彩色滤光片基板及制作方法与液晶显示面板技术

一种彩色滤光片基板及制作方法与液晶显示面板，其中该彩色滤光片基板包括衬底，该衬底的一侧设有色阻层、黑矩阵和屏蔽电极，该屏蔽电极由导电材料制成，该彩色滤光片基板具有显示区和位于该显示区四周外围的非显示区，该屏蔽电极与该黑矩阵在该显示区和该非显示区均具有完全相同的图案，该屏蔽电极与该黑矩阵上下相互贴合接触且完全重叠在一起。本实施例中可以利用一张光罩一次曝光实现黑矩阵和屏蔽电极的同时制作，无需增加制作屏蔽电极的光罩，降低生产成本，避免对位问题，屏蔽电极还可通过导电胶从屏蔽电极的侧表面与阵列基板上的公共电极导通，不会因为密封胶涂布不良而漏光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示的
，特别是涉及一种彩色滤光片基板及制作方法与液晶显示面板。
技术介绍
液晶显示面板(liquid crystal display，LCD)具有画质好、体积小、重量轻、低驱动电压、低功耗、无辐射和制造成本相对较低的优点，在平板显示领域占主导地位。液晶显示面板包括相对设置的彩色滤光片基板和薄膜晶体管阵列基板以及夹置在两者之间的液晶层。一般情况下，当用户从不同的视角观看液晶显示面板的屏幕时，图像的亮度会随着视角的增加而减小。传统的扭曲向列型(Twisted Nematic，TN)的液晶显示面板，公共电极和像素电极分别形成在上下两个不同的基板上，液晶分子在一个与基板垂直的平面内旋转。然而，TN型液晶显示面板的视角比较窄。为实现宽视角，采用水平电场的平面内切换型(In-Plane Switching，IPS)和采用边缘电场的边缘电场切换型(Fringe Field Switching，FFS)的液晶显示面板被开发出来。针对IPS型或FFS型的液晶显示面板，公共电极和像素电极是形成在同一基板(即薄膜晶体管阵列基板)上，液晶分子在与基板大致平行的平面内旋转从而获得更广的视角。在现有技术中，通常会在彩色滤光片基板上制作ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)层，该ITO层与阵列基板上的公共电极电性导通，以消除外部静电对IPS、FFS型液晶显示面板的影响，防止产生静电云纹(Mura)现象。但是，在这种方法中，由于彩色滤光片基板上的ITO层与阵列基板上的公共电极导通，使得彩色滤光片基板上的ITO层与阵列基板上的像素电极之间存在比较强的垂直电场，对液晶分子在平面内转动具有一定的抑制作用，使得液晶显示面板的穿透率降低、响应时间拉长。中国专利申请第201130241819.3号即公开了一种彩色滤光片基板，包括：基板、屏蔽电极、黑矩阵、彩膜层以及平坦化层；屏蔽电极设置于基板的内侧面；黑矩阵设置于屏蔽电极下方的非密封胶区域；彩膜层设置于基板的内侧面没有被黑矩阵和屏蔽电极覆盖的区域；平坦化层设置于彩膜层以及黑矩阵的下方并覆盖黑矩阵和彩膜层。该屏蔽电极可以防止静电的发生，而且该屏蔽电极采用图案化结构，与像素电极上下错开，使该屏蔽电极在与像素电极相对应的位置镂空，降低了屏蔽电极与像素电极之间的垂直电场，有利于提高穿透率和缩短响应时间，降低饱和电压和降低功耗。但是，上述的彩色滤光片基板仍存在以下问题：(1)、屏蔽电极形成在基板与黑矩阵之间，在涂布密封胶区域未设置黑矩阵，但是设置有屏蔽电极，黑矩阵和屏蔽电极的图案不完全相同，导致需要增加制作屏蔽电极的光罩，需要溅射、光阻涂布、曝光、显影、刻蚀、去光阻的制作过程，延长了整个制程的时间，使得成本大大提高；(2)、屏蔽电极制作形成在黑矩阵之前，因为屏蔽电极为透明电极，在接着做黑矩阵时，黑矩阵与屏蔽电极之间的对位会有问题；(3)、黑矩阵在密封胶区域要挖开，如果密封胶涂布精度不良，很可能导致出现漏光问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种彩色滤光片基板及制作方法，以解决现有彩色滤光片基板在设置屏蔽电极时，制程复杂、成本高以及存在对位和漏光的问题。本专利技术实施例提供一种彩色滤光片基板，包括衬底，该衬底的一侧设有色阻层、黑矩阵和屏蔽电极，该屏蔽电极由导电材料制成，该彩色滤光片基板具有显示区和位于该显示区四周外围的非显示区，该屏蔽电极与该黑矩阵在该显示区和该非显示区均具有完全相同的图案，该屏蔽电极与该黑矩阵上下相互贴合接触且完全重叠在一起。进一步地，该色阻层和该黑矩阵形成在该衬底一侧的表面上，该屏蔽电极设置在该黑矩阵下方。进一步地，该色阻层和该黑矩阵形成在该衬底一侧的表面上，该屏蔽电极设置在该黑矩阵下方，该屏蔽电极下方还重叠设有另一层黑矩阵。进一步地，该色阻层和该屏蔽电极形成在该衬底一侧的表面上，该黑矩阵设置在该屏蔽电极下方。本专利技术实施例还提供一种液晶显示面板，包括第一基板、与该第一基板相对设置的第二基板以及位于该第一基板与该第二基板之间的液晶层，该第一基板为上述的彩色滤光片基板，该第二基板为薄膜晶体管阵列基板，该第二基板上设有公共电极和像素电极，该第一基板上的屏蔽电极与该第二基板上的公共电极通过导电胶上下导电相连，其中该导电胶与该屏蔽电极的侧表面导电连接。本专利技术实施例还提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括在衬底的一侧制作形成色阻层、黑矩阵和屏蔽电极，该屏蔽电极由导电材料制成，该彩色滤光片基板具有显示区和位于该显示区四周外围的非显示区，其中该屏蔽电极与该黑矩阵在该显示区和该非显示区均具有完全相同的图案，该屏蔽电极与该黑矩阵上下相互贴合接触且完全重叠在一起。在其中一个实施例中，该制作方法具体包括：在该衬底上涂布一层BM负性光阻层；在该BM负性光阻层上涂布一层正性光阻层；利用制作该黑矩阵的BM光罩对该正性光阻层进行曝光；对经过曝光的该正性光阻层进行显影，移除被曝光位置的该正性光阻层并在被曝光位置露出该BM负性光阻层；在该正性光阻层和露出的该BM负性光阻层上沉积一层导电材料层；对该导电材料层进行蚀刻，使该导电材料层覆盖该正性光阻层的侧面被完全蚀刻掉；剥离移除该正性光阻层，同时移除覆盖在该正性光阻层正面的该导电材料层，仅在被曝光位置保留该导电材料层作为该屏蔽电极；对该BM负性光阻层进行显影，仅在被曝光位置保留该BM负性光阻层作为该黑矩阵。在另一个实施例中，该制作方法具体包括：在该衬底上涂布一层BM负性光阻层；在该BM负性光阻层上沉积一层导电材料层；在该导电材料层上涂布一层负性光阻层；利用制作该黑矩阵的BM光罩对该负性光阻层进行曝光；对经过曝光的该负性光阻层进行显影，移除未被曝光位置的该负性光阻层并在未被曝光位置露出该导电材料层；对露出的该导电材料层进行蚀刻移除，仅在被曝光位置保留该导电材料层作为该屏蔽电极；剥离移除该负性光阻层；对该BM负性光阻层进行显影，仅在被曝光位置保留该BM负性光阻层作为该黑矩阵。在又一个实施例中，该制作方法具体包括：在该衬底上涂布第一层BM负性光阻层；在该BM负性光阻层上沉积一层导电材料层；在该导电材料层上涂布第二层BM负性光阻层；利用制作该黑矩阵的BM光罩对该第二层BM负性光阻层进行曝光；对经过曝光的该第二层BM负性光阻层进行显影，移除未被曝光位置的该第二层BM负性光阻层并在未被曝光位置露出该导电材料层，同时仅在被曝光位置保留该第二层BM负性光阻层作为其中一层该黑矩阵；对露出的该导电材料层进行蚀刻移除并露出下方的该第一层BM负性光阻层，仅在被曝光位置保留该导电材料层作为该屏蔽电极；对该第一层BM负性光阻层进行显影，仅在被曝光位置保留该第一层BM负性光阻层作为另一层该黑矩阵。在又一个实施例中，该制作方法具体包括：在该衬底上沉积一层导电材料层；在该导电材料层上涂布一层BM负性光阻层；利用制作该黑矩阵的BM光罩对该BM负性光阻层进行曝光；对经过曝光的该BM负性光阻层进行显影，移除未被曝光位置的该BM负性光阻层并在未被曝光位置露出该导电材料层，同时仅在被曝光位置保留该BM负性光阻层作为该黑矩阵；对露出的该导电材料层进行蚀刻移除，仅在被曝光位置保留该导电材料层作为该屏蔽电极。本专利技术实施例提供的彩色滤光片基板及制作方法，在彩色滤光片基板的内侧设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片基板(11)，包括衬底(110)，该衬底(110)的一侧设有色阻层(112)、黑矩阵(113)和屏蔽电极(114)，该屏蔽电极(114)由导电材料制成，该彩色滤光片基板(11)具有显示区(A)和位于该显示区(A)四周外围的非显示区(B)，其特征在于，该屏蔽电极(114)与该黑矩阵(113)在该显示区(A)和该非显示区(B)均具有完全相同的图案，该屏蔽电极(114)与该黑矩阵(113)上下相互贴合接触且完全重叠在一起。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片基板(11)，包括衬底(110)，该衬底(110)的一侧设有色阻层(112)、黑矩阵(113)和屏蔽电极(114)，该屏蔽电极(114)由导电材料制成，该彩色滤光片基板(11)具有显示区(A)和位于该显示区(A)四周外围的非显示区(B)，其特征在于，该屏蔽电极(114)与该黑矩阵(113)在该显示区(A)和该非显示区(B)均具有完全相同的图案，该屏蔽电极(114)与该黑矩阵(113)上下相互贴合接触且完全重叠在一起。2.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板(11)，其特征在于，该色阻层(112)和该黑矩阵(113)形成在该衬底(110)一侧的表面上，该屏蔽电极(114)设置在该黑矩阵(113)下方。3.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板(11)，其特征在于，该色阻层(112)和该黑矩阵(113)形成在该衬底(110)一侧的表面上，该屏蔽电极(114)设置在该黑矩阵(113)下方，该屏蔽电极(114)下方还重叠设有另一层黑矩阵(113)。4.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板(11)，其特征在于，该色阻层(112)和该屏蔽电极(114)形成在该衬底(110)一侧的表面上，该黑矩阵(113)设置在该屏蔽电极(114)下方。5.一种液晶显示面板，包括第一基板(11)、与该第一基板(11)相对设置的第二基板(12)以及位于该第一基板(11)与该第二基板(12)之间的液晶层(13)，其特征在于，该第一基板(11)为权利要求1至4任一项所述的彩色滤光片基板(11)，该第二基板(12)为薄膜晶体管阵列基板，该第二基板(12)上设有公共电极(125)和像素电极(127)，该第一基板(11)上的屏蔽电极(114)与该第二基板(12)上的公共电极(125)通过导电胶(14)上下导电相连，其中该导电胶(14)与该屏蔽电极(114)的侧表面导电连接。6.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括在衬底(110)的一侧制作色阻层(112)、黑矩阵(113)和屏蔽电极(114)，该屏蔽电极(114)由导电材料制成，该彩色滤光片基板(11)具有显示区(A)和位于该显示区(A)四周外围的非显示区(B)，其中该屏蔽电极(114)与该黑矩阵(113)在该显示区(A)和该非显示区(B)均具有完全相同的图案，该屏蔽电极(114)与该黑矩阵(113)上下相互贴合接触且完全重叠在一起。7.根据权利要求6所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，该制作方法具体包括：在该衬底(110)上涂布一层BM负性光阻层(113a)；在该BM负性光阻层(113a)上涂布一层正性光阻层(21)；利用制作该黑矩阵(113)的BM光罩(30)对该正性光阻层(21)进行曝光；对经过曝光的该正性光阻层(21)进行显影，移除被曝光位置的该正性光阻层(21)并在被曝光位置露出该BM负性光阻层(113a)；在该正性光阻层(21)和露出的该BM负性光阻层(113a)上沉积一层导电材料层(114a)；对该导电材料层(114a)进行蚀刻，使该导电材料层(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟德镇，廖家德，苏子芳，黄丽玉，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32