一种乙烯-乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种乙烯‑乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法，包括：1)使用紫外灯照射结合十二烷基硫酸钠溶液对二氧化硅基片进行预处理；2)将乙烯‑乙烯醇共聚物与有机溶剂按一定比例共混溶解，配置均质乙烯‑乙烯醇共聚物溶液；3)通过离心旋转结合相分离技术将所得乙烯‑乙烯醇共聚物溶液均匀涂覆于二氧化硅基片表面，之后将其置于真空恒温环境中进行热处理，即可获得乙烯‑乙烯醇共聚物石英晶体芯片；4)最后通过简单的物化方法实现二氧化硅基片的多次循环使用。该方法操作简单，实用性强，成功率高，实现了二氧化硅基片表面纳米级厚度乙烯‑乙烯醇共聚物的涂覆，获得了性能稳定的乙烯‑乙烯醇共聚物石英晶体芯片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于石英晶体微天平芯片开发领域，主要涉及一种乙烯-乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法。
技术介绍
乙烯-乙烯醇共聚物是一种由憎水性的乙烯和亲水性的乙烯醇链段组成的半结晶无规共聚物，其具有出色的阻气、耐热、耐油、耐有机溶剂、抗静电性以及与血液的良好相容性等特点，且是一种富含羟基的亲水性聚合物，因此乙烯-乙烯醇共聚物作为膜材料被应用于超滤及微滤低压分离膜的制备。但是，在实际应用过程中，乙烯-乙烯醇共聚物分离膜污染问题是限制其高效低耗运行的主要瓶颈。而探明污染物在乙烯-乙烯醇共聚物分离膜界面的吸附累积过程及吸附层结构特征，是进行乙烯-乙烯醇共聚物分离膜污染防控的必要前提。在诸多的分析方法中，耗散型石英晶体微量天平(QCM-D)技术是考察污染物在固体界面吸附行为及吸附层结构特征最为直观的技术手段，引起了膜污染研究者的广泛关注。QCM-D测试过程是：污染物流过石英晶体芯片表面，测试系统通过芯片振动频率及耗散值的在线监测，获得污染物在石英晶体芯片表面的吸附行为及吸附层结构特征。显然，石英晶体芯片是QCM-D技术的核心组成部分。但是商业化的石英晶体芯片表面通常为二氧化硅和金材料，因此使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种乙烯‑乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)基片预处理：将二氧化硅基片在紫外灯下照射，接着将其浸渍于十二烷基硫酸钠溶液中，之后将二氧化硅基片置于超纯水中超声处理，最后用超纯水充分漂洗二氧化硅基片，并用氮气吹干，待用；2)配置均质乙烯‑乙烯醇共聚物溶液：将乙烯‑乙烯醇共聚物与有机溶剂按照质量百分比为8—15％：85—92％的比例在20—40℃下搅拌溶解，20℃下静置脱泡，得到均质乙烯‑乙烯醇共聚物溶液，待用；3)乙烯‑乙烯醇共聚物功能层涂覆：将步骤1)所得二氧化硅基片固定于设有加热板的离心旋转平台上，接着将体积为8—15μL步骤2)所得乙烯‑乙烯醇共聚物溶液置于二...

【技术特征摘要】
1.一种乙烯-乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)基片预处理：将二氧化硅基片在紫外灯下照射，接着将其浸渍于十二烷基硫酸钠溶液中，之后将二氧化硅基片置于超纯水中超声处理，最后用超纯水充分漂洗二氧化硅基片，并用氮气吹干，待用；2)配置均质乙烯-乙烯醇共聚物溶液：将乙烯-乙烯醇共聚物与有机溶剂按照质量百分比为8—15％：85—92％的比例在20—40℃下搅拌溶解，20℃下静置脱泡，得到均质乙烯-乙烯醇共聚物溶液，待用；3)乙烯-乙烯醇共聚物功能层涂覆：将步骤1)所得二氧化硅基片固定于设有加热板的离心旋转平台上，接着将体积为8—15μL步骤2)所得乙烯-乙烯醇共聚物溶液置于二氧化硅基片表面，在50℃的恒温环境中离心旋转，将乙烯-乙烯醇共聚物均匀涂覆于二氧化硅基片表面；4)热处理：将步骤3)所得涂覆有乙烯-乙烯醇共聚物的二氧化硅基片在80—90℃的真空环境中静置30—60min，超纯水充分漂洗后用氮气吹干，即获得乙烯-乙烯醇共聚物石英晶体芯片。2.根据权利要求1所述的一种乙烯-乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法，其特征在于，将二氧化硅基片在波长为185nm的紫外灯下照射10min。3.根据权利要求1所述的一种乙烯-乙烯醇共聚物石英晶体芯片的制备方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：苗瑞，王磊，邓东旭，王佳璇，吕永涛，朱苗，刘婷婷，王旭东，
申请(专利权)人：西安建筑科技大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61