涡旋型流体设备制造技术

涡旋型流体压缩机包括涡盘单元(4)及自转阻止机构(30)，所述涡盘单元(4)具有底板中心(3c)与环绕件涡旋中心(3d)发生偏心的定涡盘(2)及动涡盘(3)，所述自转阻止机构(30)沿动涡盘(3)的周向配置有多个自转阻止部(33)，所述自转阻止部(33)由动涡盘(3)侧的圆形孔(31)及外壳的销(32)构成，所述涡旋型流体压缩机的自转阻止机构(30)使将动涡盘底板中心(3c)和环绕件涡旋中心(3d)连接的直线(A)以底板中心为中心沿与环绕件(3b)的卷绕方向相反的方向旋转90°，将旋转后的直线(A)与自转阻止节圆(p)相交的点设定为一个自转阻止部(33)的中心位置，并以该自转阻止部(33)作为基准在自转阻止节圆(p)上以等间隔配置其它的自转阻止部(33)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涡旋型流体设备
本专利技术涉及一种涡旋型流体设备，特别是涉及一种动涡盘的自转阻止机构。
技术介绍
涡旋型流体设备包括涡盘单元及自转阻止机构，其中，上述涡盘单元具有在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件(日文：ラップ)的定涡盘及动涡盘，上述定涡盘及动涡盘彼此相对并啮合，在这两个涡盘的环绕件间形成密闭空间，上述自转阻止机构阻止动涡盘的自转，在上述涡旋型流体设备中，利用自转阻止机构对动涡盘的自转进行阻止，并且使动涡盘绕定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而改变密闭空间的容积，以将流体压缩或使流体膨胀。作为这种涡旋型流体设备的自转阻止机构，已知有例如在专利文献1中记载的机构。详细而言，上述自转阻止机构构成为沿动涡盘的周向配置有多个自转阻止部，上述自转阻止部由在动涡盘侧及外壳侧相对地突出设置的各销以及与两个销卡合的环构成。在上述结构中，当动涡盘绕定涡盘的轴心回旋时，自转阻止部的靠动涡盘一侧的销在靠外壳一侧的销的周围处受到环限制，同时进行回旋，从而阻止动涡盘的自转。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-208715号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题但是，在例如涡旋型压缩机中，随着压缩而产生的压缩反作用力，会在动涡盘上产生自转力矩，由该自转力矩产生的载荷会作用于自转阻止部，当载荷集中到一个自转阻止部时，会发生使销破损这样的问题。因而，在专利文献1记载的自转阻止机构中，示出了当自转力矩最大时载荷不会集中到一个自转阻止部这样的多个自转阻止部的配置结构。但是，在专利文献1中并未示出如下情况，即，为了实现涡旋型流体设备的小型化(压缩机的主体直径缩小)，而使涡旋状的环绕件中心相对于动涡盘的底板中心偏心的情况。在涡旋状的环绕件中心相对于动涡盘的底板中心偏心的情况下，在动涡盘回旋一圈的过程中，从动涡盘的底板中心到作用于动涡盘的压缩反作用力的中心间的距离发生变化，即使压缩反作用力恒定，根据动涡盘的回旋位置不同，所产生的自转力矩也会发生变动。因此，在为了实现小型化而使涡旋状的环绕件中心相对于动涡盘的底板中心偏心的涡旋型流体设备中，也在考虑了因动涡盘的回旋位置引起的自转力矩的变动后，来确定自转阻止部的配置，这对于降低作用在自转阻止部上的载荷来提高自转阻止机构的耐久性是重要的。本专利技术着眼于上述问题而作，其目的在于提供一种能够实现涡旋型流体设备的小型化以及自转阻止机构的耐久性提高的涡旋型流体设备。解决技术问题所采用的技术方案因而，本专利技术的涡旋型流体设备包括：涡盘单元，上述涡盘单元使定涡盘及动涡盘以各自的环绕件相对的方式啮合而形成密闭空间，其中，上述定涡盘及动涡盘在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件，并且上述底板的中心与上述环绕件的涡旋中心彼此偏心；以及自转阻止机构，上述自转阻止机构沿上述动涡盘的周向至少配置有三个以上的自转阻止部来阻止上述动涡盘的自转，上述自转阻止部由圆形孔和销构成，其中，所述圆形孔形成在上述动涡盘的底板的背面和与上述背面相对的外壳壁中的任一方上，上述销与上述圆形孔卡合并突出设置在上述动涡盘的底板的背面和与上述背面相对的外壳壁中的另一方上，上述涡旋型流体设备利用上述自转阻止机构阻止上述动涡盘的自转，并且使上述动涡盘绕上述定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而使上述密闭空间的容积变化，其特征是，上述自转阻止机构形成为：将上述自转阻止部中的至少一个配置成使上述圆形孔的中心位于与将上述动涡盘的底板中心和上述环绕件的涡旋中心连接的直线正交且穿过上述底板中心的直线上。专利技术效果根据本专利技术的涡旋型流体设备，将三个以上的销及孔方式的自转阻止部中的至少一个设置成使圆形孔的中心位于与将动涡盘底板中心和环绕件涡旋中心连接的直线正交且穿过底板中心的直线上，因此，在使动涡盘底板中心与环绕件涡旋中心发生偏心的涡旋型流体设备中，在动涡盘回旋一圈的过程中，当从底板中心到压缩反作用力中心的距离最大时，从动涡盘底板中心到自转阻止部的距离为最长。因而，能够降低因动涡盘所产生的自转力矩而作用在自转阻止部的销上的载荷，能够实现涡旋型流体设备的小型化，并且能够提高自转阻止机构的耐久性。附图说明图1是表示本专利技术的第一实施方式的涡旋型压缩机的主视图。图2是涡盘单元的说明图。图3是构成自转阻止机构的自转阻止部的放大剖视图。图4是动涡盘底板上的自转阻止机构的自转阻止部的配置图。图5是动涡盘回旋时的压缩反作用力中心与动涡盘底板中心间的距离变动的说明图。图6是动涡盘回旋时的从动涡盘底板中心到自转阻止部的距离变动的说明图。图7是本实施方式的自转阻止部的配置顺序的说明图。图8是表示使动涡盘底板中心与环绕件的涡旋中心的偏心量发生变化时的动涡盘姿势的解析结果的图。具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式进行详细说明。另外，本专利技术的涡旋型流体设备能够用作压缩机或膨胀机，在此以压缩机的例子进行说明。图1至图4表示本实施方式的涡旋型压缩机的结构，图1是表示整体结构的剖视图，图2是涡盘单元的说明图，图3是构成自转阻止机构的自转阻止部的放大剖视图，图4是动涡盘底板上的自转阻止机构的自转阻止部的配置图。涡旋型压缩机1包括涡盘单元4，该涡盘单元4具有沿中心轴向相对配置的定涡盘2及动涡盘3。如图2所示，定涡盘2在底板2a上一体地竖立设置有涡旋状的环绕件2b。同样，动涡盘3也在底板3a上一体地竖立设置有涡旋状的环绕件3b。两个环绕件2b、3b形成为渐开线或接近渐开线的曲线形状，定涡盘2的环绕件2b形成为使涡旋中心2d(渐开线的基础圆中心，以下称为固定涡旋中心)相对于定涡盘2的底板中心2c偏心。另外，动涡盘3的环绕件3b形成为使涡旋中心3d(渐开线的基础圆中心，以下称为可动涡旋中心)相对于动涡盘3的底板中心3c偏心。由此，能够减小涡盘单元4的外径，缩小涡旋型压缩机1的主体直径，并能实现涡旋型压缩机1的小型化。两个涡盘2、3配置为使两个环绕件2b、3b啮合，定涡盘2的环绕件2b的突出侧的端缘与动涡盘3的底板3a接触，动涡盘3的环绕件3b的突出侧的端缘与定涡盘2的底板2b接触。另外，在两个环绕件2b、3b的突出侧的端缘设置有顶端密封件。另外，两个涡盘2、3配置为在两个环绕件2b、3b的周向的角度彼此错开的状态下，两个环绕件2b、3b的侧壁相互局部地接触。由此，在两个环绕件2b、3b间形成新月状的密闭空间、即流体槽5。动涡盘3以底板中心3c(轴心)相对于定涡盘2的底板中心2c(轴心)偏心的方式组装，利用后述的自转阻止机构30阻止动涡盘3的自转，并且利用驱动机构使动涡盘3绕定涡盘2的底板中心2c以由两个环绕件2b、3b间的接触规定的回旋半径AOR进行公转回旋运动。由此，两个环绕件2b、3b间发生接触，并且形成在两个环绕件2b、3b间的流体槽5从环绕件2b、3b的外端部朝向中心部移动，从而流体槽5的容积朝缩小方向变化。因而，将从环绕件2b、3b的外端部侧引入到流体槽5内的流体(例如制冷剂气体)压缩。另外，在膨胀机的情况下，流体槽5相反地从环绕件2b、3b的中心部朝向外端部移动，从而流体槽5的容积朝增大方向变化，使从环绕件2b、3b的中心部侧引入到流体槽5内的流体膨胀。涡旋型压缩机1的外壳由将涡盘单元4包围的中央外壳6、配置在该中央外壳6前侧的前部外壳7以及配置在上述中央外壳6后侧的后部外壳8构成。在本实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡旋型流体设备，包括：涡盘单元，所述涡盘单元使定涡盘及动涡盘以各自的环绕件相对的方式啮合来形成密闭空间，其中，所述定涡盘及所述动涡盘在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件，且所述底板的中心与所述环绕件的涡旋中心彼此偏心；以及自转阻止机构，所述自转阻止机构沿所述动涡盘的周向至少配置有三个以上的自转阻止部来阻止所述动涡盘的自转，所述自转阻止部由圆形孔和销构成，其中，所述圆形孔形成在所述动涡盘的底板的背面和与所述背面相对的外壳壁中的任一方上，所述销与所述圆形孔卡合并突出设置在所述动涡盘的底板的背面和与所述背面相对的外壳壁中的另一方上，所述涡旋型流体设备利用所述自转阻止机构阻止所述动涡盘的自转，并且使所述动涡盘绕所述定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而使所述密闭空间的容积变化，其特征在于，所述自转阻止机构形成为：将所述自转阻止部中的至少一个配置成使所述圆形孔的中心位于与将所述动涡盘的底板中心和所述环绕件的涡旋中心连接的直线正交且穿过所述底板中心的直线上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.09.19 JP 2013-1940781.一种涡旋型流体设备，包括：涡盘单元，所述涡盘单元使定涡盘及动涡盘以各自的环绕件相对的方式啮合来形成密闭空间，其中，所述定涡盘及所述动涡盘在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件，且所述底板的中心与所述环绕件的涡旋中心彼此偏心；以及自转阻止机构，所述自转阻止机构沿所述动涡盘的周向至少配置有三个以上的自转阻止部来阻止所述动涡盘的自转，所述自转阻止部由圆形孔和销构成，其中，所述圆形孔形成在所述动涡盘的底板的背面和与所述背面相对的外壳壁中的任一方上，所述销与所述圆形孔卡合并突出设置在所述动涡盘的底板的背面和与所述背面相对的外壳壁中的另一方上，所述涡旋型流体设备利用所述自转阻止机构阻止所述动涡盘的自转，并且使所述动涡盘绕所述定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而使所述密闭空间的容积变化，其特征在于，所述自转阻止机构形成为：将所述自转阻止部中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：本田宏，
申请(专利权)人：三电控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP