微结构及其制造方法技术

一种制造微结构的方法，它包括在含硅弹性体的表面中形成图案；将所述图案与一基底接触；将所述氧化图案与所述基底粘合，从而使得所述图案与所述基底不可逆地附着在一起。该含硅弹性体可以可除去地附着在一转印垫上。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
联邦政府发起的研究或进展本申请的主题部分地由国家科学基金(授权号CHE 0097096)、国防部高级计划局(DARPA；授权号SPAWARN66001-98-1-8915)、以及能源部(DOE授权号DEFG02-91ER45439)资助。政府在本专利技术中拥有一定的权利。
技术介绍
软光刻是用于微制造技术以产生微结构的通用构图(图案形成)技术。该技术采用带有图案的弹性体，以从原版向基底转印图案。带有图案的弹性体可以用作例如印模以转印物质、或者作为将由物质填充的模具、或者作为用于在基底上选择性沉积和/或从基底上选择性除去材料的掩膜。例如参见Xia，Y.以及Whitesides，G.M.Annu.Rev.Mater.Sci.(1998)28153-184。相反，传统的光刻技术采用刚性光掩膜以对光致抗蚀剂层进行构图，然后带有图案的光致抗蚀剂在随后的蚀刻和沉积步骤中保护图案之下的材料。软光刻相对于传统的光刻技术具有多个优点。软光刻可以在一个沉积步骤中产生三维结构以及非平面结构，而不是需要单个层的阶梯方式组装。由于弹性体的机械灵活性，因此可以对非平面基底进行构图。各种软光刻技术可以采用比光刻技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造微结构的方法，该方法包括：　　　　在含硅弹性体的表面上形成图案；　　　　氧化该图案；　　　　将该氧化图案与一基底接触；以及　　　　将该氧化图案与该基底粘合，以使该图案与该基底被不可逆地附着在一起。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：拉尔夫G努佐，威廉罗伯特蔡尔兹，
申请(专利权)人：伊利诺斯大学理事会，
类型：发明
国别省市：US[美国]