【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及超薄片光学零件加工
，具体涉及一种紫外超薄片上盘工艺方法。
技术介绍
光学零件的整个加工制造过程是研磨、抛光过程，平面薄片的上盘工艺是整个研磨过程中相当重要的步骤。现有的超薄片的加工，其采用热上方式。利用电热板加热铝垫板，并在垫板上涂一层热熔胶，放上清洁干净的零件后把铝垫板从电热板上移除冷却后即可进行研磨、抛光过程。零件研磨、抛光完成后需把铝垫板放到电热板上加热，待胶融化后才能取下零件。采用现有的热上方式，零件加工完成后，下盘表面面形变化大，不能获得好的面形精度。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述技术问题提供一种紫外超薄片上盘工艺方法。本专利技术通过下述技术方案实现：一种紫外超薄片上盘工艺方法，包括上盘方法和下盘方法，所述上盘方法包括以下步骤：a1、在清洁干净的零件表面滴紫外胶；b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上，并放在紫外光下照射以初步固化；c1、将其放于紫外光下再次固化；所述下盘方法包括：a2、将其放于紫外光下照射至少半小时；b2、取出后将其放于热水中浸泡。本专利技术的超薄片上盘工艺采用冷上的方法，利用紫外胶将超薄片固定在光学垫板上，并利用冷光源紫外光对其固化，上盘过程中不需要加热，以减小粘结应力，有利于控制零件面型；在下盘时，直接利用紫外光长时间照射，破坏固化紫外胶之间的分子键，再利用热水浸泡软化紫外胶即可直接将超薄片取下。所述上盘方法中，步骤b1时，在紫外光灯下照射时间为2至3秒。在对紫外胶再次固化时，其照射时间不宜过长，长时间照射，紫外胶的分子键会遭破坏，使得超薄片的粘结强度受到影响，进而影响超薄片的加工工序，...
【技术保护点】
一种紫外超薄片上盘工艺方法，其特征在于，包括上盘方法和下盘方法，所述上盘方法包括以下步骤：a1、在清洁干净的零件表面滴紫外胶；b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上，并放在紫外光下照射以初步固化；c1、将其放于紫外光下再次固化；所述下盘方法包括：a2、将其放于紫外光中照射至少半小时；b2、取出后将其放于热水中浸泡。
【技术特征摘要】
1.一种紫外超薄片上盘工艺方法，其特征在于，包括上盘方法和下盘方法，所述上盘方法包括以下步骤：a1、在清洁干净的零件表面滴紫外胶；b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上，并放在紫外光下照射以初步固化；c1、将其放于紫外光下再次固化；所述下盘方法包括：a2、将其放于紫外光中照射至少半小时；b2、取出后将其放于热水中浸泡。2.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈兴建，江宗宇，
申请(专利权)人：成都贝瑞光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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