废显影液再生装置和废显影液再生方法制造方法及图纸

废显影液再生装置，它备有　　　　移送含有四烷铵氢氧化物和光致抗蚀剂的废显影液的废显影液移送部分，　　　　贮存上述移送的废显影液的第１贮存槽，　　　　具有第１毫微过滤膜，将贮存在上述第１贮存槽中的废显影液分离成含有四烷铵氢氧化物的第１透过液和第１非透过成分的第１分离装置，　　　　贮存上述第１透过液的第２贮存槽，和　　　　具有与上述第１毫微过滤膜不同的分离分子量的第２毫微过滤膜，将贮存在上述第２贮存槽中的第１透过液分离成第２透过液和含有四烷铵氢氧化物的第２非透过成分的第２分离装置。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
从来，当制造半导体，液晶，印刷电路基板等的电子部品时，作为薄膜形成工序采用在Si晶片等基片上形成负型或正型光致抗蚀剂的薄膜，作为照射工序采用通过图形掩模照射光等，其次作为显影工序用显影液溶解不要的光致抗蚀剂，进一步作为刻蚀工序进行刻蚀处理后，作为剥离工序采用剥离基片上的不溶性光致抗蚀剂膜的制造工序。用于上述显影工序的显影液通常用四烷铵氢氧化物(以下称为“ATTH”)。所以在显影工序排出的废显影液中包含溶解的光致抗蚀剂和TAAH。作为处理这种废显影液的方法之一，日本平成11年公布的11-262765号专利公报中揭示了含有TAAH的废液的前期处理方法和再生方法。在同一专利公报中记载的含有TAAH的废液的前期处理方法和再生方法中，用适当的酸中和含有TAAH的废液，析出废液中的光致抗蚀剂。其次，将这种含有TAAH的废液导入膜分离装置分离并除去固形成分(主要是光致抗蚀剂)。通过用蒸发器浓缩在膜分离装置中除去了固形成分的含有TAAH的溶液，使含有TAAH的溶液浓缩和减小体积化。进一步，用电透析法对这种不包含固形成分并且经过中和的含有TAAH的溶液进行再生。而且，在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：小川修，小早川泰之，北川悌也，菊川诚，
申请(专利权)人：长濑产业株式会社，长濑CMS科学技术株式会社，
类型：发明
国别省市：