掩膜板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种掩膜板，该掩膜板包括图形部分和边框部分，还包括：切割线结构，所述切割线结构作为所述图形部分和所述边框部分的分界线，沿着所述切割线结构的延伸方向，所述掩膜板能够被折断；未刻蚀部分，位于所述切割线结构的至少一个端部区域或中间区域，所述未刻蚀部分到所述掩膜板边缘的距离大于预设长度值。通过本实用新型专利技术，达到了有效地缓解手动折断掩膜板而产生的边缘褶皱或翘起的发生的效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，尤其是涉及一种掩膜板。
技术介绍
精细金属掩膜(FMM Mask)模式是通过蒸镀方式将OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)背板上，利用FMM上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。在使用FMM Mask的过程中，需要将先对FMM Mask进行张网和拉伸，再将其焊接到金属框架上，因此FMM Mask在制作时需要预留出多余部分供拉伸时使用，焊接完成后再将多余部分去除。目前的FMM Mask生产工艺中，是在多余部分的边缘预先刻蚀出切割线(Cutting Line)，焊接完成后由人工沿着切割线将多余部分折断，其中，切割线是采用半刻蚀工艺形成的，因此其并没有刻透FMM Mask，这样设计的目的是保持FMM Mask的足够硬度以避免轻易折断，相对不刻蚀的方法又适当减小了FMM Mask的硬度以方便折断。对于FMM Mask上的切割线(Cutting Line)设计方式，目前主要采用在FMM Mask上设计非贯穿的Cutting Line设计，即在Cutting Line的两个边缘分别预留一未刻蚀区域(宽度为100μm左右)，以此方式达到增加Cutting Line位置区域的强度，但是未刻蚀区域的存在会增加手动折断多余部分时的难度，即使折断也很容易在Cutting Line边缘产生褶皱或翘起，褶皱或翘起的区域会影响FMM Mask和待蒸镀基板的接触，最终容易使显示基板产生较大的阴影(Shadow)，降低产品良率。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种可以防止在折断精细金属掩膜的切割线的过程中容易在切割线边缘产生褶皱或翘起的技术方案。为了达到上述目的，本技术提供了一种掩膜板，包括图形部分和边框部分，还包括：切割线结构，所述切割线结构作为所述图形部分和所述边框部分的分界线，沿着所述切割线结构的延伸方向，所述掩膜板能够被折断；未刻蚀部分，位于所述切割线结构的至少一个端部区域或中间区域，所述未刻蚀部分到所述掩膜板边缘的距离大于预设长度值。优选地，还包括：开口结构，位于所述切割线结构在延伸方向上的至少一个端部区域，所述开口结构在所述切割线结构延伸方向上的宽度小于所述预设长度值，所述切割线结构在延伸方向上的延长线贯穿所述开口结构。优选地，所述开口结构包括：分别位于所述切割线结构在延伸方向上的两个端部区域的第一开口和第二开口。优选地，所述第一开口在所述切割线结构延伸方向上的第一宽度与所述第二开口在所述切割线结构延伸方向上的第二宽度的范围为0.5mm～1mm。优选地，所述第一宽度与所述第二宽度相等。优选地，所述第一开口和所述第二开口的形状均为矩形。优选地，所述第一开口垂直于所述切割线结构延伸方向的第一侧边的中点和所述第二开口垂直于所述切割线结构延伸方向的第二侧边的中点之间的连线与所述切割线结构的延伸线重合。优选地，所述第一开口靠近所述图形部分且平行于所述切割线结构延伸方向的第三侧边和所述第二开口靠近所述图形部分且平行于所述切割线结构延伸方向的第四侧边的连线与所述切割线结构的延伸方向重合。优选地，当所述未刻蚀部分位于所述切割线结构在延伸方向上的中间区域时，所述未刻蚀部分包括第一未刻蚀子部分和第二未刻蚀子部分，所述第一未刻蚀子部分和所述第二未刻蚀子部分将所述切割线结构分割为三部分。优选地，所述第一未刻蚀子部分与所述第二未刻蚀子部分相对于所述切割线结构延伸方向对称，且相对于所述切割线结构的中垂线对称。与现有技术相比，本技术所述的掩膜板，可以有效地缓解手动折断掩膜板而产生的边缘褶皱或翘起的发生，使掩膜板和玻璃基板接触良好，从而避免蒸镀完成的显示面板出现阴影，进而提高显示面板的产品良率。附图说明图1是根据现有技术的掩膜板的结构示意图；图2是根据本技术实施例的一种掩膜板的结构示意图；图3是根据本技术实施例的另一种掩膜板的结构示意图；图4是根据本技术实施例的又一种掩膜板的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。目前，为了增加掩膜板的强度以防止掩膜板折断，很多厂商采用未贯穿的切割线设计，掩膜板的两侧边缘预留一定宽度(例如，100μm)的未刻蚀区，但是在手动切除掩膜板多余部分的时候，由于两侧未刻蚀区的存在，中间部分先折断，两侧部分后折断，在中间部分折断和两侧部分未折断的过程中，由于手动施力的原因，很容易使两侧未刻蚀区域产生褶皱或翘起，影响掩膜板和基板的接触状态。为便于理解，请参考图1(图1是根据现有技术的掩膜板的结构示意图)，如图1所示，两侧的虚线框区域即为在手动弯折掩膜板过程中容易发生褶皱或翘起的区域。可以看出现有技术中，在切割线区域设置未刻蚀区域的方式不仅增加手动折断多切割线的难度，而且容易在切割线的边缘产生褶皱或翘起，因此本技术提出一种改进结构的掩膜板。本技术实施例提供的掩膜板，包括图形部分和边框部分，其还包括：切割线结构，所述切割线结构作为所述图形部分和所述边框部分的分界线，沿着所述切割线结构的延伸方向，所述掩膜板能够被折断；未刻蚀部分，位于所述切割线结构的至少一个端部区域或中间区域，所述未刻蚀部分到所述掩膜板边缘的距离大于预设长度值。在本技术实施例中，未刻蚀部分的宽度可以与现有设计方式下的未刻蚀区域的宽度相当，例如，100um左右，但是未刻蚀部分的位置却发生了改变，如图1所示，现有技术中未刻蚀区域位于掩膜板的边缘位置，掩膜板的边缘即为未刻蚀区域的外侧边缘，也就是说，未刻蚀区域的外侧边缘与掩膜板的边缘之间的距离是0。然而，本技术实施例中，未刻蚀部分的外侧边缘与掩膜板的边缘之间是存在一定距离的，该距离的大小可以根据工艺需求进行设定，即大于预设长度值即可。在本技术实施例中，未刻蚀部分的位置可以有两种情况：(1)未刻蚀部分仍然位于所述切割线结构的端部，假设未刻蚀部分有1个，其可以位于所述切割线结构的任意一个端部区域，假设未刻蚀部分有2个，则该2个未刻蚀部分可以分别位于所述切割线结构的两个端部区域，但是需要注意的是，不管是设置了1个未刻蚀部分还是2个未刻蚀部分，其虽然位于所述切割线结构的端部区域，但其外侧边缘与掩膜板的边缘是具有一定距离的。(2)未刻蚀部分位于所述切割线结构的中间区域，举例而言，如果未刻蚀部分有1个，其会将所述切割线结构分割为两段，如果未刻蚀部分有2个，其会将所述切割线结构分割为三段。可以看出，相对于现有技术，未刻蚀部分的设置位置由掩膜板的边缘移动到边缘靠里的位置，这样一来，在保证掩膜板的硬度的同时，可以避免折断掩膜板边缘时容易产生的褶皱。相比于现有技术，本技术实施例中，还可以在掩膜板板上增加设置一个开口结构，该开口结构可以位于所述切割线结构在延伸方向上的至少一个端部区域，所述开口结构在所述切割线结构延伸方向上的宽度小于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，包括图形部分和边框部分，其特征在于，还包括：切割线结构，所述切割线结构作为所述图形部分和所述边框部分的分界线，沿着所述切割线结构的延伸方向，所述掩膜板能够被折断；未刻蚀部分，位于所述切割线结构的至少一个端部区域或中间区域，所述未刻蚀部分到所述掩膜板边缘的距离大于预设长度值。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括图形部分和边框部分，其特征在于，还包括：切割线结构，所述切割线结构作为所述图形部分和所述边框部分的分界线，沿着所述切割线结构的延伸方向，所述掩膜板能够被折断；未刻蚀部分，位于所述切割线结构的至少一个端部区域或中间区域，所述未刻蚀部分到所述掩膜板边缘的距离大于预设长度值。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，还包括：开口结构，位于所述切割线结构在延伸方向上的至少一个端部区域，所述开口结构在所述切割线结构延伸方向上的宽度小于所述预设长度值，所述切割线结构在延伸方向上的延长线贯穿所述开口结构。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述开口结构包括：分别位于所述切割线结构在延伸方向上的两个端部区域的第一开口和第二开口。4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口在所述切割线结构延伸方向上的第一宽度与所述第二开口在所述切割线结构延伸方向上的第二宽度的范围为0.5mm～1mm。5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一宽度与所述第二宽度相等...

【专利技术属性】
技术研发人员：林治明，王震，黄俊杰，张健，周猛，
申请(专利权)人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙古;15