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POSS基耐高温的室温离子液体及其制备方法技术

技术编号:13679153 阅读:98 留言:0更新日期:2016-09-08 06:37
本发明专利技术公开了一种能在高温条件下使用的POSS基室温离子液体,由羧基七辛基POSS和氢氧化1‑Cn‑3‑甲基咪唑反应制成,其中羧基七辛基POSS是由氨丙基七辛基POSS和丁二酸酐制成,氢氧化1‑Cn‑3‑甲基咪唑由溴化1‑Cn‑3‑甲基咪唑通过强碱性阴离子交换树脂交换得到的。本发明专利技术含POSS的离子液体的制备方法具有产率高,纯度高,稳定性好,工艺紧凑,成本低,反应时间短,可大规模化工业生产。本发明专利技术能制备一系列POSS基耐高温离子液体,玻璃化温度低于‑15℃,由于其很好的导电性,可用于电解质,提高电池的使用温度范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种离子液体及其制备方法,特别是涉及一种POSS改性的离子液体及其制备方法,应用于POSS改性材料

技术介绍
离子液体是由正负离子组成的盐,通常室温下为液体。离子液体具有极低的蒸汽压、很好的离子导电率、较宽的电化学窗口和对有机物及高分子聚合物很好的溶解性,因此被用于有机合成、电化学和导电材料。但是目前的离子液体通常热稳定差,在150℃左右就会开始分解,不利于离子液体的广泛应用。POSS含有-Si-O-Si-组成的笼型结构,具有很好的热稳定性。但其耐高温性、低温流变学和反应动力学性能还不够理想,如何更好地发挥POSS的综合性能,开拓其应用领域,成为亟待解决的技术问题。
技术实现思路
为了解决现有技术问题,本专利技术的目的在于克服已有技术存在的不足,提供一种POSS基耐高温的室温离子液体及其制备方法,利用POSS的笼型刚性结构具有良好的热稳定性的特点,通过将POSS引入到离子液体的阴离子上,最终合成一种能在220℃以下高温下正常使用的离子液体。本专利技术通过将耐热结构的POSS引入阴离子基团,合成一系列玻璃化温度低于-15℃的耐高温的室温离子液体,并且通过TGA测试发现在270℃下产品未出现分解,可用于电解质,提高电池的使用温度范围。为达到上述专利技术创造目的,本专利技术采用下述技术方案:一种POSS基耐高温的室温离子液体,其结构通式为:其中,n=2~5。一种POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法,对POSS进行改性,利用羧基POSS与氢氧化咪唑,通过酸碱中和反应合成,POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法的合成路线为:其中,n=2~5。作为本专利技术优选的技术方案,POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法的具体步骤如下:(1)化合物b的制备:以化合物a作为原料,以溴化的1-Cm-3-甲基咪唑作为化合物a,其中m=2、3、4或5,即所述化合物a的化学式为:其中n=2~5,将化合物a加入去离子水润过的强碱性阴离子交换树脂柱,制备化合物b水溶液,将得到的化合物b水溶液通过真空冷冻干燥除去其中的去离子水,所得的化合物b为氢氧化的1-Cm-3-甲基咪唑,其化学式为:化合物a优选采用溴化的1-Cn-3-甲基咪唑,即为m=2、3、4、5时的溴化1-丙基-3-甲基咪唑、溴化1-丁基-3-甲基咪唑、溴化1-戊基-3-甲基咪唑或溴化1-己基-3-甲基咪唑;(2)化合物d的制备:以氨丙基七辛基POSS作为化合物c,化合物c化学式为:,其中采用化合物c和丁二酸酐作为原料,按照化合物c:丁二酸酐的摩尔比例为1:(1~1.5)的比例各取原料,然后将所称量的化合物c、丁二酸酐分别溶于第一溶剂,分别得到溶有丁二酸酐的第一溶剂和溶有化合物c的第一溶剂,将溶有丁二酸酐的第一溶剂倒入烧瓶中,并使溶有化合物c的第一溶剂倒入恒压滴液漏斗;在室温搅拌条件下,将恒压滴液漏斗里的溶液逐滴加入到烧瓶里的溶液中,形成第一反应体系溶液,滴加完成后,取下恒压滴液漏斗,换成冷凝管,将反应瓶置于80℃下的油浴锅中,搅拌回流1-15h,使第一反应体系溶液发生化学反应,停止反应,从产物体系中,通过减压蒸出第一溶剂,得到化合物d粗产物;再向化合物d粗产物中加入第二溶剂,然后离心得到澄清液,将澄清液减压蒸出第二溶剂,得到化合物d,然后在真空条件下,在60℃下干燥24h,得到化合物d纯产物,所得的化合物d为羧基化七辛基POSS,其化学式为:第一溶剂优选采用四氢呋喃、异丙醇和甲醇中任意一种溶剂或任意几种的混合溶剂;第二溶剂优选采用环己烷和石油醚中任意一种溶剂或二者混合溶剂;(3)化合物e的制备:将在所述步骤(1)中制备的化合物b和在所述步骤(2)中制备的化合物d作为反应物,按照化合物b:化合物d的摩尔比例为(1~1.5):1的比例分别称取反应物,然后将所称量的化合物b溶于第三溶剂中,将所称量的化合物d溶于第四溶剂中,然后将溶有化合物b的第三溶剂和溶有化合物d的第四溶剂一并加入到烧瓶中,形成第二反应体系溶液,在室温下搅拌2-15h,使第二反应体系溶液发生化学反应,反应结束后,从产物体系中,通过减压蒸出溶剂,得到化合物e粗产物;然后向化合物e粗产物中加入第五溶剂,再通过溶有化合物e的第五溶剂进行离心,得到上层清液,将上层清液减压蒸去溶剂,最终得到化合物e纯产物,所得的化合物e即为POSS基离子液体,其化学式为:第三溶剂优选采用甲醇、水和三氯甲烷中任意一种溶剂或任意几种的混合溶剂;第四溶剂优选采用四氢呋喃、三氯甲烷、氯丙烷和甲苯中任意一种溶剂或任意几种的混合溶剂;第二溶剂优选采用环己烷和石油醚中任意一种溶剂或二者混合溶剂。本专利技术与现有技术相比较,具有如下显而易见的突出实质性特点和显著优点:1.本专利技术POSS基耐高温的室温离子液体,反应容易,产率高,纯度高,并且稳定性好,包含有结构明确、有机溶解性好的POSS单体,赋予了离子液体耐高温的特性,并且由于POSS含有的侧链较长,同时也使合成的离子液体在室温下具有很好的流动性;2.本专利技术制备方法的反应容易控制,其工艺紧凑,反应时间短,产物纯度高,产率高,可以大规模生产。附图说明图1为本专利技术实施例一制备的POSS基耐高温的室温离子液体的1H NMR图。图2为本专利技术实施例一制备的POSS基耐高温的室温离子液体的DSC图。图3为本专利技术实施例一制备的POSS基耐高温的室温离子液体的TGA图。具体实施方式本专利技术的优选实施例详述如下:实施例一:在本实施例中,一种POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法,具体步骤如下:(1)氢氧化1-己基-3-甲基咪唑的制备:以溴化1-己基-3-甲基咪唑为原料,以即其化学式为:其中n=5,将溴化1-己基-3-甲基咪唑加入去离子水润过的强碱性阴离子交换树脂柱,制备氢氧化1-己基-3-甲基咪唑水溶液,将得到的氢氧化1-己基-3-甲基咪唑水溶液通过真空冷冻干燥除去其中的去离子水,所得的化合物为氢氧化1-己基-3-甲基咪唑,其化学式为:(2)羧基化POSS的制备:采用氨丙基七辛基POSS,其化学式为:其中采用氨丙基七辛基POSS和丁二酸酐作为原料,按照氨丙基七辛基POSS:丁二酸酐的摩尔比例为1:(1~1.5)的比例各取原料,然后将所称量的氨丙基七辛基POSS、丁二酸酐分别溶于四氢呋喃,分别得到溶有丁二酸酐的四氢呋喃和溶有氨丙基七辛基POSS的四氢呋喃,将溶有丁二酸酐的四氢呋喃倒入烧瓶中,并使溶有氨丙基七辛基POSS的四氢呋喃倒入恒压滴液漏斗;在室温搅拌条件下,将恒压滴液漏斗里的溶液逐滴加入到烧瓶里的溶液中,形成第一反应体系溶液,滴加完成后,取下恒压滴液漏斗,换成冷凝管,将反应瓶置于80℃下的油浴锅中,搅拌回流1-15h,使第一反应体系溶液发生化学反应,停止反应,从产物体系中,通过减压蒸出四氢呋喃,得到化合物粗产物;再向化合物粗产物中加入环己烷,然后离心得到澄清液,将澄清液减压蒸出环己烷,得到羧基化POSS化合物,然后在真空条件下,在60℃下干燥24h,得到羧基化POSS纯产物,即为羧基化七辛基POSS,其化学式为:(3)POSS基离子液体的制备:将在所述步骤(1)中制备的氢氧化1-己基-3-甲基咪唑和在所述步骤(2)中制备的羧基化七辛基POSS作为反应物,按照氢氧化1-己基-3-甲基咪唑:羧基化七辛基POSS本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种POSS基耐高温的室温离子液体,其特征在于,其结构通式为:其中,

【技术特征摘要】
1.一种POSS基耐高温的室温离子液体,其特征在于,其结构通式为:其中,2.一种POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法,其特征在于,对POSS进行改性,利用羧基POSS与氢氧化咪唑,通过酸碱中和反应合成,POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法的合成路线为:其中,3.根据权利要求2所述POSS基耐高温的室温离子液体的制备方法,其特征在于,合成的具体步骤如下:(1)化合物b的制备:以化合物a作为原料,以溴化的1-Cm-3-甲基咪唑作为化合物a,其中m=2、3、4或5,即所述化合物a的化学式为:其中n=2~5,将化合物a加入去离子水润过的强碱性阴离子交换树脂柱,制备化合物b水溶液,将得到的化合物b水溶液通过真空冷冻干燥除去其中的去离子水,所得的化合物b为氢氧化的1-Cm-3-甲基咪唑,其化学式为:(2)化合物d的制备:以氨丙基七辛基POSS作为化合物c,化合物c化学式为:其中采用化合物c和丁二酸酐作为原料,按照化合物c:丁二酸酐的摩尔比例为1:(1~1.5)的比例各取原料,然后将所称量的化合物c、丁二酸酐分别溶于第一溶剂,分别得到溶有丁二酸酐的第一溶剂和溶有化合物c的第一溶剂,将溶有丁二酸酐的第一溶剂倒入烧瓶中,并使溶有化合物c的第一溶剂倒入恒压滴液漏斗;在室温搅拌条件下,将恒压滴液漏斗里的溶液逐滴加入到烧瓶里的溶液中,形成第一反应体系溶液,滴加完成后,取下恒压滴液漏斗,换成冷凝管,将反应瓶置于80℃下的油浴锅中,搅拌回流1-15h,使第一反应体系溶液发生化学反应,停止反应,从产物体系中,通过减压蒸出第一溶剂,得到化合物d粗产物;再向化合物d粗产物中加入第二溶剂,然后离心得到澄清液,将澄清液减压蒸出第二溶剂,得到化合物d,然后在真空条件下,在60℃下干燥24h,得到化合物d纯产物,所得的化合物d为羧基化七辛基POSS,其化学式为:(3)化合物e的制备:将在所述步骤(1)中制备的化合物b和在所述步骤(2)中制备的化合物d作为反...

【专利技术属性】
技术研发人员:付继芳尚大鹏陆琦殷金涛吴金晶宗培松陈立亚余文琪
申请(专利权)人:上海大学
类型:发明
国别省市:上海;31

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