抛光设备及其固定装置制造方法及图纸

技术编号:13264392 阅读:58 留言:0更新日期:2016-05-17 23:56
一种抛光设备及其固定装置,该固定装置包括:用以承载欲抛光件且具有穿孔的基座、以及设于该基座上并连通该穿孔的凹部,藉以当该固定装置进行吸附作业时,能使吸力分布于该凹部中,因而能产生均匀的吸力。

【技术实现步骤摘要】

本技术关于一种抛光设备,尤指一种抛光设备及其固定装置
技术介绍
现有半导体制程中,晶圆于长晶、切片完成后,会进行薄化加工,其包含研磨作业与抛光作业,之后才会进行集成电路制造、切单、封装等制程。如图1A与图1B所示,现有抛光机I包括:一机台本体(图略)、一设于该机台本体上侧的固定装置U、一设于该机台本体下侧的抛光装置12、以及一设于该固定装置11上的承载装置13。该固定装置11包含一真空吸盘111、及一环绕固定该真空吸盘111的固定架112,且该真空吸盘111凸出该固定架112,以利于吸附该承载装置13,并于该真空吸盘111上具有多个通孔113(如图1B所示),以产生真空吸附力。该承载装置13包含一结合于该真空吸盘111上的贴膜130、及供设置该贴膜130的一铁环131。于进行抛光作业时,先将一如晶圆的欲抛光件3粘贴于该贴膜130上,再以该真空吸盘111吸附(如图所示的吸力B)该贴膜130,使该承载装置13固定于该固定装置11上。之后,该抛光装置12配合浆液(如图1A所示的流入方向F)磨平该欲抛光件3的表面。然而,现有抛光机I中,该真空吸盘111以多孔性陶瓷材制作,以于该真空吸盘111上自然形成该些通孔113,供气流进出该些通孔113,故该真空吸盘111上的该些通孔113因过于细小而容易造成浆液固化后阻塞,致使该些通孔113无法吸附,导致该欲抛光件3容易脱落、或者该抛光装置12难以磨平该欲抛光件3的表面。基于上述问题,该真空吸盘111’也可采用如不锈钢材或铝材的金属材制作,再以钻孔方式形成规则排设及孔径一致的大尺寸通孔113’(如图1B’所示),以避免浆液固化后阻塞该通孔113’。然而,使用金属材质制作该真空吸盘111’,会造成该真空吸盘111’的热膨胀系数(Coefficient of thermal expans1n,简称CTE)过高而产生不可预期的变形,造成该欲抛光件3移位,进而使得抛光精度降低。因此,如何克服现有技术的种种问题,成为当前的一大课题。
技术实现思路
为解决上述现有技术的问题,本技术遂揭露一种抛光设备及其固定装置,能产生均匀的吸力。本技术的固定装置,包括:基座,其用以承载欲抛光件,且具有相对的第一表面与第二表面、及连通该第一与第二表面的至少一穿孔;以及至少一凹部,其形成于该基座的第二表面上并连通该穿孔。本技术还揭露一种抛光设备,包括:机台本体,其具有相对的第一侧与第二侧,且该第一侧与第二侧之间具有一容置空间;如前述的固定装置,其以该基座的第一表面设于该机台本体的第一侧上并位于该容置空间中;以及抛光装置,其设于该机台本体的第二侧上并位于该容置空间中。前述的抛光设备及固定装置中,该基座的第二表面具有固定部,以接触固定该欲抛光件。例如,该凹部形成于该固定部上。或者,形成该固定部的材质是CTE为5X10—6m/mK20°C以下的材质。前述的抛光设备及固定装置中,形成该基座的材质是CTE为5X10—6m/mK20°C以下的材质。前述的抛光设备及固定装置中,该基座具有规则排设及孔径一致的多个该穿孔。前述的抛光设备及固定装置中,该穿孔为真空源,使该固定装置成为吸附装置。前述的抛光设备及固定装置中,该穿孔的孔端位于该凹部中。例如,该穿孔的孔端以等距离设于该凹部中。前述的抛光设备及固定装置中,该凹部为环状、条状或其组合的其中一者。由上可知,本技术的抛光设备及固定装置中,藉由该凹部的设计,当该固定装置进行吸附作业时,可使该吸力均匀分布于该凹部中,而产生均匀的吸力,故相较于现有技术,本技术可避免该穿孔因过于细小而受浆液阻塞的问题,使该欲抛光件平整地贴附于该固定装置上,以避免该欲抛光件因吸力不均而掉落、或者避免该抛光装置难以磨平该欲抛光件的问题。此外,藉由该凹部的设计,该固定装置的材质可不受限制,也就是能选用便宜材质或CTE低的材质,以避免产生不可预期的变形而造成该欲抛光件移位的问题,因而能提升抛光精度。【附图说明】图1A为现有抛光机的剖面示意图;图1B及图1B’为现有抛光机的局部上视图;图2A及图2B为本技术的抛光设备的第一实施例的剖面示意图;图3为图2A的固定装置的局部上视图;图3’及图4为本技术的固定装置的其它实施例的局部上视图。其中,附图标记说明如下:I抛光机11,2a固定装置111,111,真空吸盘112固定架113,113,通孔12,22抛光装置 13 承载装置130贴膜131铁环2抛光设备20机台本体20a第一侧20b第二侧21基座21a第一表面21b第二表面210固定部213穿孔214,314,414 凹部3欲抛光件3a外露表面B吸力t间隙F流入方向S容置空间。【具体实施方式】以下藉由特定的具体实施例说明本技术的实施方式,本领域普通技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。须知,本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供本领域普通技术人员的了解与阅读,并非用以限定本技术可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时,本说明书中所引用的如“上”、“第一”、“第二”及“一”等用语,也仅为便于叙述的明了,而非用以限定本技术可实施的范围,其相对关系的改变或调整,在无实质变更
技术实现思路
下,当也视为本技术可实施的范畴。图2A及图2B为本技术的抛光设备2的第一实施例的剖面示意图。如图2A所示,该抛光设备2包括:一机台本体20、一固定装置2a以及一抛光装置22。所述的机台本体20具有相对当前第1页1 2 本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种固定装置,其特征为,该固定装置包括:基座,其用以承载欲抛光件,且具有相对的第一表面与第二表面、及连通该第一与第二表面的至少一穿孔;以及至少一凹部,其形成于该基座的第二表面上并连通该穿孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈孟端
申请(专利权)人:正恩科技有限公司
类型:新型
国别省市:中国台湾;71

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1