本发明专利技术涉及一种低温型水系正性光阻剥离液，包括按重量份计的下述组分：有机胺：3-18份；碱性无机盐：0.5-10份；极性有机溶剂：25-60份；阴离子表面活性剂：0.2-3份；氟碳表面活性剂：0.1-1份；金属抗蚀剂：0.1-3份；去离子水：25-50份；其中碱性无机盐占到剥离液总质量的1～8％，去离子水占剥离液总质量的≤42％。本发明专利技术的剥离液使用温度可降至室温进行，具有剥离效率快，能耗低，有机溶剂挥发慢等优点，增强了环保的效果，改善了工厂操作者的生产应用环境，同时延长了剥离液的使用寿命，增强了该产品应用的时效性，很好地降低了生产成本。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术设及一种用于去除电子产品，如触摸屏、集成电路或液晶显示器薄膜晶体 管等用光阻剂的光阻剥离液。
技术介绍
在触摸屏、液晶面板W及微型化电子部件如制造计算机忍片和集成电路的微平板 印刷方法中，通常会使用正性光阻剂，在基板上形成多层精密的微电路。首先将光阻剂薄膜 涂层均匀涂抹在ITO导电玻璃、绝缘膜或金属膜、或集成电路的娃片上，经紫外光、深紫外 光、电子束、离子束、X射线等光照或福射等曝光方法，然后经显影液显影，在光阻剂上形成 导电层图像，最后通过蚀刻工艺将导电层图像转移到基材的表层。完成此工艺后，需要除去 基材表面的为刻蚀充当阻挡层的光阻剂。目前采用湿法工艺的光阻剂剥离液进行基材表面 的清洗，现有技术中运一类清洗剂的主要成分是有机溶剂、碱类物和适量的水。 申请号为201310561003.8公布的一种光刻胶剥离液组分中，是W环氧类的有机溶 剂作为主体，辅W其他溶剂组成的；申请号为201010110463.5提供一种光刻胶剥离液组合 物，该光刻胶剥离液组合物由有机娃类化合物、丙締酸醋类共聚物和有机溶剂组成。虽然有 机溶剂在光刻胶的剥离清洗过程中具有重要的作用，但有机溶剂的大量使用，产生的废气 废水让企业的生产应用面临巨大的环保压力，同时也影响了工厂操作者的操作环境。降低 有机溶剂的组分比例，是目前光刻胶剥离液的技术关键点所在。 目前报导的水性体系的光刻胶剥离液，水所占比例并不大，还是W有机溶剂为主 要组分。增大水含量，必须要提高剥离液的碱性度。常规的水系剥离液中含有的碱一般为无 机碱，如K0H、化OH等。申请号为201410387322.6公布的就是一种由无机强碱类化合物作为 碱性物的剥离液组分，在50-60°C下使用进行光刻胶的剥离。但在高溫下的使用，强碱性会 对金属或玻璃基材，W及一些金属类布线(Al，化)等造成一定的腐蚀。此外W无机碱做剥离 液使用，虽然可W使胶从基材脱落，但却不能起到良好的溶解作用，剥离的渣膜难W过滤， 容易附着产线的其他的装置上，且使用时易堵塞管路。相比之下，在W使用有机碱性物的剥 离液当中，有采用极弱剥离性能的叔烧醇胺代替传统的带有活性氨的伯胺或仲胺等有机胺 W防止Al或Cu金属线的腐蚀申请号为201010604152.4所公布的光刻胶剥离液，采用的是水 合阱或有机胺化合物；申请号为201510078180.X所采用的是脂环醇胺作为该剥离液的重要 成分。但是使用的溫度范围均在50-60°C左右，不但不能降低能耗，而且加快了有机溶剂的 挥发速度至环境中，形成有机物混合蒸汽，造成爆炸的可能性。此外，运也在很大程度上降 低了剥离液的使用寿命，即应用的时效性。
技术实现思路
由于存在上述缺陷，本专利技术在如何改善传统有机剥离液体系存在的环境污染和人 体危害，降低剥离液使用的溫度，和提升剥离液工序应用上的时效性等问题上进行了大量 的研究和开发工作，W解决上述问题。 本专利技术的技术方案为:一种低溫型水系正性光阻剥离液，其特征在于包括按重量 份计的下述组分： 有机胺:3-18份；[000引碱性无机盐:0.5-10份； 极性有机溶剂:25-60份； 阴离子表面活性剂:0.2-3份；[00川氣碳表面活性剂:0.1-1份；[001 ^ 金属抗蚀剂：0.1-3份； 去离子水:25-50份； 其中碱性无机盐占到剥离液总质量的1~8%，去离子水占剥离液总质量的< 42%。 进一步优选的，碱性无机盐占剥离液质量的> 3%，去离子水占剥离液质量的30~ 40%。进一步优选的，碱性无机盐占剥离液质量的< 5%，有机胺占剥离液质量的< 15%。 所述有机胺为醇胺和酷胺中的至少一种。 所述碱性无机盐为娃酸碱金属盐、偏娃酸碱金属盐、碳酸碱金属盐和碳酸氨碱金 属盐中的至少一种。 所述极性有机溶剂为二价酸醋、乙二醇乙酸醋酸醋、二乙二醇乙酸醋酸醋、乙二醇 下酸醋酸醋、二乙二醇下酸醋酸醋、丙二醇甲酸醋酸醋、丙二醇甲酸丙酸醋、二甘醇乙酸、苯 甲醇、乙二醇苯酸和乙二醇苯酸醋酸醋中的至少一种。 所述阴离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙締酸硫酸钢、挪油酷基甲基牛横酸钢和a-締控横酸盐中的至少一种。 所述氣碳表面活性剂为全氣辛酸钢、全氣辛酸钟和全氣己基横酸钟中至少一种。 所述金属抗蚀剂为3-氨基-1，2,4-S氮挫、2-麟酸基下烧-1，2,4-S簇酸、径基乙 叉二麟酸和氨基=甲叉麟酸中的至少一种。 所述去离子水为经过离子交换树脂，电阻至少是18MQ的水。 本专利技术的优点和有益效果在于： 1)与现有的在50-60°C溫度下清洗剥离技术相比，该剥离液使用溫度可降至室溫 (20~25°C)进行使用，剥离效率快，能耗低，有机溶剂挥发慢等优点。 2)较高的水含量使得有机溶剂的组分相应降低，增强了环保的效果，改善了工厂 操作者的生产应用环境； 3)有机碱和无机碱性盐的巧妙搭配使用，使得该剥离液的碱性值得W有效的稳 定，从而延长了剥离液的使用寿命，增强了该产品应用的时效性，很好地降低了生产成本。 4)该剥离液的剥离速度适中，室溫下采用喷淋的方式进行清洗后，用1000 X倍的 显微镜观察，剥离后的基材无残胶;观察侣或铜的金属层，几乎没有腐蚀，可W满足生产应 用的基本要求。【具体实施方式】 下面结合实施例，对本专利技术的【具体实施方式】作进一步描述。W下的实施例是仅用 于更加清楚地说明本专利技术的技术方案，并非是W此来限制本专利技术所要求保护的范围。 本专利技术中有机胺可W采用醇胺和酷胺(如二乙醇酷胺），具有高碱性，挥发性低，气 味低等特点。碱性无机盐为水解后溶液显碱性的盐，可W采用娃酸碱金属盐、偏娃酸碱金属 盐、碳酸碱金属盐和碳酸氨碱金属盐等强碱弱酸盐，例如:无水娃酸钢、五水偏娃酸钢、无水 碳酸钢、无水碳酸氨钢、娃酸钟、五水偏娃酸钟、无水碳酸氨钟、无水碳酸钟。表面活性剂采 用阴离子表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙締酸硫酸钢、挪油酷基甲基牛横酸钢和Q-締控横酸 盐，与氣碳表面活性剂，如全氣辛酸钢、全氣辛酸钟和全氣己基横酸钟的搭配应用，实验证 明运样的复配会产生更为优越的协同效应，不但可显著降低液体的表面张力，而且对基材 的表面润湿更为充分，有利于提高剥离液的剥离性能。 本专利技术实施例1-12的低溫型水系正性光阻剥离液的配方组成和含量(重量％ )见 表1。优选的，有机胺:5-15 % ;碱性无机盐:3-5 % ;极性有机溶剂:36-58 % ;阴离子表面活性 剂:0.3-2 % ;氣碳表面活性剂:0.2-0.8 % ;金属抗蚀剂:0.2-1 % ;去离子水:30-42 %。所用 去离子水为经过离子交换树脂，电阻至少是18MQ的水。制备方法为:按照配方质量要求，将 有机胺溶于极性有机溶剂，将碱性无机盐溶于去离子水，将二者混合，再加入阴离子表面活 性剂、氣碳表面活性剂和金属抗蚀剂，混合揽拌均匀，脱泡，采用100-400目过滤当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种低温型水系正性光阻剥离液，其特征在于包括按重量份计的下述组分：有机胺：3‑18份；碱性无机盐：0.5‑10份；极性有机溶剂：25‑60份；阴离子表面活性剂：0.2‑3份；氟碳表面活性剂：0.1‑1份；金属抗蚀剂：0.1‑3份；去离子水：25‑50份；其中碱性无机盐占到剥离液总质量的1～8％，去离子水占剥离液总质量的≤42％。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘欢，谭民洲，吴曼俊，
申请(专利权)人：长沙晟辉新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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