描绘装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供描绘装置，该描绘装置具有：描绘台，其载置基板；曝光描绘部，其与上述描绘台相对地进行移动，将图案描绘在该描绘台上的基板上，在该描绘装置中，形成在基板上的对准标记的位置误差小且不会使基板的平面精度受损。描绘装置在上述描绘台上设有多个基准标记以及被确定了相对于上述各基准标记的位置的多个标记形成单元，上述多个基准标记用于设定相对于上述曝光描绘部的位置基准，上述多个标记形成单元将对准标记形成在载置于该描绘台上的基板的反面上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在电子电路基板、LCD用玻璃基板、PDP用玻璃基板等平面基板的正反两面上描绘图案的描绘装置。
技术介绍
近年来，在市场上兴起了直接曝光装置(描绘装置)，在该直接曝光装置(描绘装置)中，不使用转印掩模，而是向基板的正反两面直接照射相互确定了位置关系的描绘光来描绘图案。在该双面曝光的情况下，当对正面(第1面)进行图案曝光时(或曝光之前)，在反面(第2面)上曝光(形成)多个对准标记，在将基板的正反翻转而进行的对第2面的图案曝光时，以形成在第2面上的对准标记为基准来确定图案曝光位置(专利文献1、2)。具体而言，对准标记采用了不足φ2mm的圆形图案、十字等指标，一般情况下，对准标记在所要曝光的基板的角部，以光学方式设置为利用了光致抗蚀剂的自显色性的像(自显色像)。专利文献1：日本特开2009－294337号公报专利文献2：日本特开2013－213852号公报然而，专利文献1和2的描绘装置具备相对于载置基板的描绘台可移动的标记形成单元(对准标记形成单元、标记曝光装置)，使标记形成单元相对于描绘台(载置在其上的基板)移动而在基板反面上形成了对准标记。因此，可能会由于标记形成单元的移动机构的无法避免的机械误差而包含对准标记的位置误差。如果对准标记的形成位置存在误差，则第2面的描绘图案与第1面的描绘图案不能正确地匹配。另外，在实施描绘面的伸缩等缩放校正时，导致实施了与实际的基板伸缩不同的校正。另外，现有装置必须设置能够相对于描绘台进行位置调节的标记形成单元，因此无法避免装置整体的大型化。另外，在专利文献2中，为了使标记形成单元移动，在描绘台正面设置了标记形成单元的退避部(槽部)。因此，在该退避部处无法支承基板反面，有可能对图案的描绘精度(基板的平面精度)造成不良影响。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于获得一种形成在基板上的对准标记的位置误差小且不会使基板的平面精度受损的描绘装置。本专利技术是着眼于以下情况而完成的：确定了在现有的描绘装置中，标记形成单元可相对于载置基板的描绘台进行移动是产生对准标记形成位置的误差的原因，只要在描绘台内设置在载置于该描绘台上的基板反面上直接形成对准标记的形成单元，就能够防止误差的发生。即，本专利技术的描绘装置具有：描绘台，其载置基板；以及曝光描绘部，其与上述描绘台相对地进行移动，将图案描绘在该描绘台上的基板上，上述描绘装置的特征在于，在上述描绘台上，设有多个基准标记以及被确定了相对于上述各基准标记的位置的多个标记形成单元，上述多个基准标记用于设定相对于上述曝光描绘部的位置基准，上述多个标记形成单元将对准标记形成在载置于该描绘台上的基板的反面上。上述描绘台例如由台主体以及位于该台主体上的盖板构成，上述标记形成单元可由下述部分构成：贯穿设置在上述盖板上的至少一个贯通孔；以及由上述台主体支承的标记形成光源，上述标记形成光源从上述贯通孔射出标记形成光。可以在上述盖板上贯穿设置多个形成上述标记形成单元的上述贯通孔，上述台主体可具备标记形成光源，上述标记形成光源向上述多个贯通孔中的被选择的贯通孔射出标记形成光。具体而言，上述基准标记以及标记形成单元可以位于载置在上述描绘台上的基板的周缘部的相对的两边，且各自配备有一对。上述曝光描绘部可以具备对上述基准标记及对准标记进行拍摄的摄像单元。而且，能够利用根据上述摄像单元所拍摄的基准标记位置信息而设定的坐标系，执行对上述基板正面的图案描绘，能够利用根据上述摄像单元所拍摄的对准标记位置信息而设定的坐标系，执行将上述基板的正反翻转后进行的对基板反面的图案描绘。在一个实施方式中，上述基准标记是来自可见光源的光点标记。在本专利技术中，载置基板的描绘台具备将对准标记形成在基板反面上的标记形成单元，因此，对准标记形成位置不会产生机械的误差因素(标记形成单元的移动误差等)。根据本专利技术，能够以简单的结构来高精度地进行在基板正反面描绘的图案的位置对准。另外，能够确保描绘台正面的平滑，直到周边部为止，都能够以同样均匀的高平面性吸附保持所载置的基板。附图说明图1是示出本专利技术的描绘装置的整体结构的立体图。图2是示出图1的描绘装置的描绘台的一个实施方式的分解立体图。图3是该描绘台的俯视图。图4是沿着图3的IV－IV线的剖视图。图5是在基板的正面(第1面)上进行描绘时的示意性俯视图。图6是在基板的反面(第2面)上进行描绘时的示意性俯视图。标号说明100：描绘装置；11：基座；15：描绘台；15c：抽吸连接器；15r：凹部；15v：抽吸孔；15P：盖板；15Q：台主体；17：基板压件；18：控制装置；19：真空源；20：光源部；30：曝光描绘部；41：基准标记；41h：基准标记孔；41j：基准标记形成光源；41k：反射元件；42：标记形成单元；42h：对准标记孔；42j：对准标记形成光源；43：电路基板；AC：对准摄像机(摄像单元)；AM：对准标记；W：基板。具体实施方式图1是本专利技术的描绘装置100整体的结构概念图。描绘装置100具备基座11、从基座11的两侧部竖立设置的门12以及被支承在该门12上的曝光描绘部30。基座11上配置有描绘台15，描绘台15载置了在正反面涂覆有感光性材料的基板W。该描绘台15例如能够借助直线电机移动单元而沿着导轨14在X方向上进行移动。下面，将水平面内与X方向垂直的方向设为Y方向，将垂直面内与X方向垂直的方向设为Z方向。在曝光描绘部30的前表面上设置有沿Y方向延伸的滑动件13，在滑动件13上，以在Y方向上隔开的方式设置有一对对准摄像机(摄像单元)AC。滑动件13通过直线电机驱动或步进电机驱动，将对准摄像机AC移动至Y方向的任意位置处。曝光描绘部30具备光源部20。光源部20由具有相同内部结构的2个光源部20a及光源部20b构成。由于光源部20a与光源部20b为相同的结构，因此以光源部20a为代表进行说明。光源部20a由UV灯21、第1全反射镜22、聚光透镜23、第2全反射镜24、复眼透镜25及光圈(aperture)(未图示)构成。光源部20a具备UV灯21，从UV灯21射出混合存在365nm至440nm的各种波长的紫外光。从UV灯21射出的紫外光被椭圆镜26向天空方向(+Z轴方向)照射，其方向被第1全反射镜22改变为水平方向，在通过聚光透镜23会聚之后，其方向被第2全反射镜24改变为地面方向(－Z轴方向)。改变了方向的紫外光经过复眼透镜25及光圈而成为分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种描绘装置，其具有：描绘台，其载置基板；以及曝光描绘部，其与上述描绘台相对地进行移动，将图案描绘在该描绘台上的基板上，上述描绘装置的特征在于，在上述描绘台上，设有多个基准标记以及被确定了相对于各上述基准标记的位置的多个标记形成单元，上述多个基准标记用于设定相对于上述曝光描绘部的位置基准，上述多个标记形成单元将对准标记形成在载置于该描绘台上的基板的反面上。

【技术特征摘要】
2014.08.27 JP 2014-1723631.一种描绘装置，其具有：描绘台，其载置基板；以及曝光描绘部，其与上述
描绘台相对地进行移动，将图案描绘在该描绘台上的基板上，上述描绘装置的特征在
于，
在上述描绘台上，设有多个基准标记以及被确定了相对于各上述基准标记的位置
的多个标记形成单元，上述多个基准标记用于设定相对于上述曝光描绘部的位置基
准，上述多个标记形成单元将对准标记形成在载置于该描绘台上的基板的反面上。
2.根据权利要求1所述的描绘装置，其特征在于，
上述描绘台具有台主体以及位于该台主体上的盖板，上述标记形成单元由下述部
分构成：贯穿设置在上述盖板上的至少一个贯通孔；以及由上述台主体支承的标记形
成光源，上述标记形成光源从上述贯通孔射出标记形成光。
3.根据权利要求2所述的描绘装置，其特征在于，
在上...

【专利技术属性】
技术研发人员：山贺胜，清水修一，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP