一种具有抗静电的磨砂保护膜及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种具有抗静电的磨砂保护膜及制备方法，方便用户快捷体验。本发明专利技术的磨砂保护膜自上而下包括：磨砂层、基材、抗静电层；磨砂层采用高分子量聚丙烯蜡，涂布于基材面上，厚度为2～7μm，透光率92％；基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯，厚度为50～100μm；抗静电层为聚醚酯酰胺，厚度为3～10μm。本发明专利技术不仅防遭窥、汗渍、指纹，而且具有较高的抗静电效果防止静电摩擦，便于推广应用，可实现工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种保护膜制造技术，具体说，是特别涉及一种多功能的磨砂保护膜。
技术介绍
随着手机的发展，手机保护膜也随之发展起来。市场上最先出现的是高透保护膜，随后出现了磨砂保护膜，磨砂保护膜显然弥补了高透保护膜的彩虹纹、触感弱、反光等缺点。随着市面的需要，也出现了镜面、防窥、钢化、钻石等保护膜，但还不能满足市场的需要。也相信很多人都会烦恼遭窥、汗渍、指纹等现象，本专利技术能有效的解决，增强私密性，减少刺目炫光、手感稳、有效抵御指纹侵袭，防刮度高。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种具有抗静电的磨砂保护膜，不仅优化国内市场产品功能单一，而且方便用户快捷体验。为达到上述目的，本专利技术采用以下方案：一种具有抗静电的磨砂保护膜，磨砂保护膜自上而下包括：磨砂层、基材、抗静电层；磨砂层采用高分子量聚丙烯蜡，涂布于基材面上，厚度为2～7μm，透光率92％，雾度0.5～3％；基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯薄膜(PP)、聚氯乙烯薄膜(PVC)、PE膜中的一种，厚度为50～100μm；抗静电层为聚环氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有机磷酸酯、聚醚酯酰胺、聚乙二醇中的一种或几种混合，厚度为3～10μm。在一些实施例中，所述基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜。在一些实施例中，所述抗静电层的组成及重量份为：聚醚酯酰胺 1～10份，制备中加入溶剂 25～40份；所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯或丁酮的一种及混配物，制备后挥发掉；述抗静电层涂布于基材下面。在一些实施例中，所述磨砂层通过微凹辊涂布、网纹辊或喷刷方式，涂布于基材上面。在一些实施例中，所述抗静电层涂布工艺微凹辊涂布、网纹辊、逗号式刮刀或Slot～Die，优选逗号式刮刀涂布。一种具有抗静电的磨砂保护膜的制备方法，方法如下：磨砂层涂布：在基材的上面涂布磨砂层，涂布工艺为微凹辊涂布、网纹辊或喷刷方式，优选网纹辊涂布，形成磨砂层湿膜，经过热固，UV能量为500mJ/cm2，得到磨砂层；抗静电层涂布：在1000级无尘车间，将基材下面电晕处理，进行抗静电层涂布，涂布工艺为微凹辊涂布、网纹辊、逗号式刮刀或Slot～Die，制备中加入溶剂，形成抗静电层湿膜，经过烤箱，溶剂挥发，并烤干后形成抗静电层干膜。在一些实施例中，所述磨砂层涂布工艺为网纹辊涂布；所述抗静电层涂布工艺为逗号式刮刀涂布。本专利技术不仅防遭窥、汗渍、指纹，而且具有较高的抗静电效果防止静电摩擦，保持清洁度，方便用户保护视力、保护私密信息、不宜滑落摔屏体验。涂布设备简单，操作方便，成本低廉，便于推广应用，可实现工业化生产。附图说明图1为本专利技术实施例的结构示意图。附图标记说明：磨砂层10，基材20，抗静电层30。具体实施方式为能进一步了解本专利技术的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本专利技术的优点与精神，藉由以下通过实施例对本专利技术做进一步的阐述。本专利技术的抗静电的磨砂保护膜，从上至下分别包括一层磨砂层10，一层基材20，一层抗静电层30。磨砂层10用于防眩光、抵御指纹侵袭，解决触感问题等，其原料为高分子量聚丙烯蜡，通过微凹辊涂布、网纹辊或喷刷方式，涂布于基材20层上面；磨砂层10厚度为2～7μm，透光率92％，雾度0.5～3％。基材20可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯薄膜(PP)、聚氯乙烯薄膜(PVC)、PE膜中的一种，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)；基材20厚度为50～100μm之间。抗静电层30置于基材20下面，用于减少工作人员或用户与膜之间的静电摩擦，又不宜吸附四周尘埃、杂物，很好的保持洁净度。抗静电层30为聚环氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有机磷酸酯、聚醚酯酰胺、聚乙二醇中的一种或几种混合；优选聚醚酯酰胺，涂布工艺可以为微凹辊涂布、网纹辊、逗号式刮刀或Slot～Die，优选逗号式刮刀涂布，涂布于基材20层下面。抗静电层30厚度为3～10μm，涂布厚度越厚抗静电效果越佳。抗静电层原料组成配比统计表(重量份)原料A组B组C组D组E组聚环氧乙烷23仲烷基磺酸化合物的衍生物85改性有机磷酸酯135聚醚酯酰胺12聚乙二醇21溶剂3528383033注：溶剂制备后挥发掉。本专利技术的涂布工艺如下：磨砂层10涂布：在基材20的上面涂布磨砂层10，涂布工艺可以微凹辊涂布、网纹辊或喷刷方式，优选网纹辊涂布；形成磨砂层10湿膜，经过热固，UV能量为500mJ/cm2，得到磨砂层10；抗静电层30涂布：在1000级无尘车间，将基材20电晕处理面为涂布面，进行抗静电层30涂布，涂布工艺可以为微凹辊涂布、网纹辊、逗号式刮刀或Slot～Die，优选逗号式刮刀涂布；制备中加入溶剂，形成的抗静电层30湿膜经过烤箱，溶剂挥发，并烤干后形成抗静电层30干膜。以上所述实施例仅表达了本专利技术的部分实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本专利技术范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本专利技术的保护范围。因此，本专利技术的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有抗静电的磨砂保护膜，其特征在于，所述磨砂保护膜自上而下包括：磨砂层(10)、基材(20)、抗静电层(30)；所述磨砂层(10)采用高分子量聚丙烯蜡，涂布于基材(20)面上，厚度为2～7μm，透光率92％，雾度0.5～3％；所述基材(20)为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜中的一种，厚度为50～100μm；所述抗静电层(30)为聚环氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有机磷酸酯、聚醚酯酰胺、聚乙二醇中的一种或几种混合，厚度为3～10μm。

【技术特征摘要】
1.一种具有抗静电的磨砂保护膜，其特征在于，所述磨砂保护膜自上而下包括：磨砂层(10)、基材(20)、抗静电层(30)；所述磨砂层(10)采用高分子量聚丙烯蜡，涂布于基材(20)面上，厚度为2～7μm，透光率92％，雾度0.5～3％；所述基材(20)为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜中的一种，厚度为50～100μm；所述抗静电层(30)为聚环氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有机磷酸酯、聚醚酯酰胺、聚乙二醇中的一种或几种混合，厚度为3～10μm。2.根据权利要求1所述的一种具有抗静电的磨砂保护膜，其特征在于，所述基材(20)为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。3.根据权利要求1所述的一种具有抗静电的磨砂保护膜，其特征在于，所述抗静电层(30)的组成及重量份为：聚醚酯酰胺 1～10份，制备中加入溶剂 25～40份；所述溶剂为乙酸乙酯、甲苯或丁酮的一种及混配物，制备后挥发掉；所述抗静电层(30)涂布于基材(20)下面。4.根据权利要求1所述的一种具有抗静电的磨砂保护膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱文峰，
申请(专利权)人：东莞市纳利光学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44