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干版显影槽清洗液及清洗方法技术
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文档序号:4046929
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本发明涉及一种干版显影槽清洗液及清洗方法,清洗液成分包括硝酸铈铵、高氯酸和去离子水,且硝酸铈铵:高氯酸:去离子水=1-13g:1-20ml:25-2000ml。显影槽清洗方法包括如下步骤:(1)将显影槽中的废显影液排出后,用去离子水清洗显影...
该专利属于深圳市路维电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市路维电子有限公司授权不得商用。
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