含应用纹理偏移以确定当前片段的位置。在附图和下文描述中陈述本专利技术的一或多个实例的细节。本专利技术的其它特征、目标和优点将从所述描述和图式以及权利要求书显而易见。附图说明图1为说明可用于实施本专利技术的技术的实例计算装置的框图。图2是进一步详细说明图1中的计算装置的CPU、GPU和存储器的框图。图3是说明可用于执行本专利技术的技术的实例图形管线的概念图。图4是待再现的实例路径的图。图5A至5C是说明用于图4中所展示的路径的填充操作的实例序列的图。图6是说明模板印刷操作的概念图。图7是说明根据本专利技术的各方面的实例填充操作的概念图。图8是说明根据本专利技术的各方面的再现期间的带宽的曲线图。图9A至9D是说明用于图4中所展示的路径的实例划短划线操作的一系列图。图10是说明根据本专利技术的各方面的用于再现图形数据的实例过程的流程图。图11是说明根据本专利技术的各方面的用于划短划线的实例过程的流程图。具体实施方式本专利技术是针对用于执行基于GPU的路径再现的技术。路径再现可指代二维(2D)向量图形路径(在本文中替代地被称作“路径”)的再现,所述路径中的每一者可包含一或多个路径片段。当路径包含两个或两个以上路径片段时,个别路径片段可具有相同类型或不同类型。路径片段的类型可包含(例如)线、椭圆形弧、二次贝塞尔曲线和三次贝塞尔曲线。在一些实例中,路径片段类型可根据例如开放向量图形(OpenVG)API等标准向量图形应用程序编程接口(API)来定义。GPU通常实施三维(3D)图形管线,其经设计以与一或多个3D图形API顺应。因为当今在使用的流行的3D图形API并不需要顺应装置支持路径再现命令,所以现代的GPU常常提供极少甚至不提供用于路径再现命令的硬件加速。举例来说,现代的GPU中实施的典型3D图形管线可包含光栅化器,其经设计以光栅化低阶非弯曲3D图形基元(例如点、线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种再现图形数据的方法,所述方法包括:使用图形处理单元GPU确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段的所述当前片段的所述纹理偏移是基于在所述次序中先于所述当前片段的片段的长度累加;及像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.08.28 US 61/871,260;2014.07.01 US 14/321,4091.一种再现图形数据的方法,所述方法包括:
使用图形处理单元GPU确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,
其中所述多个经排序片段的所述当前片段的所述纹理偏移是基于在所述次序中先
于所述当前片段的片段的长度累加;及
像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个片段包含一或多个可见片段和一或多个
不可见片段,所述方法进一步包括:
基于所述当前片段的所确定的位置来确定所述当前片段是否是可见片段;及
基于所述确定保持或舍弃所述当前片段。
3.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:
在确定所述当前片段的所述纹理偏移之前,几何形状着色所述虚线以形成所述多
个经排序片段;及
确定所述当前片段的长度值,以使得基于所述长度累加确定所述纹理偏移包括基
于所述长度值确定所述纹理偏移。
4.根据权利要求3所述的方法,其中确定所述长度值包括产生指定在所述次序中的先
前片段的长度的线长标量值。
5.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:
光栅化所述多个经排序片段中的每一所述片段,
其中应用所述纹理偏移包括在所述当前片段已光栅化之后将所述纹理偏移应用
到所述光栅化当前片段。
6.根据权利要求1所述的方法,其中应用所述纹理偏移包括确定指示所述位置的用于
所述当前片段的纹理坐标值。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述像素着色包含在用于所述虚线的包含描画所

\t述虚线的路径再现过程中。
8.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:在所述片段的几何形状着色期间确定
所述片段的所述次序,以使得所述片段的所述次序是基元次序。
9.一种用于再现图形数据的设备,所述设备包括图形处理单元GPU,所述图形处理
单元经配置以:
确定虚线的多个经排序片段中的当前片段的纹理偏移,其中所述多个经排序片段
中的所述当前片段的所述纹理偏移是基于在所述次序中先于所述当前片段的片段
的长度的累加;及
像素着色所述当前片段,包含应用所述纹理偏移以确定所述当前片段的位置。
10.根据权利要求9所述的设备,其中所述多个片段包含一或多个可见片段和一或多个
不可见片段,所述GPU经进一步配置以:
基于所述当前片段的所确定的位置来确定所述当前片段是否是可见片段;及
基于所述确定保持或舍弃所述当前片段。
11.根据权利要求9所述的设备,其中所述GPU进一步经配置以:
在确定所述当前片段的所述纹理偏移之前,几何形状着色所述虚线以形成所述多
个经排序片段;及
确定所述当前片段的长度值,以使得基于所述长度累加确定所述纹理偏移包括基
于所述长度值确定所述纹理偏移。
12.根据权利要求11所述的设备,其中为了确定所述长度值,所述GPU经配置以产生
指定在所述次序中的先前片段的长度的线长标量值。
13.根据权利要求9所述的设备,其中所述GPU进一步经配置以:
光栅化所述多个经排序片段中的每一所述片段,
其中为了应用所述纹理偏移,所述GPU经配置以在所述当前片段已光栅化之后
将所述纹理偏移应用到所述光栅化当前片段。
14.根据权利要求9所述的设备,其中为了应用所述纹理偏移,所述GPU经配置以确

\t定指示所述位置的用于所述当前片段的纹理坐标值。
15.根据权利要求9所述的设备,其中所述像素着色包含在用于所述虚线的包含描画所
述虚线的路径再现过程中。
16.根据权利要求9所述的设备,其中所述GPU经进一步配置以在所述片段的几何形
状着色期间确定所述片段的所述次序,以使得所述片段的所述次序是基元次序。...

【专利技术属性】
技术研发人员:维尼特·戈尔尤萨梅·杰伊兰
申请(专利权)人:高通股份有限公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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