一种超导量子干涉器件的封装结构制造技术

技术编号:13173600 阅读:49 留言:0更新日期:2016-05-10 16:40
本发明专利技术提供一种超导量子干涉器件的封装结构,包括:封装槽,底部和侧壁形成有低通滤波层;底板,固定于所述封装槽底部的低通滤波层表面,且制备有器件引出电极;超导量子干涉器件,固定于底板上,并实现电性连接;盖板,密封覆盖于封装槽上形成容置空间,以将超导量子干涉器件封装于该容置空间内,且盖板朝向封装槽的一面形成有低通滤波层,所述低通滤波层包括金属粉末与低温胶的混合物层。本发明专利技术在超导量子干涉器件的封装结构中加入由金属纳米粒子构成的屏蔽层,可以有效防止外界射频电磁场进入到超导量子干涉器件中,同时低温胶的绝缘特性使得屏蔽层不能构成导通回路因此不产生金属涡流,从而提高了超导量子干涉器件的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超导量子干涉器件(SQUID)
,涉及一种SQUID器件的封装方案,尤其是设计一种能够有效防止外界高频电磁场干扰的SQUID器件的封装结构。
技术介绍
超导量子干涉器件(superconductingquantum interference device,SQUID)是基于约瑟夫森效应和磁通量子化原理的超导量子器件,它的基本结构是在超导环中插入两个约瑟夫森结,SQUID是目前最灵敏的磁通传感器,典型的SQUID器件的磁通噪声在μΦΟ/HzV2量级(1 Φ0 = 2.07 X 10-15Wb),其磁场噪声在fT/HzV2量级(lfT = l X 10-15T),由于其具有极高的灵敏度,SQUID器件在生物磁检测、无损检测、低场核磁共振、地球物理磁场探测等应用领域具有极大的应用潜力。在测量SQUID器件的噪声时,通常将SQUID器件置于磁屏蔽环境中,如磁屏蔽室或利用超导材料制作的屏蔽筒,以屏蔽外界的电磁场干扰。但在SQUID器件应用时,因为SQUID器件需要感应外界待测信号,因此不能将SQUID器件完全屏蔽起来。外界的射频电磁场将对SQUID器件的性质产生影响,有文献报道了射频场对SQUID器件影响的研究结果(Effectsof rad1 frequency radiat1n on the tic SQUID,Appl.Phys.Lett.65,100(1994)),射频电磁场改变了SQUID器件的临界电流、电流-电压特性曲线等,使得SQUID器件工作不稳定,因此减弱射频电磁场对SQUID器件的影响对于SQUID器件应用具有重要的作用。在使用SQUID器件测量弱磁信号时,需要将SQUID器件安装在提供低温环境的杜瓦容器内,因此在研究如何抑制射频电磁场对SQUID器件的影响时,主要提出的射频屏蔽方案是对杜瓦容器进行射频屏蔽方案。因为电磁波在空间中传输时,由于金属导体的趋肤效应,高频电磁波被金属损耗掉,而低频电磁波损耗较小,根据这一原理,通过使用金属薄膜材料来包裹杜瓦,来抑制射频电磁场的影响。由于杜瓦的形状和结构的不同,对于具体的杜瓦而言,通过改变金属薄膜的厚度或包裹的层数来优化射频屏蔽的效果。典型SQUID器件的封装结构如图1所示,它由底板101和盖板102两部分组成,在底板101上制备有器件引出电极,将SQUID芯片103贴在底板表面,将SQUID芯片103电极引出引线104至底板电极上,并将底板和盖板连接处密封。由于SQUID器件是磁场传感器,因此封装过程中使用的材料是非金属无磁材料,以防止在测量弱磁信号过程中受到磁性材料和金属涡流的影响,然而,这种结构的SQUID器件并不能避免高频干扰的影响。针对射频电磁场对SQUID器件的干扰问题,本专利技术提出一种屏蔽高频干扰的SQUID器件封装设计,将SQUID器件安装在由金属粉构成的封状结构中,由于金属粉能够衰减高频干扰,使得高频干扰不能对SQUID产生影响,从而有效的解决高频干扰的问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点,本专利技术的目的在于提供一种超导量子干涉器件的封装结构,针对空间中高频干扰对SQUID器件的影响问题,利用金属对高频电磁场的衰减特性,提出在SQUID器件封装结构中加入由金属粉制作的封装结构,这个结构屏蔽外界高频电磁场,相当于一个低通滤波器,使高频干扰不能穿过封装结构进入到SQUID器件中,提高SQUID器件的稳定性。为实现上述目的及其他相关目的,本专利技术提供一种超导量子干涉器件的封装结构,所述封装结构包括:封装槽,所述封装槽的底部和侧壁形成有低通滤波层;底板,固定于所述封装槽底部的混合物层表面,且所述底板上制备有器件引出电极;超导量子干涉器件,固定于所述底板上,且所述超导量子干涉器件的芯片电极与所述器件引出电极电性连接;以及盖板,密封覆盖于所述封装槽上形成容置空间,以将所述超导量子干涉器件封装于该容置空间内,且所述盖板朝向封装槽的一面形成有低通滤波层。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述盖板覆盖所述封装槽上时,所述封装槽上的低通滤波层以及所述盖板上的低通滤波层配合形成密封腔体结构。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述封装槽的低通滤波层内还形成有一个或两个以上的内槽体,且各内槽体表面均形成有低通滤波层,所述盖板的低通滤波层表面还形成有一个或两个以上的内盖体,且各内盖体表面均形成有低通滤波层,所述盖板覆盖所述封装槽上时,各内槽体与对应的内盖体配合形成密封腔体结构,且各内槽体表面的低通滤波层与对应的内盖体表面的低通滤波层配合形成密封腔体结构,其中,所述低通滤波层包括金属粉末与低温胶的混合物层。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述低通滤波层为金属粉末与环氧树脂的混合物层。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述金属粉末于所述混合物层中所占的重量比例为70-80%。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述金属粉末与低温胶的混合物层的厚度范围为0.l-0.3_。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述金属粉末的材料包括银、铜、铝中的一种或两种以上组合。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述金属粉末的粒度范围为l-1000nmo作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述内槽体及内盖体的材质为无磁玻璃纤维材料。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述封装槽及盖板的材质为无磁玻璃纤维材料。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述封装槽为方形凹槽,所述盖板为方形盖板。作为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种优选方案,所述封装槽的内径范围为11?14mm,外径范围为13?15mm,所述盖板的直径范围为13?15mm。如上所述,本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构,具有以下有益效果:本专利技术在超导量子干涉器件的封装结构中加入由金属纳米粒子构成的屏蔽层,由于金属粉能够衰减高频干扰,这层屏蔽可以有效防止外界射频电磁场进入到超导量子干涉器件中,同时低温胶的绝缘特性使得屏蔽层不能构成导通回路从而不产生金属涡流,从而提高了超导量子干涉器件的稳定性。本专利技术结构简单,在超导量子干涉器件(SQUID)
具有广泛的应用前景。【附图说明】图1显示现有技术中的一种超导量子干涉器件的封装结构的结构示意图。图2显示为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的一种实施方式结构示意图。图3显示为本专利技术的超导量子干涉器件的封装结构的另一种实施方式结构示意图。元件标号说明201封装槽202封装槽的低通滤波层203盖板204盖板的低通滤波层205底板206超导量子干涉器件207 引线208内槽体209内槽体的低通滤波层210内盖体211内盖体的低通滤波层【具体实施方式】以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的【具体实施方式】加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图2?图3。需要说明的是,本实施例中所本文档来自技高网
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一种超导量子干涉器件的封装结构

【技术保护点】
一种超导量子干涉器件的封装结构,其特征在于,所述封装结构包括:封装槽,所述封装槽的底部和侧壁形成有低通滤波层;底板,固定于所述封装槽底部的混合物层表面,且所述底板上制备有器件引出电极;超导量子干涉器件,固定于所述底板上,且所述超导量子干涉器件的芯片电极与所述器件引出电极电性连接;盖板,密封覆盖于所述封装槽上形成容置空间,以将所述超导量子干涉器件封装于该容置空间内,且所述盖板朝向封装槽的一面形成有低通滤波层;其中,所述低通滤波层包括金属粉末与低温胶的混合物层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张栖瑜王会武刘全胜蒋坤应利良王镇
申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
类型:发明
国别省市:上海;31

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