氢氧化钕的生产工艺制造技术

氢氧化钕的生产工艺，其特征在于由氧化钕和水反应生成，生成物经过烘干。水的用量最好为氧化钕重量的１～１０倍，反应的起始温度最好在５０℃以上。本发明专利技术得到的产品中不含有阴离子杂质，产品的稀土总量（以氧化物计）达到８５．５％，接近理论量。省去了过滤、粉碎工序，简化了工艺，降低了生产成本。产品不需要粉碎，产品粒度分布窄，Ｄ５０小于１．０μｍ。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
氢氧化钕的生产工艺                             
本专利技术涉及氢氧化钕的生产工艺。                             
技术介绍
计算机、手机、数码相机、光纤通信、微波通信以及汽车等终端产品都离不开功能陶瓷元件。功能陶瓷元件有多层陶瓷电容器、光纤通信用的光效放大器、光隔离器、微波通信用的微波铁氧体以及连接光纤套圈等。超微氢氧化钕主要用于多层陶瓷电容器，它具有纯度高、粒度小、粒度分布窄等优点，它们的掺入可大大提高功能陶瓷元件的性能。传统生产氢氧化钕的方法是氧化钕用硝酸溶解转化成硝酸镧，硝酸镧加入到氨水中沉淀，沉淀物用水洗涤除去硝酸根，然后过滤、烘干、粉碎得到氢氧化钕产品。该方法的主要缺点是：1、氢氧化钕洗涤困难；2、产品含有硝酸根离子，以氧化物计总稀土的量较难达到84.0％-86.0％的指标；3、氢氧化钕过滤困难，容易穿滤；4、烘干物料结块，需要粉碎；5、粉碎的产品粒度分布不好。以下为传统方法生产的产品主要指标：主要指标  指标TREO(以氧化物计总稀土的量)  81.0％-83.5％NO3  2.5％-5.0％D50(50％重量或本文档来自技高网...

【技术保护点】
氢氧化钕的生产工艺，其特征在于由氧化钕和水反应生成，生成物经过烘干。

【技术特征摘要】
1、氢氧化钕的生产工艺，其特征在于由氧化钕和水反应生成，生成物经过烘干。2、根据权利要求1所述的工艺，其特征在于水的用量为氧化钕重量的1～10倍。3、根据权利要求1所述的工艺，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞小源，马勇，柯阳，达建文，陈璠，王庆杰，
申请(专利权)人：淄博华庆粉体材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：37[中国|山东]