一种部分氧化工艺烧嘴及其应用制造技术

本发明专利技术公布了一种部分氧化工艺烧嘴及其应用，所述烧嘴主要由内到外依次设置的气化剂通道、辅助气化剂通道、燃料通道和保护燃料通道组成。本发明专利技术提出的部分氧化工艺烧嘴应用于气态烃转化炉中，可以保护喷嘴端面不受高温合成气的冲刷烧蚀，使得烧嘴形成的火焰温度低且分布均匀，高温火焰远离烧嘴端面，从而使喷嘴端面的温度显著降低，无需烧嘴冷却水即可对烧嘴起到保护作用，同时烧嘴法兰温度低。本发明专利技术提供的烧嘴具有结构简单、寿命长、适用范围广等优点，具有十分广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
201610017677

【技术保护点】
一种部分氧化工艺烧嘴，其特征在于，包括由内而外依次设置的气化剂通道(1)、辅助气化剂通道(2)、燃料通道(3)以及保护燃料通道(4)；所述保护燃料通道(4)由燃料通道(3)的外壁(5)与转化炉喷嘴筒体耐火砖内壁(6)构成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：代正华，王辅臣，于广锁，刘海峰，龚欣，王亦飞，梁钦锋，许建良，郭庆华，陈雪莉，李伟锋，王兴军，郭晓镭，赵辉，陆海峰，龚岩，刘霞，王立，李新宇，
申请(专利权)人：华东理工大学，
类型：发明
国别省市：上海;31