【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及酸性水，特别是在杀菌、半导体制造工序中可用作洗涤、反应材料等的酸性水。
技术介绍
对水赋予特定的功能而得到的水也被称为功能水，被用于半导体装置的制造工序等中。例如，含有氢的氢水可用于除去微粒，而含有二氧化碳的碳酸水可用于防静电。或者，过氧化氢水、含有臭氧的臭氧水在半导体装置的制造工序中被用于除去有机物、半导体晶片的洗涤等。另外，已知通过在具有隔膜的电解槽中电解含少量盐类的水，来制造显示酸性的酸性水和显示碱性的碱性水。但是，在臭氧水的情况下，使用后的臭氧水中所含的臭氧会分解，必须使其不会对人体或周围环境产生不良影响。可获得大的作用的高浓度过氧化氢水是危险品，操作需要小心。另外，在对添加了各种盐作为电解质的水进行电解而获得的酸性水中，由于含有来源于所添加的盐的物质，因此用所得到的酸性水进行处理后，必须用超纯水等进行洗涤，以除去所含有的物质。因此，JP-A-10-286571中提出了以下方案，即，通过在阳离子交换膜的两面分别粘接了阳极和阴极的固体电解质型电解槽中，使用不含电解质的超纯水进行电解，来提供酸性水、碱性水。但是，所获得的酸性水的酸度不足，使用...
【技术保护点】
酸性水，其特征在于，其中含有负电荷氧原子，且酸度高于ｐＨ５。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：鸟本善章，小谷伸始，
申请(专利权)人：株式会社日本氧化，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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