一种玻璃、亚克力生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种玻璃、亚克力生产工艺，包括以下步骤：步骤一，素材选择及洁净处理；步骤二，底膜静电喷涂处理；步骤三，气体、高精油高压分布于玻璃、亚克力表面；步骤四，真空镀膜机表面膜层处理；步骤五，紫外线固化；其中在所述的步骤一中，选择玻璃、亚克力透明材料为素材，且表面高洁净化清洁表面，并进行表面静电处理；其中在所述的步骤二中，底膜静电喷涂处理，采用红外线流平，紫外线380-850mj/光固结效，且进行二次表面增透，膜基数为28微粒；该玻璃、亚克力生产工艺，整体工艺简单，易于实现，效率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机玻璃生产应用
，尤其是一种玻璃、亚克力生产工艺。
技术介绍
玻璃、亚克力，又称为有机玻璃。有机玻璃(Polymethyl methacrylate)是一种通俗的名称，缩写为PMMA。此高分子透明材料的化学名称叫聚甲基丙烯酸甲酯，是由甲基丙烯酸甲酯聚合而成的高分子化合物。是一种开发较早的重要热塑性塑料。有机玻璃分为无色透明，有色透明，珠光，压花有机玻璃四种。有机玻璃俗称亚克力、中宣压克力、亚格力，有机玻璃具有较好的透明性、化学稳定性，力学性能和耐候性，易染色，易加工，外观优美等优点。现有技术中没有一种生产工艺可以实现简单，方便的操作，弥补现有技术的不足，就要在玻璃，亚克力有机玻璃上进行创新。
技术实现思路
现有技术难以人们的需要，为了解决上述存在的问题，本专利技术提出了一种玻璃、亚克力生产工艺。为实现该技术目的，本专利技术采用的技术方案是:一种玻璃、亚克力生产工艺，包括以下步骤: 步骤一，素材选择及洁净处理； 步骤二，底膜静电喷涂处理； 步骤三，气体、高精油高压分布于玻璃、亚克力表面； 步骤四，真空镀膜机表面膜层处理； 步骤五，紫外线固化； 其中在所述的步骤一中，选择玻璃、亚克力透明材料为素材，且表面高洁净化清洁表面，并进行表面静电处理； 其中在所述的步骤二中，底膜静电喷涂处理，采用红外线流平，紫外线380-850mj/光固结效，且进行二次表面增透，膜基数为28微粒； 在所述的步骤三中，高洁净气体、高精油水分离处理器，特殊器具组合，高压分布水珠玻璃及亚克力表面； 在所述的步骤四中，真空镀膜机，高压物理反应纳米分子结构覆着表面膜层； 在所述的步骤五中，紫外线固化处理。作为本专利技术的进一步技术方案:在所述的步骤一中:采用超声波、红外线并晾干的工艺进行表面清洁处理。作为本专利技术的进一步技术方案:在所述的步骤四中，真空镀膜机为4_6Mpa的真空镀膜机。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果:该玻璃、亚克力生产工艺，整体工艺简单，易于实现，效率高。【附图说明】图1为本专利技术的工艺流程图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅说明书附图1，在本专利技术实施例中，一种玻璃、亚克力生产工艺，包括以下步骤: 步骤一，素材选择及洁净处理； 步骤二，底膜静电喷涂处理； 步骤三，气体、高精油高压分布于玻璃、亚克力表面； 步骤四，真空镀膜机表面膜层处理； 步骤五，紫外线固化； 其中在所述的步骤一中，选择玻璃、亚克力透明材料为素材，且表面高洁净化清洁表面，并进行表面静电处理； 其中在所述的步骤二中，底膜静电喷涂处理，采用红外线流平，紫外线380-850mj/光固结效，且进行二次表面增透，膜基数为28微粒； 在所述的步骤三中，高洁净气体、高精油水分离处理器，特殊器具组合，高压分布水珠玻璃及亚克力表面； 在所述的步骤四中，真空镀膜机，高压物理反应纳米分子结构覆着表面膜层； 在所述的步骤五中，紫外线固化处理。作为本专利技术的进一步技术方案:在所述的步骤一中:采用超声波、红外线并晾干的工艺进行表面清洁处理。作为本专利技术的进一步技术方案:在所述的步骤四中，真空镀膜机为4_6Mpa的真空镀膜机。以上所述，仅为本专利技术的较佳实施例，并不用以限制本专利技术，凡是依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进，均应包含在本专利技术技术方案的保护范围之内。【主权项】1.一种玻璃、亚克力生产工艺，包括以下步骤: 步骤一，素材选择及洁净处理； 步骤二，底膜静电喷涂处理； 步骤三，气体、高精油高压分布于玻璃、亚克力表面； 步骤四，真空镀膜机表面膜层处理； 步骤五，紫外线固化； 51.其中在所述的步骤一中，选择玻璃、亚克力透明材料为素材，且表面高洁净化清洁表面，并进行表面静电处理； 52.其中在所述的步骤二中，底膜静电喷涂处理，采用红外线流平，紫外线380-850mj/光固结效，且进行二次表面增透，膜基数为28微粒； 53.在所述的步骤三中，高洁净气体、高精油水分离处理器，特殊器具组合，高压分布水珠玻璃及亚克力表面； 54.在所述的步骤四中，真空镀膜机，高压物理反应纳米分子结构覆着表面膜层； 55.在所述的步骤五中，紫外线固化处理。2.根据权利要求1所述的一种玻璃、亚克力生产工艺，其特征是:在所述的步骤一中:采用超声波、红外线并晾干的工艺进行表面清洁处理。3.根据权利要求1所述的一种玻璃、亚克力生产工艺，其特征是:在所述的步骤四中，真空镀膜机为4-6Mpa的真空镀膜机。【专利摘要】<b>本专利技术公开了</b>一种玻璃、亚克力生产工艺，包括以下步骤：步骤一，素材选择及洁净处理；步骤二，底膜静电喷涂处理；步骤三，气体、高精油高压分布于玻璃、亚克力表面；步骤四，真空镀膜机表面膜层处理；步骤五，紫外线固化；其中在所述的步骤一中，选择玻璃、亚克力透明材料为素材，且表面高洁净化清洁表面，并进行表面静电处理；其中在所述的步骤二中，底膜静电喷涂处理，采用红外线流平，紫外线380-850mj/光固结效，且进行二次表面增透，膜基数为28微粒；<b>该</b>玻璃、亚克力生产工艺，整体工艺简单，易于实现，效率高。【IPC分类】C08J7/04, C08J7/00, C08J3/28【公开号】CN105418951【申请号】CN201510899332【专利技术人】吕潜锋 【申请人】吕潜锋【公开日】2016年3月23日【申请日】2015年12月9日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃、亚克力生产工艺，包括以下步骤：步骤一，素材选择及洁净处理；步骤二，底膜静电喷涂处理；步骤三，气体、高精油高压分布于玻璃、亚克力表面；步骤四，真空镀膜机表面膜层处理；步骤五，紫外线固化；S1.其中在所述的步骤一中，选择玻璃、亚克力透明材料为素材，且表面高洁净化清洁表面，并进行表面静电处理；S2.其中在所述的步骤二中，底膜静电喷涂处理，采用红外线流平，紫外线380‑850mj/光固结效，且进行二次表面增透，膜基数为28微粒；S3.在所述的步骤三中，高洁净气体、高精油水分离处理器，特殊器具组合，高压分布水珠玻璃及亚克力表面；S4.在所述的步骤四中，真空镀膜机，高压物理反应纳米分子结构覆着表面膜层；S5.在所述的步骤五中，紫外线固化处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕潜锋，
申请(专利权)人：吕潜锋，
类型：发明
国别省市：湖北;42