缺陷检测系统和方法技术方案

本发明专利技术公开缺陷检测系统和方法。根据本发明专利技术的一个实施例的缺陷检测系统，作为用于检测光透射率比光反射率低的检查对象体上的缺陷的系统，包含：对上述检查对象体照射光的光源；在上述光源与上述检查对象体之间配置的光屏蔽掩模；和接收从上述检查对象体反射的光而捕捉上述检查对象体的图像的摄像设备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于检测检查对象体的缺陷的系统和方法。
技术介绍
最近随着图像分析技术的发展，在制品的制造工序之间或者制造完成后，用照相机这样的摄像设备捕捉制品的外观的图像，对其图像进行分析而检测制品中是否存在缺陷的光学检查方式已广泛地使用。一般地，这样的检查方式中为了摄像，配置对制品进行照明的光源。光学检查以检查对象体(例如，偏光膜、光学膜、显示面板、触摸面板、印刷电路基板等)为基准，根据如何配置光源和摄像设备，能够划分为透射光学系检查和反射光学系检查。韩国公开专利公报2009-0113885号公开了能够在使用照相机的检查中利用的照明系统，但这样的照明系统适合透射光学系检查。但是，检查对象体具有比光反射率低的光透射率的情况下，或者检查对象体在不具有狭缝的不透明的传送带上移送期间，难以应用透射光学系检查。另一方面，为了检测不使光透过的检查对象体上的缺陷，也有时使用正反射、边界反射、同轴反射等光学系，但这样的检查方式存在不能良好地检测几种缺陷(例如，划痕缺陷)的问题。因此，在反射光学系检查中，要求用于用给予的摄像设备更正确地检测这样的缺陷的方法。现有技术文献专利文献专利文献:韩国公开专利公报第2009-0113885号
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的目的在于提供对于光不易透过的检查对象体上的缺陷(例如，划痕缺陷)的检测力提高的缺陷检测系统。本专利技术的目的在于提供这样的缺陷检测方法。用于解决课题的手段1.一种缺陷检测系统，作为用于检测光透射率比光反射率低的检查对象体上的缺陷的系统，其包含:对上述检查对象体照射光的光源；在上述光源与上述检查对象体之间配置的光屏蔽掩模；和接收从上述检查对象体反射的光而捕捉上述检查对象体的图像的摄像设备。2.根据上述I的缺陷检测系统，其中，还包含在上述光源与上述光屏蔽掩模之间配置的聚光透镜。3.根据上述I的缺陷检测系统，其中，上述检查对象体包含ITO层。4.根据上述3的缺陷检测系统，其中，相对于上述检查对象体的表面的上述光源的光照射角度为30。?60。，相对于上述表面的上述摄像设备的摄像角度为30。?60OO5.根据上述I的缺陷检测系统，其中，还包含由上述图像检测上述检查对象体上的缺陷的缺陷检测部。6.根据上述5的缺陷检测系统，其中，上述缺陷为划痕缺陷。7.根据上述I的缺陷检测系统，其中，上述光源为LED光源。8.一种缺陷检测方法，作为用于检测光透射率比光反射率低的检查对象体上的缺陷的方法，其包含:提供对上述检查对象体照射光的光源的阶段；在上述光源与上述检查对象体之间配置光屏蔽掩模的阶段；和使用接收从上述检查对象体反射的光的摄像设备而获得上述检查对象体的图像的阶段。9.根据上述8的缺陷检测方法，其中，还包含在上述光源与上述光屏蔽掩模之间配置聚光透镜的阶段。10.根据上述8的缺陷检测方法，其中，上述检查对象体包含ITO层。11.根据上述10的缺陷检测方法，其中，相对于上述检查对象体的表面的上述光源的光照射角度为30。?60。，相对于上述表面的上述摄像设备的摄像角度为30。?60OO12.根据上述8的缺陷检测方法，其中，还包含由上述图像检测上述检查对象体上的缺陷的阶段。13.根据上述12的缺陷检测方法，其中，上述缺陷为划痕缺陷。14.根据上述8的缺陷检测方法，其中，上述光源为LED光源。专利技术的效果根据本专利技术的能够将用于检测光不易透过的检查对象体上的缺陷(例如，划痕缺陷)的反射光学系检查的性能最大化。【附图说明】图1为表示根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统的图。图2为用于说明根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统中来自光源的光被光屏蔽掩模散射的图。图3为用于说明使用根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统对检查对象体的缺陷检测的结果的图。图4-图6为用于说明根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统中边调节光屏蔽掩模的宽度、检查对象体与光源之间的距离和来自光源的光量边对检查对象体的缺陷检测的结果的图。图7为用于说明根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统中边调节光照射角度和摄像角度边对检查对象体的缺陷检测的结果的图。【具体实施方式】以下参照附图对本专利技术的具体的实施例进行说明。但是，其只不过是例示，本专利技术并不受其限制。本专利技术的实施例的说明中，对于与本专利技术关联的公知的技术的具体的说明判断为不必要地可使本专利技术的主旨模糊不清的情况下省略其详细的说明。而且，后述的用语是考虑本专利技术中的功能而定义的用语，其有时因用户、运用者的意图或惯例等而变化。因此，其定义必须基于本说明书的全部内容。根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统，作为用于检测光透射率比光反射率低的检查对象体(例如，不透明材料)上的缺陷的系统，包含:对上述检查对象体照射光的光源；在上述光源与上述检查对象体之间配置的光屏蔽掩模；和接收从上述检查对象体反射的光而捕捉上述检查对象体的图像的摄像设备，能够将用于检测光不易透过的检查对象体上的缺陷(例如，划痕缺陷)的反射光学系检查的性能最大化。图1为表示根据本专利技术的一个实施例的缺陷检测系统的图。图1是从检查对象体150的宽度方向观看缺陷检测系统100的侧面图。图1的缺陷检测系统100适合对检查对象体150进行检查、检测检查对象体150上的缺陷。例如，图1中，缺陷检测系统100能够边使检查对象体150(例如，使用不透明的传送带这样的移送手段向右侧)移动边对检查对象体150进行检查。此外，检查对象体150的光反射率比检查对象体150的光透射率大的情形(例如，检查对象体150为不透明材料的情形)下，利用了缺陷检测系统100的反射光学系检查与透过光学系检查相比，使更正确的缺陷检测成为可能。例如，检查对象体150可以是包含ITO(氧化铟锡)层的基板。如图1中图示那样，缺陷检测系统100包含光源110、光屏蔽掩模120和摄像设备130。此外，缺陷检测系统100能够还包含聚光透镜140。光源110以对检查对象体150照射光的方式构成。因此，为了摄像设备130的摄像，缺陷检测系统100能够使用光源110对检查对象体150照明。例如，缺陷检测系统100能够还包含控制部(未图示)，该控制部使得利用光源110对检查对象体150提供光。几个实施例中，这样的控制部为了光源110的光量的调节、光源110的光照射角度的调节等，能够提供与用于控制光源110的用户输入的接收相适合的用户界面。在相关领域中，在光学检查中使用的光源可无特别限制地作为光源110使用。例如，LED 灯(Light Emitting D1de Lamp)、金属齒化物灯(Metal Halide Lamp)这样的齒素灯、荧光灯、白炽电灯泡等可作为光源110使用。此外，对从光源110照射的光的种类并无特别限定，作为例子，能够列举白色光、绿色光、青色光、红色光、红外线、这些的适当的组合等。此外，光源110可以是长边或短边具有片状制品的宽度以上的长度或者一边具有片状制品的宽度以上的长度的正方形状。另一方面，可通过检查对象体150的移送速度对从光源110照射光的时区间进行调节。根据几个实施例，可使用用于收集从光源110射出的光的聚光透镜140。将这样的聚光透镜140配置在光源110与光屏蔽掩模120之间。可适当地选择聚光透镜140的形态、材质和焦点距离这样的光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种缺陷检测系统，作为用于检测光透射率比光反射率低的检查对象体上的缺陷的系统，其包含：对上述检查对象体照射光的光源；在上述光源与上述检查对象体之间配置的光屏蔽掩模；和接收从上述检查对象体反射的光而捕捉上述检查对象体的图像的摄像设备。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李银珪，严东桓，洪昇均，朴宰贤，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR