【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及工业炉领域，具体是一种真空气氛管式炉抽真空系统。
技术介绍
真空气氛管式炉专门设计用于低温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，加热元件选用进口KTL电阻丝，优质石英管炉膛，系统可预抽真空，气体采用质量流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制、高低温区设计隔板结构，有效的实现温度梯度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种真空气氛管式炉抽真空系统，以解决现有技术温度不均匀、控制不稳定、寿命短等问题。为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案为：一种真空气氛管式炉抽真空系统，包括有石英管，所述石英管两端分别安装有大球阀和小球阀，所述大打球阀与石英管连接处安装有真空表，真空表下端设有阀门，阀门下端安装有扩散泵机组；所述小球阀下端连接有混合罐，混合罐上安装有质量流量计。本专利技术专利的优点：使用本专利技术具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。附图说明图1为本专利技术结构示意图。具体实施方式如图1-所示，一种真空气氛管式炉抽真空系统，包括有石英管3，所述石英管3两端分别安装有大球阀1和小球阀4，所述大打球阀1与石英管3连接处安装有真空表2，真空表2下端设有阀门7，阀门7下端安装有扩散泵机组8；所述小球阀4下端连接有混合罐5，混合罐5上安装有质量流量计6。
【技术保护点】
一种真空气氛管式炉抽真空系统，包括有石英管，其特征在于：所述石英管两端分别安装有大球阀和小球阀，所述大打球阀与石英管连接处安装有真空表，真空表下端设有阀门，阀门下端安装有扩散泵机组；所述小球阀下端连接有混合罐，混合罐上安装有质量流量计。
【技术特征摘要】
1.一种真空气氛管式炉抽真空系统，包括有石英管，其特征在于：所述石英管两端分别安装有大球阀和小球阀，所述大打球阀与石英管...
【专利技术属性】
技术研发人员：张时利，王建跃，王皓静，
申请(专利权)人：合肥日新高温技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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