一种调节和确定饱和温度的方法技术

本发明专利技术涉及一种调节和确定饱和温度的方法，包括，提高饱和温度，氧化层上升距离等于氧化层循环位置上升距离；降低饱和温度，氧化层下降距离等于氧化层循环位置下降距离；饱和温度按氧化层循环周期循环变化。提高饱和温度，在氧化层上升过程。降低饱和温度，在氧化层循环的第二、三环节，氧化层下降过程。提高饱和温度，或开气封，减少外排蒸汽流量。降低饱和温度，或关气封，增加外排蒸汽流量。本发明专利技术优点，提高气化效率，降低劳动强度，炉篦寿命长。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种调节和确定饱和温度的方法，蒸汽压力适当，其特征在于，包括：饱和温度每提高1℃，氧化层上升10‑42mm，导致氧化层循环位置上升相等距离，饱和温度高，氧化层循环位置包括氧化层上升距离大，饱和温度低，氧化层循环位置包括氧化层上升距离小；饱和温度每降低1℃，氧化层下降10‑42mm，导致氧化层循环位置下降相等距离，饱和温度高，氧化层循环位置包括氧化层下降距离大，饱和温度低，氧化层循环位置包括氧化层下降距离小；氧化层循环位置内，氧化层上升，饱和温度自然升高0.8‑4℃，氧化层下降，饱和温度自然降低0.8‑4℃，按氧化层循环周期循环。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王万利，
申请(专利权)人：王万利，
类型：发明
国别省市：山东;37