干版显影槽清洗液及清洗方法技术

本发明专利技术涉及一种干版显影槽清洗液及清洗方法，清洗液成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水，且硝酸铈铵：高氯酸：去离子水＝１－１３ｇ：１－２０ｍｌ：２５－２０００ｍｌ。显影槽清洗方法包括如下步骤：（１）将显影槽中的废显影液排出后，用去离子水清洗显影槽，清洗完毕后将废液排出：（２）将上述的干版显影槽清洗液注入显影槽中清洗，清洗完毕后将废清洗液回收；（３）在显影槽内加入无磷清洗剂，用去离子水冲洗显影槽，直到无泡沫为止。采用本发明专利技术提供的干版显影槽清洗液，可以快速有效地去除黑色银离子和强氧化性残留物，从而防止在显影过程中干版表面产生黑点类或霉点类缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及干版显影槽清洗技术，更具体地说，涉及一种干版显影槽清洗液及清 洗方法。
技术介绍
显影槽是指干版或其它银盐产品显影装载显影液的专用容器。干版是掩膜版行业 中常用的用于记载图形、文字信息的超微粒银盐玻璃板。使用装载显影液的显影槽显影的 过程是一个化学反应过程，显影后易在显影槽的槽底和槽壁残留一些黑色银离子和强氧化 性残留物，如果清洗不干净，再次使用显影槽时，残留在槽内的黑色银离子和强氧化性残留 物就会混合在显影液中，在显影过程中聚合在干版的表面从而产生黑点类或霉点类缺陷， 从而影响干版的品质。传统采用高锰酸钾、浓硫酸及去离子水配制而成的混合型强氧化性 溶液清洗显影槽，该种清洗液利用高锰酸钾在酸性条件下，所体现得强氧化性能来去除所 需物质，但是这种清洗液存在配置风险高、稳定性能差、去除Ag不强、清洗液配制时间较长 等缺点。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，提供一种，以快速 有效地去除显影槽内的黑色银离子和强氧化性残留物。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是构造一种干版显影槽清洗液，其 成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水，且硝酸铈铵高氯酸去离子水=l_13g本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干版显影槽清洗液，其特征在于，其成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水，且硝酸铈铵：高氯酸：去离子水＝１－１３ｇ：１－２０ｍｌ：２５－２０００ｍｌ。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杜武兵，杨建平，
申请(专利权)人：深圳市路维电子有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]