蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，包括下座体和上座体，所述上座体包括底座和位于底座上的喷头；所述下座体的一侧端和底座的一侧端通过铰接件相连，下座体的另一侧端和底座的另一侧端通过紧固件相连；所述下座体具有顶面空腔，所述底座具有底面空腔，顶面空腔和底面空腔形成用于贯穿入介质管道的管体容纳腔；所述喷头沿铅垂线方向开设有与底面空腔相贯通的介质通道，介质通道的轴线方向与管体容纳腔的轴线方向相垂直，靠近底面空腔的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔中的介质管道上的介质输出孔相匹配。有益效果：采用垂直喷向板面的除胶方式，将线路间干膜清洗干净，大幅降低残留干膜不良率，减少油墨杂质不良。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种喷嘴装置，特别是涉及一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，属于蚀刻线除胶段用零部件

技术介绍
蚀刻线除胶段原有喷嘴自带15度的喷洒角度，使用在图形完成后的除胶段极易导致干膜卡夹在线路间，直接导致防焊时油墨杂质不良，所以如何减少蚀刻线除胶段除胶残留是亟待解决的问题。
技术实现思路
本技术的主要目的在于，克服现有技术中的不足，提供一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，特别适用于蚀刻线除胶段。本技术所要解决的技术问题是提供结构紧凑、拆装方便、制作容易、安全可靠、实用性强的蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，实现由原有倾斜喷洒方式改为垂直喷向板面，从而将线路间干膜清洗干净，大幅降低残留干膜不良率，减少油墨杂质不良，且具有产业上的利用价值。为了达到上述目的，本技术所采用的技术方案是：一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，包括下座体和上座体，所述上座体包括底座和位于底座上的喷头；所述下座体的一侧端和底座的一侧端通过铰接件相连，下座体的另一侧端和底座的另一侧端通过紧固件相连。其中，所述下座体具有顶面空腔，所述底座具有底面空腔，顶面空腔和底面空腔形成用于贯穿入介质管道的管体容纳腔；所述喷头沿铅垂线方向开设有与底面空腔相贯通的介质通道，介质通道的轴线方向与管体容纳腔的轴线方向相垂直，靠近底面空腔的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔中的介质管道上的介质输出孔相匹配。本技术进一步设置为：所述喷头的底部设置有卡入介质管道上介质输出孔的导向部。本技术进一步设置为：所述介质通道包括依次贯通的引流段、输送段和喷出段，所述引流段靠近底面空腔，所述喷出段为自由端、用于朝向蚀刻线除胶段；所述引流段、输送段和喷出段的横截面尺寸依次增大设置。本技术进一步设置为：所述下座体和上座体均为PVDF材料制成。本技术进一步设置为：所述底座和喷头一体成型。本技术进一步设置为：所述喷头和介质通道同轴设置。本技术进一步设置为：所述紧固件包括锁紧相连的螺栓和螺母。本技术进一步设置为：所述底座的另一侧端开设有底座螺栓孔，所述下座体的另一侧端开设有下座体螺栓孔；所述螺栓依次贯穿过底座螺栓孔和下座体螺栓孔后用螺母锁紧。与现有技术相比，本技术具有的有益效果是：通过下座体和上座体的设置，其中上座体包括底座和喷头，开设于喷头的介质通道与提供除胶介质的介质管道相垂直，将原有倾斜喷洒方式改为垂直喷向板面的除胶方式，让干膜由原来的两侧和后方滑落，改为全部从后方滑落，使得喷嘴与板面之间不再存在除胶死角，从而将线路间干膜清洗干净，大幅降低残留干膜不良率，减少油墨杂质不良。上述内容仅是本技术技术方案的概述，为了更清楚的了解本技术的技术手段，下面结合附图对本技术作进一步的描述。附图说明图1为本技术蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置的俯视结构示意图；图2为本技术蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置中上座体的正视结构示意图；图3为图1的A-A方向的结构剖示图。具体实施方式下面结合说明书附图，对本技术作进一步的说明。如图1、图2及图3所示，一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，包括均为PVDF（聚偏氟乙烯）材料制成的下座体1和上座体2，所述上座体2包括底座21和位于底座上的喷头22；所述下座体1的一侧端和底座21的一侧端通过铰接件3相连，下座体1的另一侧端和底座21的另一侧端通过紧固件（图中未示出）相连。所述紧固件可选用锁紧相连的螺栓和螺母，在底座21的另一侧端开设底座螺栓孔211，在下座体1的另一侧端开设下座体螺栓孔11；下座体1和底座21通过螺栓依次贯穿过底座螺栓孔211和下座体螺栓孔11后用螺母锁紧实现固定相连。如图3所示，所述下座体1具有顶面空腔10，所述底座21具有底面空腔20，顶面空腔10和底面空腔20形成用于贯穿入介质管道（图中未示出）的管体容纳腔4；所述喷头22沿铅垂线方向开设有与底面空腔20相贯通的介质通道5，介质通道5的轴线方向与管体容纳腔4的轴线方向相垂直，靠近底面空腔20的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔4中的介质管道上的介质输出孔相匹配。图3所示的底座21和喷头22一体成型，喷头22和介质通道5同轴设置。如图2所示，所述喷头22的底部设置有卡入介质管道上介质输出孔的导向部221，便于达到紧密连接。如图3所示，所述介质通道5包括依次贯通的引流段51、输送段52和喷出段53，所述引流段51靠近底面空腔20，所述喷出段53为自由端、用于朝向蚀刻线除胶段；所述引流段51、输送段52和喷出段53的横截面尺寸依次增大设置，有利于介质输送和顺畅喷洒向板面。本技术的创新点在于，将原有倾斜喷洒方式改为垂直喷向板面的除胶方式，使得喷嘴与板面之间不再存在除胶死角，从而将线路间干膜清洗干净。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术作任何形式上的限制，虽然本技术已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本技术，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本技术技术方案范围内，当可利用上述揭示的
技术实现思路
做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本技术技术方案的内容，依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何的简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，其特征在于：包括下座体和上座体，所述上座体包括底座和位于底座上的喷头；所述下座体的一侧端和底座的一侧端通过铰接件相连，下座体的另一侧端和底座的另一侧端通过紧固件相连；所述下座体具有顶面空腔，所述底座具有底面空腔，顶面空腔和底面空腔形成用于贯穿入介质管道的管体容纳腔；所述喷头沿铅垂线方向开设有与底面空腔相贯通的介质通道，介质通道的轴线方向与管体容纳腔的轴线方向相垂直，靠近底面空腔的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔中的介质管道上的介质输出孔相匹配。

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，其特征在于：包括下座体和上座体，所述上座体包括底座和位于底座上的喷头；所述下座体的一侧端和底座的一侧端通过铰接件相连，下座体的另一侧端和底座的另一侧端通过紧固件相连；所述下座体具有顶面空腔，所述底座具有底面空腔，顶面空腔和底面空腔形成用于贯穿入介质管道的管体容纳腔；所述喷头沿铅垂线方向开设有与底面空腔相贯通的介质通道，介质通道的轴线方向与管体容纳腔的轴线方向相垂直，靠近底面空腔的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔中的介质管道上的介质输出孔相匹配。2.根据权利要求1所述的蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，其特征在于：所述喷头的底部设置有卡入介质管道上介质输出孔的导向部。3.根据权利要求1所述的蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置，其特征在于：所述介质通道包括依次贯通的引流段、输送段和喷出段，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：周爱华，
申请(专利权)人：昆山沪利微电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32