真空泵制造技术

本发明专利技术提供一种真空泵，其能够抑制异物侵入至转子间等的间隙，并且能够得到低的极限压力。真空泵具有沿着第一轴线方向延伸地形成的两根旋转轴、转子壳体、转子和遮蔽部。在转子壳体上形成有沿着两根旋转轴设置的转子室、与转子室连通的吸入口和与转子室连通的排出口。转子安装于两根旋转轴，并配置在转子室中。遮蔽部以防止从吸气口被吸入至转子室的气体直接趋向转子间的间隙的方式构成，并设在吸气口和转子室内部之间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空泵。
技术介绍
在半导体器件及液晶器件的制造工艺中，将干式真空泵连接在真空腔室，通过真空泵将导入至真空腔室内的工艺气体进行排气。有时在通过真空泵排出的工艺气体中，作为异物混入有因真空腔室内的反应等而凝固的物质或者容易凝固的物质。在干式真空泵中，将转子和转子之间或者转子和壳体之间的间隙(空隙)设为很小。因此，若凝固物侵入至泵内部，则有可能堆积或咬入在泵内部的这些间隙，妨碍转子的旋转。因此，有时在干式真空泵的吸入口设置用于抑制凝固物侵入至泵内部的捕集器(trap)或过滤器。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平5-332285号公报在干式真空泵的吸入口，若工艺气体的吸入被堵塞，则连接有干式真空泵的真空腔室的极限压力变高。因此，设法将设在干式真空泵的吸入口的捕集器等设置成大的捕集器或者多级地设置捕集器等，成为制造工艺装置的大型化及昂贵的原因。另外，若凝固物堆积在捕集器等引起堵塞，则会妨碍干式真空泵的工艺气体的吸入，因此还存在需要频繁地进行捕集器等的清扫或更换等的维护的情况。另外，作为干式真空泵，公知有螺杆式、罗茨式及爪式等，一般来说，与罗茨式及爪式的真空泵相比，螺杆式的真空泵受到异物来说的影响小。但是，尤其是，在作为工艺气体而使用氢气等的轻质气体的情况下等，罗茨式及爪式的真空泵能够得到比螺杆式的真空泵更低
的极限压力。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述课题而提出的，其目的在于，提供一种能够抑制异物侵入至转子间等的间隙并且得到低的极限压力的真空泵。本专利技术的真空泵具有沿着第一轴线方向延伸地形成的两根旋转轴、转子壳体、转子和遮蔽部。在转子壳体上形成有沿着两根旋转轴设置的转子室、与转子室连通的吸入口和与转子室连通的排出口。转子安装在两根旋转轴上，并配置在转子室。遮蔽部以防止从吸气口被吸入至转子室的气体直接趋向转子间的间隙的方式构成，并设在吸气口和转子室内部之间。根据该真空泵，在吸气口和转子室内部之间设置有遮蔽部，通过该遮蔽部，防止从吸气口被吸入至转子室的气体直接趋向转子间的间隙。由此，能够抑制异物堆积或咬入转子间的间隙。另外，转子也可以采用罗茨式或爪式的转子。由此，尤其是，在作为工艺气体而采用氢气等的轻质气体的情况下等，能够实现基于真空泵的低的极限压力。另外，从吸气口朝向转子室内部观察时，遮蔽部可以设在转子彼此的间隙的近前侧。由此，能够抑制异物直接趋向转子彼此的间隙。另外，遮蔽部也可以设在转子的上游，在从吸入口朝向转子室内部观察时设在两根旋转轴之间。由此，能够抑制异物直接趋向转子彼此的间隙。另外，遮蔽部可以具有上游侧窄且下游侧宽的锥形，也可以具有朝向上游成为凸状的曲面形状。由此，能够有效地抑制异物直接趋向转子彼此的间隙。另外，转子室可以具有相互由气体流路连接的多级的转子室，转子可以具有分别配置在多级的转子室中的多级的转子。而且，遮蔽部可以设在吸气口和多级的转子室中初级的转子室内部之间。由此，能够抑制异物直接趋向初级的转子室内部中的转子彼此的间隙。另外，可以还具有异物捕捉部，该异物捕捉部具有在将多级的转子室中的级间连接的气体流路上配置的捕集器或过滤器的至少一方。由此，能够通过气体流路的异物捕捉部捕捉气体所含有的异物。另外，捕捉异物的异物捕捉部设在多级的转子室中的级间，从而不存在异物捕捉部对从腔室向初级的转子室的吸气的妨碍，能够得到低的极限压力。另外，异物捕捉部设在压力比吸气口大的初级的转子室的下游，从而能够使用简易结构的异物捕捉部。而且，在异物堆积在异物捕捉部的情况下，对初级的转子室的吸气带来的影响小，从而能够减少异物捕捉部的维护频率。另外，异物捕捉部也可以配置在将多级的转子室中初级的转子室和次级的转子室连接的气体流路上。另外，也可以为转子壳体和多级的转子之间的间隙、或者多级的转子室各自的多级的转子彼此的间隙在异物捕捉部的下游形成得比上游小。由此，在异物捕捉部的上游，能够抑制异物的堆积或咬入，并且能够实现基于真空泵的低的极限压力。另外，真空泵可以还具有压力传感器，该压力传感器设在异物捕捉部的上游的气体流路上，并检测压力。由此，能够基于压力传感器的检测，计算异物捕捉部的维护时间。另外，异物捕捉部可以具有网状或多孔质状的过滤器。由此，能够良好地捕捉在气体流路中流动的异物。另外，吸气口也可以与产生包含非升华性的异物在内的气体的腔室连接。附图说明图1是示出本实施方式的真空泵装置的概要结构图。图2是从另一截面示出本实施方式的真空泵装置的概要结构图。图3是示出本实施方式的第一级转子室内的概要结构的剖视图。图4是示出本实施方式的第二级转子室内的概要结构的剖视图。图5是示出异物捕捉部的一例的概要图。图6是示出异物捕捉部的另一例的概要图。图7是示出第一变形例的真空泵装置的概要结构图。图8是示出第二变形例的真空泵装置的概要结构的框图。附图标记说明10 真空腔室20 多级的压缩级20A 初级的压缩级20B 次级的压缩级40 气体流路100 真空泵300、400 主轴310、410 泵转子312、412 第一级转子314、414 第二级转子316、416 第三级转子500 壳体510 吸气口520 转子室522 第一级转子室524 第二级转子室526 第三级转子室530、532 气体流路540 排气口580 遮蔽部600 异物捕捉部620 压力传感器640 壳体650 过滤器660 过滤器662 孔700 控制部具体实施方式图1是示出本实施方式的真空泵装置的概要结构图。图2是从另一截面示出本实施方式的真空泵装置的概要结构图。本实施方式的真空泵装置与例如进行CVD(化学气相沉积)处理的真空腔室(未图示)连接，并从真空腔室排出气体。本实施方式的真空泵装置能够良好地应用于在真空腔室内的气体含有固体异物的真空腔室，尤其是能够良好地应用于固体异物为非升华性固体的情况，但不限于此。另外，本实施方式的真空泵装置能够良好地应用于产生氢气等的轻质气体的真空腔室，但不限于此。图1示出包含真空泵装置100所具有的一对泵转子310、410中的一个泵转子310的轴线AR1在内的截面。图2示出包含真空泵装置100所具有的一对泵转子310、410的双方的旋转中心轴线AR1、AR2在内的截面。在此，在图1中，考虑到附图的观察容易度，省略了泵转子310的图示。另外，在图1中，还一并示出了构成真空泵装置100的压力传感器620及控制部700的框图。如图1、2所示，真空泵装置100具有一对主轴(2根旋转轴)300、400、一对泵转子310、410、马达200、壳体500、异物捕捉部600、压力传感器620和控制部700。主轴300、400沿轴线AR1、AR2方向延伸地形成。主轴300、400通过轴承302、402被轴支承在壳体500上。在主轴300、400上安装有一对定时齿轮380、480，主轴300、400通过来自马达200的动力同步旋转。在主轴300、400上，以伴随主轴300、400的旋转一体地旋转的方式分别安装有泵转子310、410。一对泵转子310、410构成了多级的压缩级。泵转子310具有在主轴300上分别隔开间隔地安装的第一级转子(初级转子)312、第二级转子(次级转子)314及第三级转子316(最终级转子)。另外，泵转子41本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空泵，其特征在于，具有：两根旋转轴，其沿着第一轴线方向延伸地形成；转子壳体，其形成有沿着所述两根旋转轴设置的转子室、与所述转子室连通的吸气口、及与所述转子室连通的排气口；转子，其安装于所述两根旋转轴并配置在所述转子室中；和遮蔽部，其以防止从所述吸气口被吸入至所述转子室的气体直接趋向所述转子间的间隙的方式构成，并设在所述吸气口和所述转子室内部之间。

【技术特征摘要】
2015.03.09 JP 2015-046274;2016.02.02 JP 2016-018051.一种真空泵，其特征在于，具有：两根旋转轴，其沿着第一轴线方向延伸地形成；转子壳体，其形成有沿着所述两根旋转轴设置的转子室、与所述转子室连通的吸气口、及与所述转子室连通的排气口；转子，其安装于所述两根旋转轴并配置在所述转子室中；和遮蔽部，其以防止从所述吸气口被吸入至所述转子室的气体直接趋向所述转子间的间隙的方式构成，并设在所述吸气口和所述转子室内部之间。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，所述转子是罗茨式或爪式的转子。3.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，在从所述吸气口朝向所述转子室内部观察时，所述遮蔽部设在所述转子彼此的间隙的近前侧。4.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，所述遮蔽部设在所述转子的上游，在从所述吸入口朝向所述转子室内部观察时设在所述两根旋转轴之间。5.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，所述遮蔽部具有上游侧窄且下游侧宽的锥形状。6.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，所述遮蔽...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐川笃志，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP