一种电化学抛光中的支架旋挂装置制造方法及图纸

技术编号:12968480 阅读:93 留言:0更新日期:2016-03-03 15:11
本实用新型专利技术的实施例提供了一种电化学抛光中的支架旋挂装置,该支架旋挂装置包括:用于旋挂待抛光支架的导电丝;分别位于待抛光支架两侧的第一导电杆和第二导电杆;第一绝缘固定管,可滑动地套设于第一导电杆上,且第一绝缘管底部靠近待抛光支架的一侧设置有第三凹槽,第一导电杆底部远离待抛光支架的一侧外露于第一绝缘固定管;第二绝缘固定管,可滑动地套设于第二导电杆上,且第二绝缘管底部靠近待抛光支架的一侧设置有第四凹槽,第二导电杆底部远离待抛光支架的一侧外露于第二绝缘固定管;连接部,与第一导电杆的顶部和第二导电杆的顶部均与连接部连接,本实用新型专利技术的实施例能在支架的抛光过程中,减少电解液的电解。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及医用器材领域,特别涉及一种电化学抛光中的支架旋挂装置
技术介绍
目前,在心血管疾病治疗中,介入支架治疗是解决心血管狭窄、提高病人生存几率、提高病人生存质量和生存时间的有效方法。但是,影响支架与血液相容性的主要因素为支架的表面粗糙度。支架的粗糙度越大,暴露在血液中的面积越大,凝血的可能性越大。支架抛光方法能降低支架的粗糙度,目前通常采用的是电化学抛光方法。电化学抛光方法是在支架的抛光过程中,支架上导通电流作为电解过程阳极,在电解液中置放其它金属材料作为抛光阴极,抛光阴极一般处于电解槽的远端。在抛光过程中,利用电解液作为抛光离子载体,去除支架表面一层较为粗糙的金属层。相对于金属机械加工方法来说,电化学抛光更加均匀,材料表面更加圆润。所以,电化学抛光过程是制作支架工艺过程中的重要组成部分之一。但是现有技术在使用电化学抛光方法抛光支架的过程中,由于用于旋挂支架的结构中的辅助导电挂具和电解液接触部位过多,导致电解液被其电解。
技术实现思路
本技术实施例的目的在于提供一种电化学抛光中的支架旋挂装置,能在支架的抛光过程中,减少电解液的电解。为了达到上述目的,本技术的实施例提供了一种电化学抛光中的支架旋挂装置,包括:用于旋挂待抛光支架的导电丝;分别位于待抛光支架两侧的第一导电杆和第二导电杆,导电丝的第一端穿设于设置在第一导电杆的底部的第一凹槽且外露于第一凹槽,导电丝的第二端穿设于设置在第二导电杆的底部的第二凹槽且外露于第二凹槽;第一绝缘固定管,可滑动地套设于第一导电杆上,且第一绝缘管底部靠近待抛光支架的一侧设置有第三凹槽,第一导电杆底部远离待抛光支架的一侧外露于第一绝缘固定管;第二绝缘固定管,可滑动地套设于第二导电杆上,且第二绝缘管底部靠近待抛光支架的一侧设置有第四凹槽,第二导电杆底部远离待抛光支架的一侧外露于第二绝缘固定管;连接部,与用于带动支架旋挂装置运动的驱动装置连接,且第一导电杆的顶部和第二导电杆的顶部均与连接部连接,其中,第一绝缘固定管和第二绝缘固定管朝第一方向移动时,第三凹槽的顶部与和第四凹槽的顶部均与导电丝卡接,第一绝缘固定管和第二绝缘固定管朝第二方向移动时,第三凹槽的顶部和第四凹槽的顶部均与导电丝分离。可选地,导电丝的第一端外露于第一凹槽的长度大于5毫米。可选地,导电丝的第二端外露于第二凹槽的长度大于5毫米。可选地,第一导电杆和第二导电杆均采用具有铱钽涂层的钛材制成。可选地,连接部包括:第一固定柱、第二固定柱和连接杆,第一导电杆的顶部与第一固定柱连接,第二导电杆的顶部与第二固定柱连接,第一固定柱和第二固定柱均与连接杆连接。可选地,第一固定柱、第二固定柱和连接杆均采用铜质材料制成。可选地,支架旋挂装置还包括:套设于导电丝上的第一绝缘环和第二绝缘环,且第一绝缘环位于第一绝缘固定管与待抛光支架之间,第二绝缘环位于第二绝缘固定管与待抛光支架之间。可选地,第一绝缘环和第二绝缘环的长度均小于3毫米。可选地,第一绝缘环与待抛光支架之间的第一距离值和第二绝缘环与待抛光支架之间的第二距离值的和值的范围为2?5毫米。本技术的上述方案有如下的有益效果:在本技术的实施例中,当对待抛光支架进行电化学抛光时,第一绝缘固定管和第二绝缘固定管会使得第一导电杆和第二导电杆不会大面积地与电解液接触,从而减少电解液的电解。【附图说明】图1为本技术实施例中电化学抛光中的支架旋挂装置的结构示意图之一;图2为本技术实施例中图1的A-A向剖面图。附图标记说明:1、待抛光支架;2、导电丝;3、第一导电杆;4、第二导电杆;5、第一绝缘固定管;6、第二绝缘固定管;7、第一固定柱;8、第二固定柱;9、连接杆;10、第一绝缘环;11、第二绝缘环。【具体实施方式】下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反,提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。如图1?图2所示,本技术的实施例提供了一种电化学抛光中的支架旋挂装置,该支架旋挂装置包括:用于旋挂待抛光支架I的导电丝2 ;分别位于待抛光支架I两侧的第一导电杆3和第二导电杆4,导电丝2的第一端穿设于设置在第一导电杆3的底部的第一凹槽且外露于第一凹槽,导电丝2的第二端穿设于设置在第二导电杆4的底部的第二凹槽且外露于第二凹槽;第一绝缘固定管5,可滑动地套设于第一导电杆3上,且第一绝缘管底部靠近待抛光支架I的一侧设置有第三凹槽,第一导电杆3底部远离待抛光支架I的一侧外露于第一绝缘固定管5 ;第二绝缘固定管6,可滑动地套设于第二导电杆4上,且第二绝缘管底部靠近待抛光支架I的一侧设置有第四凹槽,第二导电杆4底部远离待抛光支架I的一侧外露于第二绝缘固定管6 ;连接部,与用于带动支架旋挂装置运动的驱动装置连接,且第一导电杆3的顶部和第二导电杆4的顶部均与连接部连接。在本技术的实施例中,上述待抛光支架I是一种介入医疗器械,例如可吸收血管支架等。在本技术的实施例中,上述驱动装置可以采用现有技术中的任意一种(例如电机等)实现,在此不再赘述。在本技术的实施例中,可以通过切除一部分第一绝缘固定管5 (例如第一绝缘固定管5底部的2/3)的方式使第一导电杆3底部远离待抛光支架I的一侧外露于第一绝缘固定管5,同理,可以通过切除一部分第二绝缘固定管6(例如第二绝缘固定管6底部的2/3)的方式使第二导电杆4底部远离待抛光支架I的一侧外露于第二绝缘固定管6。而外露于第一绝缘固定管5的第一导电杆3和外露于第二绝缘固定管6的第二导电杆4可以用来吸收待抛光支架I端头的电流,避免电化学中的“尖端效应”。在本技术的实施例中,上述待抛光支架I可以套设旋挂在上述导电丝2上。且该导电丝2的第一端外露于第一凹槽的长度大于5毫米,导电丝2的第二端外露于第二凹槽的长度大于5毫米。需要说明的是,导电丝2的第一端外露于第一凹槽的部分和导电丝2的第二外露于第二凹槽的部分也可以用来吸收待抛光支架I端头的电流,避免电化学中的“尖端效应”。可以理解的是,导电丝2的第一端外露于第一凹槽的长度以及导电丝2的第二端外露于第二凹槽的长度都可以根据实际需要进行调整。其中,“尖端效应”是指在电化学体系中位于导电的尖端部位,电流比较集中。本技术使得在整个抛光过程中,不需要辅助阳极,不存在待抛光支架I和辅助金属阳极触碰导致待抛光支架I报当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电化学抛光中的支架旋挂装置,其特征在于,包括:用于旋挂待抛光支架(1)的导电丝(2);分别位于所述待抛光支架(1)两侧的第一导电杆(3)和第二导电杆(4),所述导电丝(2)的第一端穿设于设置在所述第一导电杆(3)的底部的第一凹槽且外露于所述第一凹槽,所述导电丝(2)的第二端穿设于设置在所述第二导电杆(4)的底部的第二凹槽且外露于所述第二凹槽;第一绝缘固定管(5),可滑动地套设于所述第一导电杆(3)上,且所述第一绝缘管底部靠近所述待抛光支架(1)的一侧设置有第三凹槽,所述第一导电杆(3)底部远离所述待抛光支架(1)的一侧外露于所述第一绝缘固定管(5);第二绝缘固定管(6),可滑动地套设于所述第二导电杆(4)上,且所述第二绝缘管底部靠近所述待抛光支架(1)的一侧设置有第四凹槽,所述第二导电杆(4)底部远离所述待抛光支架(1)的一侧外露于所述第二绝缘固定管(6);连接部,与用于带动所述支架旋挂装置运动的驱动装置连接,且所述第一导电杆(3)的顶部和所述第二导电杆(4)的顶部均与所述连接部连接,其中,所述第一绝缘固定管(5)和所述第二绝缘固定管(6)朝第一方向移动时,所述第三凹槽的顶部与和所述第四凹槽的顶部均与所述导电丝(2)卡接,所述第一绝缘固定管(5)和所述第二绝缘固定管(6)朝第二方向移动时,所述第三凹槽的顶部和所述第四凹槽的顶部均与所述导电丝(2)分离。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:高洪亮赵迎红吕轲郭承年
申请(专利权)人:易生科技北京有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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