涡旋型流体设备制造技术

提供一种涡旋型流体设备，包括能通过将从动涡盘传递至壳体的振动衰减，来降低释放到涡旋型流体设备外部的噪声的自转阻止机构。涡旋型流体设备(1)包括自转阻止机构(36)，该自转阻止机构在不妨碍动涡盘(16)相对于固定在壳体(4)上的定涡盘(14)的公转回旋运动的情况下，阻止动涡盘的自转，自转阻止机构具有：支承孔(42)，该支承孔穿设在动涡盘的基板(16a)和壳体的底座部(4a)中的任意一方上；自转阻止销(38)，该自转阻止销嵌入支承孔，并且朝基板和底座部中的任意另一方侧突出；限制孔(46)，该限制孔穿设在基板及底座部中的任意另一方上，并且供自转阻止销游隙嵌合；以及缓冲构件(44)，该缓冲构件夹设在支承孔和限制孔中的至少支承孔与自转阻止销之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种涡旋型流体设备，特别是涉及适合组装在车用空调装置中的涡旋型流体设备。
技术介绍
已知在这种涡旋型流体设备中设置有自转阻止机构，该自转阻止机构在不妨碍动涡盘相对于固定在壳体上的定涡盘的公转回旋运动的情况下，阻止上述动涡盘的自转。此外，例如，在专利文献1中公开有一种涡旋式压缩机，在该涡旋式压缩机中，使公转位置限制环夹设在基板与壳体(外壳)的底座部(承压壁)之间，其中，上述基板立设有动涡盘的涡卷壁，上述壳体(外壳)的底座部(承压壁)与上述基板相对地定位设置，使与上述公转位置限制环一体的自转阻止销朝基板侧及底座部侧突出，将上述自转阻止销与穿设在基板及底座部上的限制孔(公转位置限制孔)游隙嵌合。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特许第3018850号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题在上述现有技术的自转阻止机构中，自转阻止销贯穿公转位置限制环、即环状板，而与设置在动涡盘的基板及外壳的底座部这两者上的限制孔游隙嵌合，来阻止动涡盘的自转。因而，伴随着涡旋式压缩机的动作而产生的制冷剂的压缩反作用力及通过驱动动涡盘旋转的驱动轴作用于动涡盘的振动会经由贯穿环状板的自转阻止销而直接传递至壳体，并将噪声释放到压缩机的外部。特别是，由于自转阻止销一般由高硬度材料形成，高频的振动传递率高，因此，在壳体上容易产生高频噪声，有可能使例如装设压缩机的车用空调装置及车辆的振动及杂音增大。本专利技术为解决上述技术问题而作，其目的在于提供一种包括销+孔式或销+环式的自转阻止机构的涡旋型流体设备，在该涡旋型流体设备中，通过将从动涡盘传递至壳体的振动衰减，从而能降低释放到涡旋型流体设备外部的噪声、即振动及杂音。解决技术问题所采用的技术方案为了实现上述目的，第一技术方案记载的本专利技术的涡旋型流体设备包括自转阻止机构，该自转阻止机构在不妨碍动涡盘相对于固定在壳体上的定涡盘的公转回旋运动的情况下，阻止所述动涡盘的自转，其特征是，自转阻止机构具有：支承孔，该支承孔穿设在基板和壳体的底座部中的任意一方上，其中，上述基板立设有动涡盘的涡卷壁，上述壳体的底座部与该基板相对地定位设置；自转阻止销，该自转阻止销嵌入支承孔，并且朝基板和底座部中的任意另一方侧突出；限制孔，该限制孔穿设在基板及底座部中的任意另一方上，并且供自转阻止销游隙嵌合；以及缓冲构件，该缓冲构件夹设在支承孔和限制孔中的至少支承孔与自转阻止销之间。此外，第二技术方案记载的本专利技术的涡旋型流体设备包括自转阻止机构，该自转阻止机构在不妨碍动涡盘相对于固定在壳体上的定涡盘的公转回旋运动的情况下，阻止所述动涡盘的自转，其特征是，自转阻止机构具有：缓冲构件，该缓冲构件是配置在基板与壳体的底座部之间的环状板，其中，上述基板立设有动涡盘的涡卷壁，上述壳体的底座部与该基板相对地定位设置；第一支承孔，该第一支承孔穿设于缓冲构件；第一自转阻止销，该第一自转阻止销嵌入第一支承孔，并且朝基板和底座部中的任意一方侧突出；限制孔，该限制孔穿设在基板及底座部中的任意一方上，并且供自转阻止销游隙嵌合；以及限制元件，该限制元件对缓冲构件相对于基板和底座部中的任意另一方的移动进行限制。在第三技术方案记载的专利技术中，限制元件具有：第二支承孔，该第二支承孔穿设于缓冲构件；固定销，该固定销嵌入第二支承孔，并且朝基板和底座部中的任意另一方侧突出；以及第三支承孔，该第三支承孔穿设在基板和底座部中的任意另一方上，并且供固定销嵌入。在第四技术方案记载的专利技术中，限制元件具有：第二支承孔，该第二支承孔穿设于缓冲构件；第二自转阻止销，该第二自转阻止销嵌入第二支承孔，并且朝基板和底座部中的任意另一方侧突出；以及第二限制孔，该第二限制孔穿设在基板和底座部中的任意另一方上，并且供第二自转阻止销游隙嵌合。在第五技术方案记载的专利技术中，缓冲构件由振动衰减率比自转阻止销的振动衰减率高的材料形成。在第六技术方案记载的专利技术中，包括背压结构，在该背压结构中，通过使动涡盘相对于定涡盘进行公转回旋运动，从而在底座部与缓冲构件之间形成包含润滑油在内的工作流体的背压室，利用背压室将动涡盘隔着缓冲构件向定涡盘进行按压施力。专利技术效果根据第一技术方案记载的本专利技术的涡旋型流体设备，通过使缓冲构件夹设在自转阻止销的支承孔及限制孔中的至少支承孔与自转阻止销之间，从而能在缓冲构件中将从定涡盘经由自转阻止销传递至壳体的振动衰减。因而，能降低释放到涡旋型流体设备的外部的噪声，进而能降低由上述噪声引起的振动及杂音，能大幅改善涡旋型流体设备的噪声特性。根据第二技术方案记载的本专利技术的涡旋型流体设备，将环状板即缓冲构件配置在动涡盘的立设有涡卷壁的基板与和该基板相对地定位设置的壳体的底座部之间，并使第一自转阻止销从缓冲构件朝基板和底座部中的任意一方突出而与第一限制孔游隙嵌合，利用限制元件对缓冲构件相对于基板和底座部中的任意另一方的移动进行限制。在这种情况下，也能在缓冲构件中将从动涡盘经由自转阻止销传递至壳体的振动衰减，能降低释放到涡旋型流体设备的外部的噪声，进而能降低由该噪声引起的振动及杂音，从而能大幅改善涡旋型流体设备的噪声特性。根据第三技术方案记载的专利技术，具体来说，限制元件利用固定销将缓冲构件经由第二支承孔及第三支承孔固定于基板和底座部中的任意另一方。另一方面，根据第四技术方案的专利技术，也可以由第二支承孔、第二自转阻止销及第二限制孔来构成限制元件，并起到自转阻止机构的一部分的作用。根据第五技术方案记载的专利技术，通过使缓冲构件由振动衰减率比自转阻止销的振动衰减率高的材料形成，由于自转阻止销一般由高硬度材料形成，高频噪声的振动传递率高，因此，能有效地降低从涡旋型流体设备释放出的高频噪声。根据第六技术方案记载的专利技术，由于能利用背压结构的背压室的压力使底座部与缓冲构件分开，因此，不仅能在缓冲构件中将从动涡盘传递至壳体的振动衰减，在背压室中也能将上述振动衰减，能进一步降低释放到涡旋型流体设备的外部的噪声，进而能进一步降低由上述噪声引起的振动及杂音，从而能更进一步大幅地改善涡旋型流体设备的噪声特性。附图说明图1是本专利技术实施例1的涡旋式压缩机的纵剖视图。图2是表示本专利技术实施例2的涡旋式压缩机的中间壳体内的分解立体图。图3是图2的中间壳体内的纵剖视图。具体实施方式以下，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡旋型流体设备，包括自转阻止机构，该自转阻止机构在不妨碍动涡盘相对于固定在壳体上的定涡盘的公转回旋运动的情况下，阻止所述动涡盘的自转，其特征在于，所述自转阻止机构具有：支承孔，该支承孔穿设在基板和所述壳体的底座部中的任意一方上，其中，所述基板立设有所述动涡盘的涡卷壁，所述壳体的底座部与所述基板相对地定位设置；自转阻止销，该自转阻止销嵌入所述支承孔，并且朝所述基板和所述底座部中的任意另一方侧突出；限制孔，该限制孔穿设在所述基板及所述底座部中的任意另一方上，并且供所述自转阻止销游隙嵌合；以及缓冲构件，该缓冲构件夹设在所述支承孔和所述限制孔中的至少所述支承孔与所述自转阻止销之间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.07.30 JP 2013-1575171.一种涡旋型流体设备，包括自转阻止机构，该自转阻止机构在不妨
碍动涡盘相对于固定在壳体上的定涡盘的公转回旋运动的情况下，阻止所
述动涡盘的自转，
其特征在于，
所述自转阻止机构具有：
支承孔，该支承孔穿设在基板和所述壳体的底座部中的任意一方上，
其中，所述基板立设有所述动涡盘的涡卷壁，所述壳体的底座部与所述基
板相对地定位设置；
自转阻止销，该自转阻止销嵌入所述支承孔，并且朝所述基板和所述
底座部中的任意另一方侧突出；
限制孔，该限制孔穿设在所述基板及所述底座部中的任意另一方上，
并且供所述自转阻止销游隙嵌合；以及
缓冲构件，该缓冲构件夹设在所述支承孔和所述限制孔中的至少所述
支承孔与所述自转阻止销之间。
2.一种涡旋型流体设备，包括自转阻止机构，该自转阻止机构在不妨
碍动涡盘相对于固定在壳体上的定涡盘的公转回旋运动的情况下，阻止所
述动涡盘的自转，
其特征在于，
所述自转阻止机构具有：
缓冲构件，该缓冲构件是配置在基板与所述壳体的底座部之间的环状
板，其中，所述基板立设有所述动涡盘的涡卷壁，所述壳体的底座部与所
述基板相对地定位设置；
第一支承孔，该第一支承孔穿设于所述缓冲构件；
第一自转阻止销，该第一自转阻止销嵌入所述第一支承孔，并且朝所
述基板和所述底座部中的任意一方侧突出；
第一限制孔，该第一限制孔穿设在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：田口正则，
申请(专利权)人：三电控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP