本发明专利技术公开了一种多功能手机盖板及其制备方法，该手机盖板包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，第七膜层为金属层，第八膜层为纳米银层，第九膜层为ITO层，第十膜层为高硬度层，第十一膜层为氟化物层。其制备方法包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明专利技术的手机盖板能有效地过滤有害蓝光，对炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，拥有杀菌能力，充足的耐磨性以及防水油污等功能。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种手机盖板
，尤其是涉及。
技术介绍
随着社会的进步和科技的发展，手机的屏幕所发出的蓝光、紫外线、炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。蓝光是波长为400-500nm的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。因此，现有技术中出现了一些能够过滤部分有害光线的手机屏幕盖板，然而现有的手机屏幕盖板在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，手机屏幕盖板的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。另外，现有的手机屏幕盖板较少有杀菌功能，人们在使用过程中容易从手机屏幕盖板上感染细菌，给人体造成伤害。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有高耐磨性和防炫目功能，适于夜间使用的多功能手机盖板及其制备方法。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案: 一种多功能手机盖板，包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-1OOnm;所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm;所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm;所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5_20nm;所述第九膜层为ITO层，第九膜层的厚度为1-1OOnm;所述第十膜层为高硬度层，厚度为10-50nm;所述第^ 膜层为氟化物层，第^ 膜层的厚度为3-10nmo所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型，所述银的氧化物为Ag0、Ag20 或 Ag2〇3。所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻加热蒸镀成型。所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。所述基板由树脂或玻璃成型。本专利技术还公开一种多功能手机盖板的制备方法，所述手机盖板的基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤: 1)对基板的外表面进行清洗； 2)对基板的外表面进行镀膜； A、镀第一膜层: 将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50_70°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层； B、镀第二膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层； C、镀第三膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第三膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层； D、镀第四膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7A/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层； E、镀第五膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第五膜层最终形成后的厚度为1-1OOnm;其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层； F、镀第六膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7A/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层； G、镀第七膜层:保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1A/S，第七膜层最终形成后的厚度为5_20nm，其中第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层； H、镀第八膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1A/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3 ； 1、镀第九膜层: 将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1A/S，第九膜层最终形成后的厚度为lO-lOOnm，其中第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层； J、镀第十膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种多功能手机盖板，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10‑100nm；所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50‑100nm；所述第七膜层为金属层，厚度为5‑20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5‑20nm；所述第九膜层为ITO层，第九膜层的厚度为10‑100nm；所述第十膜层为高硬度层，厚度为10‑50nm；所述第十一膜层为氟化物层，第十一膜层的厚度为3‑10nm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓彤，方俊勇，
申请(专利权)人：奥特路漳州光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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