显示基板及其制作方法以及显示装置制造方法及图纸

一种显示基板及其制作方法以及显示装置。该显示基板包括衬底基板，衬底基板包括待设置隔垫物的区域；以及光致变色膜，光致变色膜设置在衬底基板上，并配置为受光照射后透过率降低，光致变色膜至少包括设置为围绕待设置隔垫物的区域的防漏光部分，防漏光部分在衬底基板上的正投影与待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。该光致变色膜可在显示基板发生漏光时转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜，从而可防止漏光的发生，提高显示的可靠性和稳定性。

【技术实现步骤摘要】
201610483697

【技术保护点】
一种显示基板，包括：衬底基板，所述衬底基板包括待设置隔垫物的区域；以及光致变色膜，所述光致变色膜设置在所述衬底基板上，并配置为受光照射后透过率降低，所述光致变色膜至少包括设置为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：衬底基板，所述衬底基板包括待设置隔垫物的区域；以及光致变色膜，所述光致变色膜设置在所述衬底基板上，并配置为受光照射后透过率降低，所述光致变色膜至少包括设置为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。2.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述光致变色膜具有触发光照强度，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后透过率降低，所述触发光照强度大于所述显示基板正常工作情况下透过所述显示基板的光的最大光照强度。3.如权利要求2所述的显示面板，其中，所述光致变色膜配置为受小于具有触发光照强度的光的照射后所述光致变色膜的透过率可恢复。4.如权利要求2所述的显示基板，其中，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后变为不透可见光的膜。5.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述光致变色膜在所述衬底基板的正投影具有与所述待设置隔垫物的区域相同的形状。6.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述光致变色膜在所述衬底基板的正投影与所述待设置隔垫物的区域同心设置。7.如权利要求1所述的显示基板，还包括：黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述待设置隔垫物的区域，所述光致变色膜至少包括设置在所述黑矩阵两侧的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影相接或至少部分重叠。8.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述防漏光部分的宽度为1-100μm。9.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述光致变色膜的材料包括卤化银。10.如权利要求9所述的显示基板，其中，所述光致变色膜还包括催化剂。11.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述光致变色膜的厚度为0.1-1μm。12.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，还包括：取向膜，...

【专利技术属性】
技术研发人员：江亮亮，蒋松阳，郭磊，戴珂，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11